图案修改装置制造方法及图纸

提供能方便地校正目标位置与涂敷位置的位置偏移的图案修改装置。此图案修改装置（１）在进行更新校正值的校正模式时，对镜（５１）的测试区（５１ａ）的目标位置（Ｐ１）涂敷修改墨（４９），根据涂墨前后的测试区（５１ａ）的图像，检测出实际涂敷修改墨（４９）的涂敷位置（Ｐ２），从而检测出目标位置（Ｐ１）与涂敷位置（Ｐ２）的位置偏移量，并根据其检测结果，更新校正值。因而，图案修改装置（１）本身更新校正值，因此操作者不必进行校正作业。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及图案修改装置，尤其涉及修改基板上形成的微细图案的缺陷部 的图案修改装置。
技术介绍
液晶显示装置(LCD)的制造工序中，作为基板上形成的微细图案的滤色片产 生各种缺陷。全部废弃产生缺陷的基板，成品率降低，因此使用修改缺陷的图 案修改装置。此图案修改装置在滤色片产生白缺陷(脱色部)时，利用定位装置 使涂敷针移动到白缺陷的上方，并使涂敷针的前端部附着修改墨后，让涂敷针 上下移动，对白缺陷涂敷修改墨(例如参考专利文献1)。 参考专利文献l:日本国特开平9一236933号公报然而，已有的图案修改装置中，交换涂敷针的情况下，由于安装误差或尺 寸误差的影响，有时不能在目标位置涂敷。因此，交换涂敷针时，给定位装置 提供目标位置的坐标，使涂敷针移动，对虚设基板的表面涂敷修改墨，用观察 光学系统观察目标位置与实际涂敷修改墨的涂敷位置的位置偏移，并校正目标 位置的坐标，以消除该位置偏移。因而，存在此校正作业费时和费事的问题。此外，即使在交换涂敷针时进行校正作业，也发生随着气温变动或装置本 身的温度变动，构成装置的金属部件产生伸縮，目标位置与涂敷位置的位置偏 移。因此，本专利技术的主要目的在于提供一种能方便地校正目标位置与涂敷位置 的位置偏移的图案修改装置。
技术实现思路
本专利技术的图案修改装置，修改基板上形成的微细图案的缺陷部，其中具有:使修改液附着在涂敷针的前端部，并使该涂敷针上下移动，以便在缺陷部涂敷 修改液用的修改液涂敷单元；按照位置指令信号，使修改液涂敷单元对基板相 对移动的定位单元；根据应涂敷修改液的目标位置的坐标和校正涂敷针的偏移 用的校正值，产生位置指令信号，以便使修改液涂敷在目标位置的控制单元； 以及校正单元，该校正单元在进行更新校正值的校正模式时，给控制单元提供 所述目标位置的坐标，使修改液涂敷在虚设基板的表面，检测出目标位置与实 际涂敷修改液的涂敷位置的位置偏移量，并根据其检测结果，更新校正值。 最好校正单元在规定的周期执行校正模式。而且，最好具有在规定的周期对操作者通知应执行校正模式的信息的通知 单元，校正单元根据所述操作者的执行所述校正模式的指示执行所述校正模 式。又，最好校正单元在利用涂敷针涂敷修改液的前后，拍摄虚设基板表面的 图像，对涂敷前后的图像进行比较，提取亮度不一致的不一致部分，并将提取 的不一致部分的重心位置判定为涂敷位置。而且，最好校正单元在利用涂敷针涂敷修改液的前后，拍摄虚设基板表面 的图像，对涂敷前后的图像进行比较，提取亮度不一致的不一致部分，并将提 取的不一致部分的外接长方形的中心判定为涂敷位置。又，最好虚设基板是镜，并且校正单元进行反射照明，并拍摄镜的图像。而且，最好校正单元将虚设基板的表面划分成多个区，选择与上次的校正 模式时选择的区域不同的区域，并将选择的区域内的坐标作为目标位置的坐标 供给控制单元。本专利技术的图案修改装置，设置使修改液附着在涂敷针的前端部，并使该涂 敷针上下移动，以便在缺陷部涂敷修改液用的修改液涂敷单元；按照位置指令 信号，使修改液涂敷单元对基板相对移动的定位单元；根据应涂敷修改液的目 标位置的坐标和校正涂敷针的偏移用的校正值，产生位置指令信号，以便使修 改液涂敷在目标位置的控制单元；以及校正单元，该校正单元在进行更新校正 值的校正模式时，给控制单元提供所述目标位置的坐标，使修改液涂敷在虚设 基板的表面，检测出目标位置与实际涂敷修改液的涂敷位置的位置偏移量，并根据其检测结果，更新校正值。因而，校正单元执行校正模式，因此操作员不 必进行校正作业。附图说明图1是示出一本专利技术实施方式的图案校正装置的总体组成的立体图。 图2是示出作为图1所示图案修改装置的修改对象的滤色片的图。 图3是示出图1所示观察光学系统和激光器部的组成的图。 图4是示出图1所示涂墨机构的组成的立体图。图5(a) (c)是示出图4所示涂墨机构的动作的图。