光学防伪元件及光学防伪产品制造技术

本发明专利技术实施例提供一种光学防伪元件及光学防伪产品，属于光学防伪领域。所述光学防伪元件，包括：基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面，并且所述基材的至少部分区域是透明的；以及依次沉积于所述第一表面上的第一半反半透镀层、介质层和第二半反半透镀层，其中，所述第一半反半透镀层的折射率与消光系数的比值与所述第二半反半透镀层的折射率与消光系数的比值不同。从第一表面观察时，元件呈现较为鲜艳的第一颜色；从第二表面观察时，元件呈现较为鲜艳的第二颜色；当透视观察时，元件呈现第三颜色；分别从第一表面和第二表面观察，当倾斜上述光学防伪元件时，呈现颜色变化的效果。化的效果。化的效果。

【技术实现步骤摘要】
光学防伪元件及光学防伪产品


[0001]本专利技术涉及光学防伪领域，具体地，涉及一种光学防伪元件及光学防伪产品。

技术介绍

[0002]人眼对颜色以及颜色的变化十分敏感，能够分辨出两种颜色之间细小的差别，因而颜色变化作为一种光学防伪要素是一种效率极高的防伪特征。基于颜色和颜色变化的光学防伪元件已经作为重要的光学防伪特征，应用于钞票防伪、品牌保护等多种领域。该种防伪元件通过光学原理，能够实现颜色的变化，即当倾斜光学防伪元件时，该光学防伪元件中的颜色随着观察角度的变化而发生变化。这种颜色的变化十分容易辨识，并且无需对使用者进行大量的教育。为了实现上述颜色变化，可以利用“法布里-珀罗”干涉器的原理，采用“吸收层/介质层/反射层”的结构，形成颜色随观察角度变化而变化的光变镀层。在倾斜时，上述镀层或光学防伪元件的光学颜色发生变化，因此上述结构以及相应的产品也可统称为“光变膜”。
[0003]具有倾斜时颜色变化的光变膜作为防伪手段已经应用于安全线、宽条和防伪标等多种方式。
[0004]然而传统的光变膜结构中，由于反射层的存在，导致只能在吸收层一侧观察到颜色信息，而在光变膜的另一侧，即反射层一侧，只能观察到反射层的白色，这种情况限制了光变膜的观察方式和颜色的变化。

