使复制光线分布图最佳化的方法技术

一种在照相复制机中内，于复制照相原件的过程中，使复制光线分布图最佳化的方法，其中，本方法包括以下步骤：ａ）在光路中设置一个已知透射分布图的透明元件，令光线照射透过该元件以便测量复制光的分布图，或者在光路中不设置透明元件，从而，没有待复制的并具有未知透射分布图的照相原件存在于光路中，并进而特别为局部透射调制器提供一个透射分布图，ｂ）划分成很细的区域测量由步骤ａ）所产生的复制光，测量复制光的分布图并与所期望的复制光线分布图进行比较，ｃ）为将照相原件复制到复制材料上，根据步骤ｂ）中的比较，使对于各个复制过程所预选的透射分布图最佳化。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在照相复制机中于复制照相原件过程中使照相复制品的复制光线分布图最佳化的方法，以及具有用于将照相原件复制到光敏材料上的最佳化的复制光线分布图的照相复制机。本申请特别是涉及在一个复制机中，该复制机包括一个局部透视调制器，例如一个液晶矩阵。本专利技术进一步涉及在一个照相复制机中使用这种局部透视调制器以达到最佳化。用于复制照相原件且特别是透明原件如底片(正片，负片)的复制机设备是公知的，如参见DE 4308864、DE 4040498或DE 19703063。这些文献中描述的复制机采用一个LC矩阵(液晶矩阵)以便对曝光过程中使用的复制光线产生影响。LC矩阵用于使复制件的某些区域变亮或变暗，以便按所需的方式控制照相原件的复制件。LC矩阵的控制所根据的蒙片取源于照相原件并因此由各自的图象数据而定。在复制设备中采用高照度装置和光学传导装置如反光镜、椭圆镜、透镜、光阑、滤光片、混光器、快门等以便使尽可能不变的复制光分布图(它意味着复制光的强度或复制光密度)尽可能最佳地照射原件。但实际上，所达到的复制光线分布图不是最佳化的。例如，这可能是由于光传导装置不十分协调或者由于光传导装置使复制光发生不希望的改变所引起的。例如，有可能出现环形结构。本申请的专利技术人注意到，在一个相应的复制机的操作过程中，一个局部透射调制器，如一个LC矩阵或者一个可控散射矩阵，不仅可用于根据一个给定的原件对复制件进行控制，同时还可用以对一个特定的复制机的复制性能进行改进，而与将要分别复制的原件无关。本专利技术的目的是提供一种方法和设备，采用这种方法和设备可以使在一个复制设备中的复制光线分布图达到最佳化。进而，根据本专利技术，采用一个局部透射调制器以达到这种最佳化。本专利技术的目的通过如下特征来达到一种在照相复制机中内，于复制照相原件的过程中，，其中该复制机至少包括以下部分一个为复制过程产生复制光线的光源，一系列光学光导装置，用于将复制光线沿着光路从光源经过照相复制原件导向一个复制材料并照射透过照相原件同时将透过原件的光投影到光敏复制材料上；以及一个局部透射调制器，在复制光对复制材料曝光之前，借助光导装置使复制光通过该调制器，该调制器的透射率是局部可控的，以便产生一个透射分布图，该调制器的透射分布图是根据待复制的照相原件为复制过程预先选定的，本方法包括以下步骤a)在光路中设置一个已知透射分布图的透明元件，令光线照射透过该元件以便测量复制光的分布图，或者在光路中不设置透明元件，从而没有待复制的并具有未知透射分布图的照相原件存在于光路中，并进而特别为局部透射调制器提供一个透射分布图，b)划分成很细的区域测量由步骤a)所产生的复制光，测量复制光的分布图并与所期望的复制光线分布图进行比较，c)为将照相原件复制到复制材料上，根据步骤b)中的比较，使对于各个复制过程所预选的透射分布图最佳化。一种照相复制机，它具有用于将照相原件复制到光敏材料上的最佳化的复制光线分布图，该复制机包括一个用于产生复制过程中使用的复制光线的光源，一系列光学光导装置，用于将复制光线沿光路从光源经照相原件导向复制材料，并用于照射透过照相原件同时将透过照相原件的光线投影到光敏复制材料上，以及一个局部透射调制器，借助光传导装置在复制光照射到复制材料上之前，将复制光导向通过该局部透射调制器，该调制器的透射率是局部可控制的以便根据一个透射矩阵产生一个透射分布图，以及一个计算单元，该单元由一个存储的补偿矩阵和一个为复制过程预选的复制矩阵的结合计算出所述透射矩阵，其中，补偿矩阵是这样确定的，使得利用一个特定的原件和一个相关的特定复制矩阵在复制材料上生成一个具有所需亮度分布图的复制件。一个局部透射调制器在照相晒图机中的用途，其中，局部透射调制器用于根据待复制的照相原件控制复制件的亮度分布图，该局部透射调制器进一步用于以如下方式使复制光线的分布图最佳化，即，当在待复制的照相原件不在光路中时，产生一个所期望的复制光线分布图或者生成一个复制平面。根据从属权利要求，优选实施例是显而易见的。