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一种高纯石墨坩埚的制备方法技术

技术编号:27318474 阅读:14 留言:0更新日期:2021-02-10 09:55
本发明专利技术公开了一种高纯石墨坩埚的制备方法,包括以下步骤:S1.取待提纯石墨坩埚,于2800℃以上,且真空条件下,进行高温提纯反应;S2.采用纯化气体A,于温度Ⅰ条件下,进行气热提纯Ⅰ反应;S3.采用纯化气体A和纯化气体B,于温度Ⅱ条件下,进行气热提纯Ⅱ反应;S4.采用纯化气体A和纯化气体B,于温度Ⅲ条件下,进行气热提纯Ⅲ反应,得到高纯石墨坩埚。本发明专利技术采用先进行高温提纯处理,然后再进行分阶段气热提纯处理的方法,使石墨坩埚达到较高的纯度,灰分和关键杂质含量都可以控制在一定范围内,采用该石墨坩埚制备的碳化硅单晶材料的缺陷明显下降,单晶的生长质量大大提高。单晶的生长质量大大提高。

【技术实现步骤摘要】
一种高纯石墨坩埚的制备方法


[0001]本专利技术属于石墨材料提纯
,具体涉及了一种高纯石墨坩埚的制备方法。

技术介绍

[0002]目前,物理气相传输法(PVT法)是生长碳化硅单晶最成熟的方法。在PVT法碳化硅单晶生长过程中,通常采用碳化硅源粉做原料,其生长装置由石墨坩埚和在坩埚外部包裹的保温材料组成。非故意杂质的掺入不仅容易在晶体生长过程中引入缺陷,而且增加了高性能碳化硅单晶的生长难度。因此,该石墨坩埚必须采取合理的提纯工艺满足灰分和关键杂质含量要求。
[0003]该石墨坩埚采用等静压石墨制备,然后进行提纯处理,国内的提纯技术水平有限,通常高纯石墨坩埚产品的灰分都是在100ppm左右,而在高性能碳化硅单晶领域,高纯坩埚的灰分需要控制在20ppm以下。为了进一步提高石墨坩埚纯度,需要提出一种新型提纯方法,以满足高性能碳化硅单晶的生长需求。
[0004]高温法是现有技术中对石墨进行提纯的一种重要方法,相对于酸碱提纯法、氢氟酸法等提纯效果更好,适合用于对纯度有特殊要求的石墨产品,如专利CN201811405260.1公开了一种高纯石墨粉及其制备方法,其采用气热提纯和高温提纯相结合,可获得纯度较高的高纯石墨粉。但是,石墨坩埚相对于石墨粉,其体积大,杂质元素种类多且含量高,气体渗透困难,采用该方法也无法获得符合该行业的使用要求的石墨坩埚。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的就是为克服现有石墨坩埚提纯工艺的缺陷,提供一种专门用于SiC单晶生长系统中高纯石墨坩埚的制备方法,将石墨坩埚灰分含量控制在20ppm以内,有效解决高纯石墨坩埚的提纯难题。
[0006]本专利技术的目的是以下述技术方案实现的:
[0007]一种高纯石墨坩埚的制备方法,包括以下步骤:
[0008]S1.高温提纯:取待提纯石墨坩埚,于2800℃以上,且真空条件下,进行高温提纯反应;
[0009]S2.气热提纯Ⅰ:采用纯化气体A,于温度Ⅰ条件下,对步骤S1提纯后的石墨坩埚,进行气热提纯Ⅰ反应;
[0010]S3.气热提纯Ⅱ:采用纯化气体A和纯化气体B,于温度Ⅱ条件下,对步骤S2提纯后的石墨坩埚,进行气热提纯Ⅱ反应;
[0011]S4.气热提纯Ⅲ:采用纯化气体A和纯化气体B,于温度Ⅲ条件下,对步骤S3提纯后的石墨坩埚,进行气热提纯Ⅲ反应,得到高纯石墨坩埚;
