显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本申请提供一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域。其中，显示基板及其制备方法包括在衬底基板上形成图案化膜层，所述图案化膜层的第一表面具有凹坑部和非凹坑部；在所述图案化膜层的第一表面上形成平坦化层；其中，所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层背离所述衬底基板的表面。本申请技术方案能够解决现有技术中形成的平坦化层表面凹凸不平的技术问题。凹凸不平的技术问题。凹凸不平的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置


[0001]本申请涉及显示
，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置。

技术介绍

[0002]目前，随着科学技术的快速发展，各类显示装置逐渐发展起来，例如：液晶显示装置(Liquid Crystal Display，简称LCD)、有机电致发光二极管显示装置(Organic Light-Emitting Diode Display，简称OLED)。
[0003]无论是LCD显示装置还是OLED显示装置，在其制作过程中，常会形成平坦层，若平坦层的平整度不够，则像素内容易出现凹凸不平的现象，从而严重影响显示装置的性能。
[0004]以OLED显示装置为例，由于形成在衬底基板上的表面不平(例如薄膜晶体管所在位置相对其他位置可能略高)，这样在图案化膜层上形成平坦层时，不同位置处的平坦层的厚度不相同，而平坦层的厚度不同，其在干燥过程中的收缩比也会不同，通常时平坦层位于图案化膜层的凹陷部分的收缩比较大，进而会导致形成的平坦层出现凹凸不平的情况。

技术实现思路

[0005]本申请实施例的目的是提供一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置，以解决现有技术中形成的平坦化层表面凹凸不平的技术问题。
[0006]为解决上述技术问题，本申请实施例提供如下技术方案：
[0007]本申请第一方面提供一种显示基板的制备方法，该制备方法包括：
[0008]在衬底基板上形成图案化膜层，所述图案化膜层的第一表面具有凹坑部和非凹坑部；<br/>[0009]在所述图案化膜层的第一表面上形成平坦化层；
[0010]其中，所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层背离所述衬底基板的表面
[0011]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，在所述图案化膜层的第一表面上形成平坦化层，具体包括：
[0012]在所述凹坑部内形成第一平坦化层，所述第一平坦化层的厚度不大于所述凹坑部的深度；
[0013]在所述非凹坑部和所述第一平坦化层上形成第二平坦化层，以使所述第二平坦化层的平程度高于形成所述第一平坦化层后所述图案化膜层的第一表面的平整度；
[0014]其中，所述第一平坦化层的亲液性高于所述第二平坦化层的亲液性。
[0015]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，在所述凹坑部内形成第一平坦化层，具体包括：
[0016]利用狭缝涂布、旋涂或喷涂的工艺在所述图案化膜层的所述第一表面上形成第一平坦化薄膜；
[0017]对所述第一平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第一平坦化层；
[0018]去除位于所述非凹坑部的第一平坦化层，且至少保留部分位于所述凹坑部的所述第一平坦化层。
[0019]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，在所述凹坑部内形成第一平坦化层，具体包括：
[0020]利用打印的工艺在所述凹坑部内形成第一平坦化薄膜；
[0021]对所述第一平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第一平坦化层。
[0022]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，在所述非凹坑部和所述第一平坦化层上形成第二平坦化层，具体包括：
[0023]利用狭缝涂布、旋涂或喷涂的方法在所述非凹坑部和所述第一平坦化层上形成第二平坦化薄膜；
[0024]对所述第二平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第二平坦化层。
[0025]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，在所述非凹坑部上形成疏液层，以使所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性。
[0026]本申请第二方面提供一种显示基板，该显示基板包括：
[0027]衬底基板及设置于所述衬底基板上的图案化膜层，所述图案化膜层的第一表面具有凹坑部和非凹坑部；
[0028]平坦化层，所述平坦化层设置于所述图案化膜层的第一表面；
[0029]其中，所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层背离所述衬底基板的表面。
[0030]在本申请第二方面的一些变更实施方式中，所述平坦化层包括：
[0031]第一平坦化层，所述第一平坦化层设置于所述凹坑部内，且其厚度不大于所述凹坑部的深度；
[0032]第二平坦化层，所述第二平坦化层设置于所述非凹坑部和所述第一平坦化层上；
[0033]其中，所述第一平坦化层的亲液性高于所述第二平坦化层的亲液性。
[0034]在本申请第二方面的一些变更实施方式中，还包括：
[0035]疏液层，所述疏液层设置于所述非凹坑部上，以使所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性。
[0036]本申请第三方面提供一种显示面板，该显示面板包括：上述的显示基板。
[0037]本申请第四方面提供一种显示装置，该显示装置包括：上述的显示面板。
[0038]相较于现有技术，本申请提供的显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置，在衬底基板上形成图案化膜层后，通过将图案化膜层的第一表面的凹坑部的亲液性设置为高于非凹坑部的亲液性，亲液性较高的凹坑部会对液态下的平坦化层的材料产生吸引效果，使平坦化层优先填充至非凹坑部并呈现凸起状态，能够为凹坑部对应的平坦化层预留一定的收缩量，从而优化平坦化层表面的平整度，可有效解决现有技术中平坦化层在制作过程中出现凹凸不平的技术问题；在平坦化层上形成其他膜层时，确保了其他膜层的均匀性，从而使得从显示面板发出的光是均匀的，可改善显示面板的发光品质。
附图说明
[0039]通过参考附图阅读下文的详细描述，本申请示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本申请的若干实施方式，相同或对应的标号表示相同或对应的部分，其中：
[0040]图1示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的流程示意图；
[0041]图2示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的另一种流程示意图；
[0042]图3示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的步骤S1对应的结构示意图；
[0043]图4示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的步骤S21对应的结构示意图；
[0044]图5示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的步骤S22对应的一种状态下的结构示意图；
[0045]图6示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的步骤S22对应的另一种状态；
[0046]图7示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的结构示意图；
[0047]附图标号说明：
[0048]衬底基板1、图案化膜层2、凹坑部21、非凹坑部22、平坦化层3、第一平坦化层301、第二平坦化层302、阳极层4、像素定义层5。
具体实施方式
[0049]下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成图案化膜层，所述图案化膜层的第一表面具有凹坑部和非凹坑部；在所述图案化膜层的第一表面上形成平坦化层；其中，所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层背离所述衬底基板的表面。2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述图案化膜层的第一表面上形成平坦化层，具体包括：在所述凹坑部内形成第一平坦化层，所述第一平坦化层的厚度不大于所述凹坑部的深度；在所述非凹坑部和所述第一平坦化层上形成第二平坦化层，以使所述第二平坦化层的平程度高于形成所述第一平坦化层后所述图案化膜层的第一表面的平整度；其中，所述第一平坦化层的亲液性高于所述第二平坦化层的亲液性。3.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述凹坑部内形成第一平坦化层，具体包括：利用狭缝涂布、旋涂或喷涂的工艺在所述图案化膜层的所述第一表面上形成第一平坦化薄膜；对所述第一平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第一平坦化层；去除位于所述非凹坑部的第一平坦化层，且至少保留部分位于所述凹坑部的所述第一平坦化层。4.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述凹坑部内形成第一平坦化层，具体包括：利用打印的工艺在所述凹坑部内形成第一平坦化薄膜；对所述第一平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第一平坦化层。5.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述非凹坑部和所...

【专利技术属性】
技术研发人员：任文明，朱飞飞，贾文斌，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：