十分有利的是，利用复制设备中已有的局部透射调制器可以使复制光分布图实现成本低效果大的最佳化，从而可使用于校准光学元件的价格昂贵的最佳化过程得以简化。同时，它进一步使得采用具有大加工公差的廉价光学元件成为可能，因为可利用根据本专利技术的方法补偿由这些偏差引起的不均匀性。根据本专利技术的方法可应用于例如欧洲专利申请号99101595.9和美国、日本、加拿大及中国的相应专利申请中所述的照相复制机中，上述专利公开在本申请中引用为参考文献。这种复制机设备利用至少一个光源，例如卤素灯或LED(发光)二极管，产生复制光。所产生的复制光在复制机设备中通过一系列光学光导装置，例如通过快门、透镜、反射镜、半透射镜、光束分光器、透镜、漫射器、棱镜等，沿着光束路径(光学轴)经照相原件被导向复制材料。在光线到达照相原件之前，最好通过一个均匀化装置如散射圆盘，使光线变得均匀。照相原件是透明的，例如可以是一个负片或一个正片。复制材料如是一张照相纸。使光线透过照相原件，将透过原始图象的光投射到复制材料上。当复制光线分布图具有所希望的形状时，则认为该复制光线分布图是最佳化的。复制光线分布图最好以如下方式(在复制平面内)形成，即，当照相原件是基于一个均匀的(例如均匀灰色)图象的照相记录(例如用一个照相机)产生的情况下，照相原件复制的结果产生一个均匀的复制件(例如均匀的灰色)。假如照相记录是完美的话，则照相原件也将是均匀的，因此人们也将期望获得一个均匀的复制光线分布图。但是，照相机的透镜会使曝光强度从中心起向边缘降低。从而，只有当不仅能够降低由光传导装置引起的复制光线离散而且至少能够部分地补偿这种曝光强度的下降时，才认为一个复制光线分布图是最佳的。由一个照相机所记录的均匀照片从而被一个至少近似均匀的复制体所复制。在一个照相复制设备中，一个局部透射调制器最好位于原件的邻近处，或置于其前面或置于其后面。复制光通过该局部透射调制器。局部透射调制器可改变其透射性能，它最好是电控的。这种透射性变化最好是在空间上详细划分开来(局部)发生的，这意味着在不同的位置(透射调制器的元件)处可调制成不同的透射性。如结合现有技术所述的那样，在透射调制器上调制成一个特定的透射分布图，以便为复制一个照相原件根据原件的图象数据控制复制件的亮度分布图。这种透射分布图在以后将称作用于复制过程中的透射分布图。根据现有技术，如果不打算进行复制件处理，预选一个均匀的透射分布图。在现有技术中，它相当于如当照相原件是一个均匀照片的情形。按照根据本专利技术的过程，根据一个给定的(真实的)和一个所期望的(标称的)复制光线分布图来改变局部透射调制器的用于复制过程的预选的透射分布图。复制光线分布图例如可被描述为复制光强度的分布图或者复制光的光学密度，或者复制光的照度或者这些变量的函数。在复制一个假定是代表一个均匀的图片的原件的过程中，透射分布图以如下的方式改变，使得复制件的不均匀性被除掉或至少是将其减弱。为以使复制光线分布图最佳化的方式来改变透射分布图，需要几个步骤。首先，在一个复制设备中必须测量给定的复制光线分布图。这种复制光分布图与所使用的光学元件(光源；光传导装置；光散射装置，例如LC矩阵，散射圆盘；光吸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在照相复制机中内，于复制照相原件的过程中，使复制光线分布图最佳化的方法，其中该复制机至少包括以下部分：一个为复制过程产生复制光线的光源，一系列光学光导装置，用于将复制光线沿着光路从光源经过照相复制原件导向一个复制材料并照射透过照 相原件同时将透过原件的光投影到光敏复制材料上；以及一个局部透射调制器，在复制光对复制材料曝光之前，借助光导装置使复制光通过该调制器，该调制器的透射率是局部可控的，以便产生一个透射分布图，该调制器的透射分布图是根据待复制的照相原件为复制过 程预先选定的，本方法包括以下步骤：ａ）在光路中设置一个已知透射分布图的透明元件，令光线照射透过该元件以便测量复制光的分布图，或者在光路中不设置透明元件，从而没有待复制的并具有未知透射分布图的照相原件存在于光路中，并进而特别为局部透射 调制器提供一个透射分布图，ｂ）划分成很细的区域测量由步骤ａ）所产生的复制光，测量复制光的分布图并与所期望的复制光线分布图进行比较，ｃ）为将照相原件复制到复制材料上，根据步骤ｂ）中的比较，使对于各个复制过程所预选的透射分布图最佳化。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：瓦尔特克拉夫特，马克斯纽斯保梅尔，
申请(专利权)人：戈莱泰格成像贸易股份公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]