一种淋釉装置的减震机构制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种淋釉装置的减震机构，用于淋釉生产线的机架处，包括弹簧架和基座，基座底部设有缓冲垫层，基座上安装立柱，立柱下部连接若干弹簧架，立柱上横向固定有支撑杆，支撑杆下部设置淋釉机构，淋釉机构下设有传送带和承接槽，承接槽位于立柱上，所述的弹簧架为底部带压缩弹簧的支架，缓冲垫层为橡胶垫层，所述的基座位于立柱中部，弹簧架设于基座两侧，所述的弹簧架和基座的底部均与地面相接触。本装置的结构设计稳定，减震效果好，不会干扰淋釉工序。干扰淋釉工序。干扰淋釉工序。

【技术实现步骤摘要】
一种淋釉装置的减震机构


[0001]本技术涉及减震机构设计
，特别是涉及一种淋釉装置的减震机构。

技术介绍

[0002]在现有技术中，减震机构设计多种多样，一般采用减震弹簧进行减震，对于淋釉生产线而言，由于采用自动化流水生产线，整体工序多，各个机构较多，设置较多的减震弹簧，经济性不好，维护也不方便。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种淋釉装置的减震机构，其结构设计稳定，减震效果好，不会干扰淋釉工序。
[0004]为了达到上述目的，本技术采用的技术方案是：一种淋釉装置的减震机构，用于淋釉生产线的机架处，包括弹簧架和基座，基座底部设有缓冲垫层，基座上安装立柱，立柱下部连接若干弹簧架，立柱上横向固定有支撑杆，支撑杆下部设置淋釉机构，淋釉机构下设有传送带和承接槽，承接槽位于立柱上。
[0005]进一步的，如上所述的弹簧架为底部带压缩弹簧的支架，缓冲垫层为橡胶垫层。
[0006]进一步的，如上所述的基座位于立柱中部，弹簧架设于基座两侧。
[0007]进一步的，如上所述的弹簧架和基座的底部均与地面相接触。
[0008]进一步的，如上所述的承接槽的尺寸大于淋釉机构的工作区域，传送带用于输送待淋釉的产品，承接槽用于传送带上滴落的釉浆。
[0009]进一步的，如上所述的淋釉机构的管道固定于立柱上。
[0010]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本装置的结构设计稳定，减震效果好，不会干扰淋釉工序。
附图说明
[0011]图1为本技术的结构示意图。
[0012]附图中的标记为：1.立柱；2.基座；3.弹簧架；4.传送带；5.淋釉机构；6.缓冲垫层；7.支撑杆；8.承接槽。
具体实施方式
[0013]下面结合实施例参照附图进行详细说明，以便对本技术的技术特征及优点进行更深入的诠释。
[0014]如图1所示，本技术的一种淋釉装置的减震机构，用于淋釉生产线的机架处，包括弹簧架3和基座2，基座底部设有缓冲垫层6，基座上安装立柱1，立柱下部连接若干弹簧架，立柱上横向固定有支撑杆7，支撑杆下部设置淋釉机构5，淋釉机构下设有传送带4和承接槽8，承接槽位于立柱上，所述的弹簧架为底部带压缩弹簧的支架，缓冲垫层为橡胶垫层，
所述的基座位于立柱中部，弹簧架设于基座两侧，所述的弹簧架和基座的底部均与地面相接触。
[0015]进一步的，所述的承接槽的尺寸大于淋釉机构的工作区域，传送带用于输送待淋釉的产品，承接槽用于传送带上滴落的釉浆，所述的淋釉机构的管道固定于立柱上。
[0016]相较于改进前的淋釉设备安装，支架都必须用混凝土地基，立柱直接插转入地基内，安装和维护成本高。
[0017]本技术装置中，传送带和淋釉机构为现有技术或材料，所属的技术人员根据所需的产品型号和规格，可以直接从市面购买或者订做。
[0018]需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当元件被认为“安装在”另一个元件上，它可以直接安装在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
[0019]通过以上实施例中的技术方案对本技术进行清楚、完整的描述，显然所描述的实施例为本技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种淋釉装置的减震机构，用于淋釉生产线的机架处，其特征在于，包括弹簧架和基座，基座底部设有缓冲垫层，基座上安装立柱，立柱下部连接若干弹簧架，立柱上横向固定有支撑杆，支撑杆下部设置淋釉机构，淋釉机构下设有传送带和承接槽，承接槽位于立柱上。2.根据权利要求1所述的淋釉装置的减震机构，其特征在于，所述的弹簧架为底部带压缩弹簧的支架，缓冲垫层为橡胶垫层。3.根据权利要求2所述的淋釉装置的减震机构，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：李云黎，张刚，
申请(专利权)人：广东家美陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：