[0012]所述温度Ⅰ为1820~2000℃,所述温度Ⅱ为2420~2600℃,所述温度Ⅲ为2620~2800℃,所述纯化气体A为含氯气体,所述纯化气体B为含氟气体;
[0013]步骤S2~S4在目标温度条件下,包括多次气体循环步骤,所述气体循环步骤包括
通入新鲜的纯化气体、保压以及抽出纯化气体步骤。
[0014]优选的,步骤S1所述高温提纯反应时间为10h以上。
[0015]优选的,步骤S1在高温提纯设备中进行,将待提纯的石墨坩埚置于高温提纯设备中,先进行抽真空处理,直至压力为-50~-100KPa,然后升温至2800℃以上,再保温10h以上。
[0016]优选的,步骤S2~S4在气热提纯设备中进行,将步骤S1高温提纯后的石墨坩埚置于气热提纯设备中,先进行抽真空处理,再升温,升至目标温度时,通入纯化气体进行提纯,且采用纯化气体提纯过程中,通入纯化气体保压一段时间,抽真空处理,排出纯化气体后,再通入新鲜的纯化气体进行保压,循环此操作,直至步骤S3在温度Ⅲ条件下提纯结束。
[0017]优选的,步骤S2所述温度Ⅰ条件下,所述纯化气体A在压力5KPa以上的总保压时间为2.5h以上;步骤S3所述温度Ⅲ条件下,所述纯化气体A和所述纯化气体B在压力5KPa以上的总保压时间为1h以上;步骤S4所述温度Ⅲ条件下,所述纯化气体A和所述纯化气体B在压力5KPa以上的总保压时间为5h以上。
[0018]优选的,步骤S2反应条件为:将步骤S1提纯后的石墨坩埚置于气热提纯设备中,先进行抽真空处理,至压力为-50~-100KPa后,然后升温,至温度Ⅰ时,停止抽真空,开始通入纯化气体A,气流量为150~250L/h,直至通入的气体绝对压力值为5KPa以上时停止,保压0.5~2h,然后于0.5h内抽真空至-50~-100KPa,循环步骤S1中通纯化气体过程,保持温度Ⅰ总循环时间>5h。
[0019]优选的,步骤S3反应条件为:将步骤S2提纯后的石墨坩埚继续抽真空至-50~-100Kpa,升温,至温度Ⅱ时,停止抽真空,通入所述纯化气体A和所述纯化气体B,所述纯化气体A和所述纯化气体B的气流量均为150~250L/h,直至通入的纯化气体绝对压力值为5KPa以上时停止,保压0.5~2h,然后于0.5h内抽真空至-50~-100KPa,循环步骤S3中通纯化气体过程,保持温度Ⅰ总循环时间>3h。
[0020]优选的,步骤S4反应条件为:将步骤S3提纯后的石墨坩埚继续抽真空至-50~-100Kpa,升温,升温至温度Ⅲ时,停止抽真空,通入所述纯化气体A和所述纯化气体B,所述纯化气体A和所述纯化气体B的气流量
[0021]均为150~250L/h,直至通入的纯化气体绝对压力值为5KPa以上,保压0.5~2h,然后于0.5h内抽真空至-50~-100KPa,循环步骤S4中通纯化气体过程,保持温度Ⅲ总循环时间>10h。
[0022]优选的,进行气热提纯Ⅲ反应后还包括步骤S5,所述步骤S5为:停止提纯操作,持续抽真空,开始降温,至温度Ⅳ1200~1600℃后,保持101.5~110KPa压力降温至室温,得到高纯石墨坩埚。
[0023]本专利技术采用先进行高温提纯处理,然后再进行分阶段气热提纯处理的方法,使石墨坩埚达到较高的纯度,灰分和关键杂质含量都可以控制在一定范围内,采用该石墨坩埚制备的碳化硅单晶材料的缺陷明显下降,单晶的生长质量大大提高。
具体实施方式
[0024]一种高纯石墨坩埚的制备方法,包括以下步骤:
