适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物制造技术

技术编号:2744672 阅读:218 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种式(Ⅰ)表示的盐,其中,X表示含有至少一个二价脂环族烃基的C3-C30二价基团,并且在所述C3-C30二价基团中的至少一个-CH↓[2]-可以被-O-或-CO-取代;Y表示可以被选自C1-C6烷氧基、C1-C4全氟烷基、C1-C6羟烷基、羟基和氰基中的至少一个基团取代的C3-C30环烃基,并且在所述C3-C30环烃基中的至少一个-CH↓[2]-可以被-O-或-CO-取代;Q↑[1]和Q↑[2]各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基,并且A↑[+]表示有机抗衡离子。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及以下方面 <1>一种式(I)表示的盐 其中,X表示含有至少一个二价脂环族烃基的C3-C30二价基团,并且在所述C3-C30二价基团中的至少一个-CH2-可以被-O-或-CO-取代,Y表示可以被选自C1-C6烷氧基、C1-C4全氟烷基、C1-C6羟烷基、羟基和氰基中的至少一个基团取代的C3-C30环烃基,并且在C3-C30环烃基中的至少一个-CH2-可以被-O-或-CO-取代, Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基,并且A+表示有机抗衡离子; <2>根据<1>所述的盐,其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或三氟甲基; <3>根据<1>或<2>所述的盐,其中所述有机抗衡离子是选自下列阳离子中的至少一种阳离子, 式(IIa)所示阳离子 其中P1、P2和P3各自独立地表示可以被选自羟基、C3-C12环烃基和C1-C12烷氧基中的至少一个取代的C1-C30烷基;或者可以被选自羟基和C1-C12烷氧基中的至少一个取代的C3-C30环烃本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种式(Ⅰ)表示的盐:    A↑[+-]O↓[3]S*CO↓[2]-X-Y  (Ⅰ)    其中,X表示含有至少一个二价脂环族烃基的C3-C30二价基团,并且在所述C3-C30二价基团中的至少一个-CH↓[2]-可以被-O-或-CO-取代,    Y表示可以被选自C1-C6烷氧基、C1-C4全氟烷基、C1-C6羟烷基、羟基和氰基中的至少一个基团取代的C3-C30环烃基,并且在所述C3-C30环烃基中的至少一个-CH↓[2]-可以被-O-或-CO-取代,    Q↑[1]和Q↑[2]各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基,并且A↑[+]表示有机抗衡离子。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:重松淳二吉田勋原田由香子末次益实
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:JP[]

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