Ｘ射线图像变换片和辉尽性荧光体及其制造方法技术

对Ｘ射线图象变换片的改进及其制造方法，该方法包括：通过灰化去除荧光物质中所含的粘结剂以改进发光强度；烧结由石英片叠成的半成品以解决Ｘ射线图象变换片的翘曲；为了把荧光体原材料中所含的三价＿＿全变成两价＿＿最终改进发光强度在还原气体中至少加入氦；使用ＢａＣｌ－［２］－Ｏ＆ＸＢａＢｒ－［２］－ｙＣａＳｉｚＥｕ＋［２］＋等络合物来增中６５０～８５０ｎｍ波长范围内的发光强度，以便能使用半导体激光器作激励光。（*该技术在2009年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种Ｘ射线图像变换片，其特征在于：它是由特殊的Ｘ射线图像变换片制作方法制造的，这种方法包括下列工序，把至少包含碱土族金属的卤化物及Ｅｕ的卤化物的液态构成物涂在基板薄片上，形成上述构成物层；在还原性气体中烧制该构成的层；形成由２价 Ｅｕ激活卤化碱土族金属化合物组成的材料的辉尽性荧光体层。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：平野弘，岩信博，越野长明，
申请(专利权)人：富士通株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]