[0025]S1.高温提纯:取待提纯石墨坩埚,于2800℃以上,且真空条件下,进行高温提纯反
应;
[0026]S2.气热提纯Ⅰ:采用纯化气体A,于温度Ⅰ条件下,对步骤S1提纯后的石墨坩埚,进行气热提纯Ⅰ反应;
[0027]S3.气热提纯Ⅱ:采用纯化气体A和B,于温度Ⅱ条件下,对步骤S2提纯后的石墨坩埚,进行气热提纯Ⅱ反应;
[0028]S4.气热提纯Ⅲ:采用纯化气体A和B,于温度Ⅲ条件下,对步骤S3提纯后的石墨坩埚,进行气热提纯Ⅲ反应,得到高纯石墨坩埚;
[0029]步骤S1~S4均在密闭隔绝空气条件下进行,温度Ⅰ为1820~2000℃,温度Ⅱ为2420~2600℃,温度Ⅲ为2620~2800℃,纯化气体A为含氯气体,纯化气体B为含氟气体;
[0030]步骤S2~S4在目标温度条件下,包括多次气体循环步骤,所述气体循环步骤包括通入新鲜的纯化气体、保压以及抽出纯化气体步骤。
[0031]待提纯的石墨坩埚首先经过2800℃以上高温进行本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高纯石墨坩埚的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1.高温提纯:取待提纯石墨坩埚,于2800℃以上,且真空条件下,进行高温提纯反应;S2.气热提纯Ⅰ:采用纯化气体A,于温度Ⅰ条件下,对步骤S1提纯后的石墨坩埚,进行气热提纯Ⅰ反应;S3.气热提纯Ⅱ:采用纯化气体A和纯化气体B,于温度Ⅱ条件下,对步骤S2提纯后的石墨坩埚,进行气热提纯Ⅱ反应;S4.气热提纯Ⅲ:采用纯化气体A和纯化气体B,于温度Ⅲ条件下,对步骤S3提纯后的石墨坩埚,进行气热提纯Ⅲ反应,得到高纯石墨坩埚;所述温度Ⅰ为1820~2000℃,所述温度Ⅱ为2420~2600℃,所述温度Ⅲ为2620~2800℃,所述纯化气体A为含氯气体,所述纯化气体B为含氟气体;步骤S2~S4在目标温度条件下,包括多次气体循环步骤,所述气体循环步骤包括通入新鲜的纯化气体、保压以及抽出纯化气体步骤。2.如权利要求1所述的高纯石墨坩埚的制备方法,其特征在于,步骤S1所述高温提纯反应时间为10h以上。3.如权利要求2所述的高纯石墨坩埚的制备方法,其特征在于,步骤S1在高温提纯设备中进行,将待提纯的石墨坩埚置于高温提纯设备中,先进行抽真空处理,直至压力为-50~-100KPa,然后升温至2800℃以上,再保温10h以上。4.如权利要求1所述的高纯石墨坩埚的制备方法,其特征在于,步骤S2~S4在气热提纯设备中进行,将步骤S1高温提纯后的石墨坩埚置于气热提纯设备中,先进行抽真空处理,再升温,升至目标温度时,通入纯化气体进行提纯,且采用纯化气体提纯过程中,通入纯化气体保压一段时间,抽真空处理,排出纯化气体后,再通入新鲜的纯化气体进行保压,循环此操作,直至步骤S3在温度Ⅲ条件下提纯结束。5.如权利要求4所述的高纯石墨坩埚的制备方法,其特征在于,步骤S2所述温度Ⅰ条件下,所述纯化气体A在压力5KPa以上的总保压时间为2.5h以上;步骤S3所述温度Ⅲ条件下,所述纯化气体A和所述纯化气体B在压力5KPa以上的总保压时间为1h以上;步骤...

【专利技术属性】
技术研发人员:戴煜吴建许鹏王艳艳
申请(专利权)人:南昌大学
类型:发明
国别省市:

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