印相显影装置制造方法及图纸

一种印相显影装置，结构上具有能进行由施加于以往控制条上的规定条件构成的基准曝光的构件、作显影处理后密度测定的构件以及根据测定结果提示处理液状态的构件。备有基准曝光用负片，还具有控制部，进行通常印相时和基准曝光时的光源转换，测定基准曝光后处理所得的感光材料密度，并根据测定结果运算、判断和显示处理液状态。如此获得能简便进行液体管理的构件，实现印相显影处理的简化和质量提高。（*该技术在2014年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及进行感光材料的印相、显影处理的印相显影装置。特别是关于确认处理液状态，进行处理液体管理的装置。以往，进行感光材料的印相、显影处理的印相显影装置由曝光部、显影处理部、干燥部等构成，并且装有作各部控制命令的CPU的印相显影装置已普及。在自动进行处理的过程中，感光材料的显影处理过程要仔细地注意处理液管理。印相显影装置的显影处理部处理液管理先对专称为控制条的感光材料进行显影，再根据密度测定的结果等进行处理液的疲劳度等的确认。控制条是在规定的光强、曝光时间、光质等特定基准曝光条件下，向具有稳定重现性的印相纸进行曝光的未显影纸条。控制条需要在黑暗中处理，所以先在暗室中将其装填于称为固定架的暗箱后再处置。在印相显影装置内至显影处理部的引入处分别安放固定架。这样，印相显影装置中历来的处理液体管理方法，是根据用固定架使控制条显影后所得结果而进行的。然而，因固定架旨在遮光，所以收容固定架的机构复杂，装填操作也麻烦。将固定架装在印相显影装置时，为了做到完全遮光，带来操作烦琐，为了确认处理液的状态，必须停止一般的印相操作，将装填有控制试条的固定架装在印相显影装置内部。作为处理液管理的指南，控制条必须采用在规定基准曝光条件下曝光的纸条，所以和通常的印相过程分开进行曝光。以往的控制条必须对使用相印显影装置的过程预先准备单独制造件。由于装填控制条、设置固定架的操作烦琐，又需特意准备控制条作液体管理用的材料，因此往往不进行这种采用控制条的处理液管理。仅根据处理频度、印相显影装置的工作时间、所得照片质量等，凭着所谓熟练产生的直觉进行处理液管理。此种情况下，有可能因错误判断而处理液管理不当，造成显影处理质量下降。这就要求对装置操作相当熟练，因而有悖处理的简化和自动化的愿望。本专利技术的目的是在印相显影装置上获得能简便地进行处理液管理的构件，谋求印相处理的简化和质量提高。为解决上述课题，本专利技术使印相显影装置结构具有能进行施加以往控制条上的规定条件构成的基准曝光的构件、作显影处理后密度测定的构件以及根据测定结果提示处理液状态的构件，省去控制条和固定架。以下根据表示一实施例的附图，详细说明本专利技术印相显影装置。附图说明图1是表示本专利技术印相显影装置一例的剖面概况图。构件有曝光部1、显影处理部2、密度测定部3、负片4、感光材料5、控制部6、监视器7、灯11、透镜12、快门13、截断器14和密度计15。曝光部1中，用基准胶片作负片4，且使灯11、透镜12、快门13为基准设定，对负片4进行基准曝光。经基准曝光的感光材料，由显影处理部2显影处理后，以密度测定部3的密度计测定其密度。测得的数值，作为处理液状态是否在规定使用范围内的数据显示于监视器7上。现说明基准设定。以往，印相显影装置所用的在规定条件(光强、曝光时间、特定光质)下曝光而未显影的感光材料，一直采用控制条。让该控制条通过处理液，根据其呈现的色彩确认处理液的状态。形成控制条的规定条件下的曝光为基准曝光。让用于实现基准曝光的快门、透镜、灯等按基准条件设定。图2中示出本专利技术印相显影装置所用基准负片一例说明图。基准负片是进行基准曝光时用的特定负片，如图所示，具有已知密度，为白W、灰G、黑B三级。图3是表示本专利技术印相显影装置的曝光部一例的斜视概况图，图4和图5是表示本专利技术印相显影装置曝光部一例的放大说明图。图3所示的曝光部构件为基准负片8、印相用底片9、画面窗口10、马达16、皮带轮17、皮带18、底片传送辊19、底片罩20、框架M。图4和图5表示曝光部中的基准负片8、印相用底片9、画面窗口10、底片罩20。如图3上所示，印相用底片9靠底片传送辊19连续传送。