医疗电子X射线摄影用卤化稀碱荧光体制造技术

本发明专利技术研究出了一种医用电子Ｘ射线摄影用卤化稀碱荧光体．叙述了真空蒸镀荧光体到硒基板上的工艺；它具有温度低，不必使用电子束流轰击等优点．（*该技术在2005年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本专利技术是一种适用于医疗电子X射线摄影用的荧光体。一般电子X射线摄影是根据半导体的光电特性和静电现象来提高电子摄影的图象，常用的电子X射线摄影用的荧光体为(Zn·Cd)S∶Ag或Cd2O2S∶Tb。但是，把它们真空蒸镀到硒极上却需要很高的温度，必需采用电子束流轰击才能实现真空蒸镀，用于生产存在着设备昂贵，电力消耗大，生产成本高等问题。此外，为提高软X射线的效率，采用含有活性溴化铷(Rubidium bromide)和卤化铊(Thalium halogenide)荧光体的X射线转换屏，其发光或荧光屏是用一定幅射能量激发含活化的卤化稀碱发光物质;其中RbBr∶Tl对软X线有很好的吸收和很好的发光效率。但是，这种荧光体因化学稳定性差目前仅用于X线增强管的玻璃质荧光屏。根据上述存在的问题，为开拓卤化稀碱荧光体在医疗电子X射线硒极摄影中的应用，本专利技术采用低熔点的卤化稀碱荧光体，其特点是先制成YX∶Z高亮度的主峰波长为560nm的宽谱带荧光体(其中Y一般为Cs;X为F、Cl、Br或I;Z为Tl或Eu2+，其发光光谱和光电导体的光谱灵敏曲线近于一致，有利于对X射线感光灵敏度的提高(见附图1)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种卤化稀碱荧光体，其特征是：医疗电子Ｘ射线摄影用卤化稀碱荧光体，采用先制成高亮度的荧光体，再真空蒸镀到硒感光基板上而成。

【技术特征摘要】
1.一种卤化稀碱荧光体其特征是医疗电子X射线摄影用卤化稀碱荧光体，采用先制成高亮度的荧光体，再真空蒸镀到硒感光基板上而成；2.按权利要求1所述高亮度、荧光体，其特征是制成YX∶Z高...

【专利技术属性】
技术研发人员：何喜庆，蒋昌武，吴琳，杜秀珍，陈纯，
申请(专利权)人：武汉大学，
类型：发明
国别省市：42[中国|湖北]