四氢呋喃溶剂干燥除水装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种四氢呋喃溶剂干燥除水装置，属于精细化工溶剂脱水领域。包括干燥除水装置本体，干燥除水装置本体外壁上连接有第一进料管、第二进料管和多个回流管，回流管内设有钠盒，干燥除水装置本体一侧贯穿设有出料口，干燥除水装置本体下端连接有底座，出料口设于底座的上端，底座下端固定连接有多组支撑腿，底座内开设有转槽，转槽内固定连接有轴承件，轴承件上转动连接有搅拌件，搅拌件上连接有电动机，干燥除水装置本体外侧设有控制箱。本实用新型专利技术通过干燥除水装置，可以使四氢呋喃在制备中产生的杂质水得到及时的清理，减小四氢呋喃由于含有杂质水对其后续使用的影响，不仅提高了四氢呋喃的脱水效率，也降低了其生产成本。其生产成本。其生产成本。

【技术实现步骤摘要】
四氢呋喃溶剂干燥除水装置


[0001]本技术属于四氢呋喃制备
，具体涉及四氢呋喃溶剂干燥除水装置。

技术介绍

[0002]四氢呋喃为格氏试剂或丁基锂反应的常见反应溶剂，沸点66℃，由于沸点较高，安全性远远超过乙醚，因而在精细化工和医药中间体领域具有非常广泛的应用。
[0003]四氢呋喃通常用于格氏试剂或锂化反应的溶剂，格氏试剂或锂化试剂本身为高活性物种，水份的存在对其反应活性或制备都影响很大。例如制备格氏试剂时，水份超标的四氢呋喃在格氏试剂制备时，不能进行有效引发，从而不能制备格氏试剂，实验室使用时都通常采用金属钠和二苯甲酮进行回流脱水。丁基锂参与的反应中，四氢呋喃溶剂中的水份会破坏掉该试剂，从而有效活性组分降低，需要加入更多的丁基锂试剂，从而工艺平行度受到影响。
[0004]在四氢呋喃溶剂存放时间较长，或是工业上回收的四氢呋喃中，水份超标时有发生，在使用前就需要进行脱水处理，至正常水份含量时(通常为0.03％)，方可继续使用，其中的水分如果没有及时处理的话，会降低其使用效率，增加使用者的生产成本。r/>[0005]因本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.四氢呋喃溶剂干燥除水装置，包括干燥除水装置本体(1)，其特征在于，所述干燥除水装置本体(1)外壁上连接有第一进料管(2)、第二进料管(3)和多个回流管(4)，所述回流管(4)内设有钠盒(5)，所述干燥除水装置本体(1)一侧贯穿设有出料口(6)，所述干燥除水装置本体(1)下端连接有底座(7)，所述出料口(6)设于底座(7)的上端，所述底座(7)下端固定连接有多组支撑腿(8)，所述底座(7)内开设有转槽(701)，所述转槽(701)内固定连接有轴承件(702)，所述轴承件(702)上转动连接有搅拌件(9)，所述搅拌件(9)上连接有电动机(10)，所述干燥除水装置本体(1)外侧设有控制箱(11)。2.根据权利要求1所述的四氢呋喃溶剂干燥除水装置，其特征在于，所述搅拌件(9)包括转轴(901)，所述转轴(901)上连接有驱动轴(902)，所述驱动轴(902)贯穿干燥除水装置本体(1)与...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁东飞，蒋道来，杨权，王放，张齐军，
申请(专利权)人：无锡科华生物科技有限公司，
类型：新型
国别省市：