将装有基准负片8的框架M作固定的皮带18，通过皮带轮17由马达16驱动，在曝光位置与避光位置之间移动。底片罩20处于避光位置时，曝光部为图4所示那样。如图中以箭号和虚线所示，印相用底片9被传送至横截画面窗口10的后面。基准负片8备于框架8上，一旦揿操作板的基准曝光按钮，就从避光位置开始滑动，并调整到画面窗口10内的曝光位置。基准负片8处于曝光位置时，如图5所示。为了获得基准曝光所需光源，备有与通常印相用光源不同的基准曝光专用光源，并使之自动转换，或者也可与通常印相用光源共用，在基准曝光时，使光源电压等自动设定成基准曝光。图6表示本专利技术印相显影装置的光源一例说明图。图中符号分别为以下含义。21基准曝光专用灯，22通常印相用灯，27马达，28皮带。分别备有通常印相用光源和基准曝光专用光源时，例如图示那样，将装有基准曝光专用灯21和通常印相灯22的皮带28，用马达27进行驱动，做成根据操作板的指示自动转换光源。通常印相用光源和基准曝光用光源共用时，必须调整得光源合适，满足基准曝光条件。图7表示本专利技术印相显影装置的光源另一例的剖面概况图。图中符号分别为以下含义。11灯，23机械快门，24快门驱动部，25调光滤光器，26滤光器驱动部，29控制部。例如在图示结构的光源上设控制部，用传感器探测灯的光通量、色温，将灯电压，调光滤光器自动控制成正确值。调光滤光器，让YMC滤色镜介于光路中调整曝光色。图8是表示本专利技术印相显影装置控制部一例的方框图。其组成包括进行基准曝光时根据键盘输入进行光源转换和曝光条件控制的部分以及根据基准曝光后获得的浓度测定数据进行处理液状态运算和显示的部分。以细线表示的各框图是进行通常印相时，根据负片判断结果的数据及键盘输入，设定曝光条件的控制部分。图9为表示本专利技术印相显影装置控制程序一例的流程图。若选择基准曝光，则转换光源并调整、确认，设定曝光时间后，执行曝光。通过测定所得纸条的密度，进行处理液状态的运算，将该结果显示后结束程序。细线所示各框图是通常印相的控制程序。图10是本专利技术印相显影装置一例中监视器画面说明图。对应监视器画面的处理液状态显示，例如可如图所示，示出规定使用范围的上限下限各数值和检查时的测定值，以及可否使用。如上所述，本专利技术印相显影装置具有用和以往预先施加于控制条上的相同曝光条件进行曝光的基准曝光构件、对由基准曝光所得纸条进行测定的密度计以及运算所测结果后提示和判断处理液状态的构件。本专利技术装置能以和通常印相显影操作一样简单的操作确认和提示处理液状态。因此，不需要控制条和固定架，消除了装填控制条和安放固定架等带来的烦琐。由于不需要筹集特别材料作处理液管理，因此能有效地简化印相处理。图1是表示本专利技术印相显影装置一例的剖面概况图;图2是本专利技术印相显影装置所用的基准负片一例说明图;图3是表示本专利技术印相显影装置曝光部一例的斜视概况图;图4是表示本专利技术印相显影装置的曝光部一例的放大说明图;图5是表示本专利技术印相显影装置的曝光部一例的放大说明图;图6是本专利技术印相显影装置的光源一例的说明图;图7是本专利技术印相显影装置的光源另一例的剖面概况图;图8是表示本专利技术印相显影装置的控制部一例的方框图;图9是表示本专利技术印相显影装置的控制程序一列的流程图。图10是本专利技术的印相显影装置一例中监视器画面说明图。以下说明图中符号含义。1曝光部、2显影处理部、3密度测定部、4负片、5感光材料、6控制部、7监视器、8基准负片、9印相用底片、10画面窗口、11灯、12透镜、13快门、14截断器、15密度计、16马达、17皮带轮、18皮带、19本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种连续进行感光材料印相、显影处理的印相显影装置，其特征在于具有：具备处理液状态判断基准曝光条件的基准曝光构件、对以上述基准曝光构件作印相、显影处理的感光材料密度进行测定的密度测定构件、以及根据上述密度测定结果判断、显示处理液状态的判断显示构件。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：西田茂树，谷端透，
申请(专利权)人：诺日士钢机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]