光学装置以及投影机制造方法及图纸

技术编号:2731819 阅读:130 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
光学装置(44),具备:形成有在内部封入冷却流体的冷却室,并可相对于冷却室内的冷却流体进行热传导地保持光调制元件的光调制元件保持体(4402);与光调制元件保持体(4402)的冷却室相通连接,将冷却流体向冷却室外部导引,并再次导引到冷却室内部的多个流体循环部件(448);以及配置在多个流体循环部件(448)的冷却流体的流路中,蓄积冷却流体的主箱(445);其中,在主箱(445)上,形成有可向内部补充冷却流体的冷却流体注入部。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学装置以及投影机
技术介绍
以往,已知有具备将从光源射出的光束按照图像信息进行调制而形成光学图像的多个光调制装置、将由各光调制装置调制的光束合成然后射出的色合成光学装置、放大投影由色合成光学装置合成的光束的投影光学装置的投影机。其中,作为光调制装置,例如,一般采用在1对基板间密闭封入有液晶等电光学材料的有源矩阵驱动方式的光调制元件。具体的说,构成该光调制元件的1对基板,由配置在光束射出侧、形成有用于向液晶施加驱动电压的数据线、扫描线、开关元件、像素电极等的驱动基板,和配置在光束入射侧、形成有共通电极、黑掩膜(ブラツクマスク)等的相对基板构成。另外,在该光调制元件的光束入射侧以及光束射出侧,分别配置有使具有规定的偏振轴的光束透过的入射侧偏振板以及射出侧偏振板。在此,在从光源射出的光束照射在光调制元件上的情况下,由于由液晶层产生的光吸收,以及形成在驱动基板上的数据线以及扫描线、形成在相对基板上的黑矩阵等的光吸收,光调制元件的温度容易升高。另外,在从光源射出的光束、以及透过光调制元件的光束中,没有规定的偏振轴的光束,被入射侧偏振板以及射出侧偏振板吸收,容易在偏振板上产本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学装置,它是包括将从光源射出的光束按照图像信息进行调制而形成光学图像的光调制元件而构成的光学装置,其特征在于,具备:形成有在内部封入冷却流体的冷却室,且可相对于所述冷却室内的冷却流体进行热传导地保持所述光调制元件的光调制元件保 持体;与所述光调制元件保持体的冷却室相通连接,将所述冷却流体向所述冷却室外部导引,并再次向所述冷却室内部导引的多个流体循环部件;以及配置在所述多个流体循环部件的所述冷却流体的流路中,蓄积所述冷却流体的冷却流体蓄积部; 在所述冷却流体蓄积部上,形成有可向内部补充所述冷却流体的冷却流体注入部。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:藤森基行村田雅巳
申请(专利权)人:精工爱普生株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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