技术实现思路

[0005]本专利技术实施例的目的是提供一种光学防伪元件及光学防伪产品，其在双面观察时能够提供不同的防伪特征。
[0006]为了实现上述目的，本专利技术实施例提供一种光学防伪元件，包括：基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面，并且所述基材的至少部分区域是透明的；以及依次沉积于所述第一表面上的第一半反半透镀层、介质层和第二半反半透镀层，其中，所述第一半反半透镀层的折射率与消光系数的比值与所述第二半反半透镀层的折射率与消光系数的比值不同。
[0007]相应的，本专利技术实施例还提供一种光学防伪元件的制作方法，包括：提供基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面，并且所述基材的至少部分区域是透明的；以及在所述第一表面上依次沉积第一半反半透镀层、介质层和第二半反半透镀层，其中，所述第一半反半透镀层的折射率与消光系数的比值与所述第二半反半透镀层的折射率与消光系数的比值不同。
[0008]本专利技术实施例提供的上述光学防伪元件或者由上述制作方法制作的光学防伪元件具有以下防伪效果：从上述光学防伪元件第一表面观察时，上述光学防伪元件呈现较为鲜艳的第一颜色；从上述光学防伪元件第二表面观察时，上述光学防伪元件呈现较为鲜艳的第二颜色；当透视观察上述光学防伪元件时，上述光学防伪元件呈现第三颜色；分别从第
一表面和第二表面观察，当倾斜上述光学防伪元件时，所述光学防伪元件呈现颜色变化的效果，即光变效果。
[0009]相应的，本专利技术实施例还提供一种光学防伪元件，包括：基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面，并且所述基材的至少部分区域是透明的；形成于所述第一表面上的微结构形成层，所述微结构形成层具有至少第一区域和第二区域，所述第一区域为平坦区域或者包括第一表面微浮雕结构，所述第二区域包括第二表面微浮雕结构，所述第一表面微浮雕结构的比体积小于所述第二表面微浮雕结构的比体积；依次同形覆盖于所述第一区域上的反射层、保护层、第一半反半透镀层、介质层和第二半反半透镀层，所述第一半反半透镀层、所述介质层和所述第二半反半透镀层还依次同形覆盖于所述第二区域上，其中，所述第一半反半透镀层的折射率与消光系数的比值与所述第二半反半透镀层的折射率与消光系数的比值不同。
[0010]相应的，本专利技术实施例还提供一种光学防伪元件的制作方法，包括：提供基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面，并且所述基材的至少部分区域是透明的；在所述第一表面上形成微结构形成层，所述微结构形成层具有至少第一区域和第二区域，所述第一区域为平坦区域或者包括第一表面微浮雕结构，所述第二区域包括第二表面微浮雕结构，所述第一表面微浮雕结构的比体积小于所述第二表面微浮雕结构的比体积；在所述微结构形成层上沉积反射层；在所述反射层上形成保护层；将前述步骤形成的结构浸入到腐蚀溶液中以使得处于所述第二区域的反射层和保护层被腐蚀；取出并清洗经腐蚀后的结构；在所述经腐蚀后的结构上所述第一表面的一侧上依次沉积第一半反半透镀层、介质层和第二半反半透镀层，其中，所述第一半反半透镀层的折射率与消光系数的比值与所述第二半反半透镀层的折射率与消光系数的比值不同。
[0011]本专利技术实施例提供的上述光学防伪元件或者由上述制作方法制作的光学防伪元件具有以下防伪效果：从上述光学防伪元件第一表面观察时，上述光学防伪元件的第一区域呈现亮度和饱和度较高的第一颜色，第二区域呈现第二颜色，且在倾斜光学防伪元件时，第一颜色和第二颜色均呈现颜色变化的效果；从上述光学防伪元件第二表面观察时，上述光学防伪元件的第一区域呈现反射层颜色第三颜色，第二区域呈现颜色第四颜色，且在倾斜光学防伪元件时，第四颜色呈现暗色变化的效果，第三颜色保持不变；当透视观察上述光学防伪元件时，第一区域不透明，第二区域呈现颜色第五颜色。
[0012]相应的，本专利技术实施例还提供一种光学防伪产品，包括上述的光学防伪元件；以及承载物，所述光学防伪元件附着于该承载物上。
[0013]本专利技术实施例的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
[0014]附图是用来提供对本专利技术实施例的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术实施例，但并不构成对本专利技术实施例的限制。在附图中：
[0015]图1示出了根据本专利技术一实施例的光学防伪元件的剖面示意图；
[0016]图2示出了铝和铬的折射率n与消光系数k的比值的曲线示意图；
[0017]图3示出了从不同方向观察根据本专利技术实施例所述的光学防伪元件时的反射光
谱；
[0018]图4(a)示出了根据本专利技术一实施例的光学防伪产品的剖面示意图；
[0019]图4(b)示出了从第一表面观察图4(a)所示的光学防伪产品的效果示意图；
[0020]图4(c)示出了从第二表面观察图4(a)所示的光学防伪产品的效果示意图；
[0021]图5示出了根据本专利技术又一实施例的光学防伪元件的剖面示意图；
[0022]图6示出了在图5所示的光学防伪元件中光变镀层颜色随保护层厚度的变化示意图；
[0023]图7(a)示出了根据本专利技术又一实施例的光学防伪产品的剖面示意图；
[0024]图7(b)示出了从第一表面观察图7(a)所示的光学防伪产品的效果示意图；以及
[0025]图7(c)示出了从第二表面观察图7(a)所示的光学防伪产品的效果示意图。
具体实施方式
[0026]以下结合附图对本专利技术实施例的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术实施例，并不用于限制本专利技术实施例。
[0027]图1示出了根据本专利技术一实施例的光学防伪本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学防伪元件，包括：基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面，并且所述基材的至少部分区域是透明的；以及依次沉积于所述第一表面上的第一半反半透镀层、介质层和第二半反半透镀层，其中，所述第一半反半透镀层的折射率与消光系数的比值与所述第二半反半透镀层的折射率与消光系数的比值不同。2.一种光学防伪元件，包括：基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面，并且所述基材的至少部分区域是透明的；形成于所述第一表面上的微结构形成层，所述微结构形成层具有至少第一区域和第二区域，所述第一区域为平坦区域或者包括第一表面微浮雕结构，所述第二区域包括第二表面微浮雕结构，所述第一表面微浮雕结构的比体积小于所述第二表面微浮雕结构的比体积；依次同形覆盖于所述第一区域上的反射层、保护层、第一半反半透镀层、介质层和第二半反半透镀层，所述第一半反半透镀层、所述介质层和所述第二半反半透镀层还依次同形覆盖于所述第二区域上，其中，所述第一半反半透镀层的折射率与消光系数的比值与所述第二半反半透镀层的折射率与消光系数的比值不同。3.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，在至少部分可见光谱范围内，所述第一半反半透镀层和所述第二半反半透镀层中一者的折射率与消光系数的比值小于0.2，而另一者的折射率与消光系数的比值大于0.2，优选为0.5至2。4.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其中，折射率与消光系数的比值小于0.2的半反半透镀层的组成材料为以下一者或多者：铝、或银；和/或折射率与消光系数的比值大于0.2的半反半透镀层的组成材料为以下一者或多者：铬、硅、锌、镍、或钛。5.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述介质层的折射率小于1.8。6.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其中，在所述反射层、所述第一半反半透镀层、所述介质层和所述第二半反半透镀层的厚度确定的情况下，所述保护层能够具有不同的厚度。7.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述光学防伪元件还包括镂空区域。8.一种光学防伪元件的制作方法，包括：提供基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面，并且所述基材的至少部分区域是透明的；以及在所述第一表面上依次沉积第一半反半透镀层、介质层和第二半反半透镀层，其中，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张巍巍，孙凯，胡春华，
申请(专利权)人：中国印钞造币总公司，
类型：发明
国别省市：