字迹抗复印取样带制造技术

本实用新型专利技术涉及一种字迹抗复印取样带，其特征在于它包括基准带１，在基准带１两个边缘横向均匀分布的齿孔２，在基准带１中央等距分布的取样孔３，在每个取样孔３内的取样片４，在取样片４下方的衬垫片５以及在基准带１上取样孔３旁等距分布的定位孔６。使用本字迹抗复印取样带可以对一个检材能进行多人、多次鉴别，提高字迹书写年份鉴别的准确率。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种字迹抗复印取样带，其特征在于它包括基准带（１），在基准带（１）两个边缘横向均匀分布的齿孔（２），在基准带（１）中央等距分布的取样孔（３），在每个取样孔（３）内的取样片（４），在取样片（４）下方的衬垫片（５）以及在基准带（１）上取样孔（３）旁等距分布的定位孔（６）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：谭国清，
申请(专利权)人：谭国清，
类型：实用新型
国别省市：45[中国|广西]