图6(a) (f)是示出图2所示异物缺陷的修改方法的图。图7是示出图1所示图案修改装置的校正模式启动方法的流程图。图8是示出图1中装载在吸盘台的镜的图。图9是示出图8所示镜的使用方法的图。图IO是示出图l所示图案修改装置的校正模式的流程图。图11是示出图8所示测试区涂墨后的图像的图。图12(a) (c)是示出求涂墨位置的方法的图。标号说明l是图案修改装置，2是观察光学系统，3是监视器，4是切割用激光器部， 5是涂墨机构，6是墨硬化用光源，7是图像处理部，8是主计算机，9是控制 用计算机，IO是XY台，ll是吸盘台，12是Z台，15是滤色片，16是黑阵， 17是R像素，18是G像素，19是B像素，19a是孔，20是白缺陷，21是黑 缺陷，22是异物缺陷，23是可变缝隙，24是成像透镜，25、 26是半透明反射 镜，27是物镜，28是反射光源，29是CCD相机，31是涂敷针，31a是平坦面， 32是涂敷针驱动汽缸，33是驱动轴，34是涂敷针夹具，35是固定座，36是旋 转台，37 40是墨箱，41是洗净装置，42是气洗装置，43是旋转轴，44是切 口部，45是分度用电动机，46是分度板，47是分度用传感器，48是原点返回 用传感器，49是修改墨，50是异物，51是镜，51a是测试区，Pl是目标位置， P2是涂敷位置，52是不一致部分。具体实施例方式图1是示出一本专利技术实施方式的图案修改装置的总体组成的图。图1中， 图案修改装置l具有观察基板的表面的观察光学系统2;放映所观察的图像 的监视器3;通过观察光学系统2对基板照射激光，并切割不需要的部分的切 割用激光器部4;使修改墨附着于涂敷针前端，并涂敷在基板的缺陷部的涂墨 机构5;使涂敷在缺陷部的修改墨硬化的硬化用光源6;识别缺陷部和涂墨位 置的图像处理部7;控制整个装置的主计算机8;以及控制装置机构部的动作 的控制用计算机9。此外，还设置使具有缺陷部的基板往XY方向(水平方向)移动的XY台10;在XY台上保持基板的吸盘台11、以及使观察光学系统2或 涂墨机构5往Z方向(垂直方向)移动的Z台12等。XY台10用于由涂墨机构5将修改墨涂敷在缺陷部时、或由观察光学系统 2观察基板表面时等情况下，使基板相对移动到适当位置。图1所示的XY台 10具有将2个单轴工作台叠置在垂直方向上的结构。但是，此XY台10只要 能使基板对观察光学系统2和涂墨机构5相对移动就可以，不限于图l所示的 XY台10的结t勾。近年，随着基板规模的大型化，采用许多可分别在X轴方向 和Y轴方向独立移动的龙门型XY台。图2是示出成为修改对象的LCD的滤色片15的图。图2中，滤色片15包 含在玻璃基板(未图示)的表面上形成的成为黑阵16的栅格状图案；以及多组的 R(红)像素17、 G(绿)像素18和B(蓝)像素19。滤色片15的制造工序中，产生 像素或黑阵16脱色造成的白缺陷20、与相邻像素彩色相混或黑阵16溢出到像 素造成的黑缺陷21、或者像素中附着异物造成的异物缺陷22等。图3是示出观察光学系统2和切割用激光器部4的组成的图。图3中，处 在激光器部4的紧下方的可变缝隙23被设在成像透镜24的焦点位置，用于形 成激光加工形状。在成像透镜24的下方设置半透明反射镜25、 26，又在该反 射镜下方设置物镜27。可设置倍率不同的多个物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图案修改装置，修改基板上形成的微细图案的缺陷部，其特征在于，具有使修改液附着在涂敷针的前端部，并使该涂敷针上下移动，以便在所述缺陷部涂敷所述修改液用的修改液涂敷单元；按照位置指令信号，使所述修改液涂敷单元对所述基板相对移 动的定位单元；根据应涂敷所述修改液的目标位置的坐标和校正所述涂敷针的位置偏移用的校正值，产生所述位置指令信号，以便使所述修改液涂敷在所述目标位置的控制单元；以及校正单元，该校正单元在进行更新所述校正值的校正模式时，给所述控制 单元提供所述目标位置的坐标，使所述修改液涂敷在虚设基板的表面，检测出所述目标位置与实际涂敷所述修改液的涂敷位置的位置偏移量，并根据其检测结果，更新所述校正值。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：大庭博明，
申请(专利权)人：NTN株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]