基于热压印技术的金属材料反射式微光学元件加工方法技术

基于热压印技术的金属材料反射式微光学元件加工方法，涉及微光学元件制作技术；该方法制作具有多台阶或连续浮雕结构特征的反射式微光学元件包括以下五个步骤：①应用微细加工技术制备用于热压印的压模；②应用热压印将压模的浮雕结构压印到聚合物薄片上；③在具有表面浮雕结构的聚合物表面蒸镀金属层；④应用电铸技术进行支撑结构加工，材料与蒸镀金属一致；⑤将聚合物剥离。本发明专利技术所得到的反射式微光学元件为单一金属材料，在高温等恶劣的工作环境下具有高稳定性，高强度、高硬度、高抗辐射损伤阈值的特点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微光学元件制作方法，涉及一种基于热压印技术的金属材料反射 式微光学元件加工方法。
技术介绍
以w耀光栅与微镜阵列为代表的反射式微光学元件因其许多卓越的、传统光 学难以具备的功能而被广泛研究和应用。基于热压印技术制作反射式微光学元件具有工艺简单、速度快、重复性好、 费用低、产率高等优点，可以实现批量生产。热压印(Hot Embossing L他ography,HEL)是纳米压印技术的一个分支，由 Stephen Y. Chou于1995年首次提出并提出专利申请，参见专利US5772905 "Nanoimprint lithography ，，<>美国麻省理工大学的Chih-Hao Chang等人在2003-2004年公开纳米压印制作 锯齿形W耀光栅的方法(l. C. H. Chang, et al. Fabrication of Saw-tooth Diffraction Gratings Using Nanoimprint Lithography. Vacuum Science and Technology B. 2003, 21:2755-2759 2.本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于热压印技术的金属材料反射式微光学元件加工方法，该方法制作具有多台阶或连续浮雕结构特征的反射式微光学元件包括以下步骤：①应用微细加工技术制备用于热压印的压模；②应用热压印将压模的浮雕结构压印到聚合物薄片上；其特征在于该方法还包括以下三个步骤：③在具有表面浮雕结构的聚合物表面蒸镀金属层；④应用电铸技术进行支撑结构加工，材料与蒸镀金属一致；⑤将聚合物剥离。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金鹏，高育龙，朱鹏，谭久彬，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：93[中国|哈尔滨]