【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种应用Ｘ－射线曝光光热照相材料的图像形成方法，所述的光热照相材料在载体的至少一个表面具有包含至少光敏卤化银、非光敏有机银盐、银离子还原剂和粘合剂的图像形成层，在该方法中，使所述光热照相材料与包括荧光材料的荧光增强屏紧密接触，该荧光材料发射光，所述光的５０％或以上的波长为３５０ｎｍ或以上和４２０ｎｍ或以下。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山根胜敏，幸田胜博，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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