本发明专利技术属于有机化学合成领域,具体涉及一种制备一级和二级酰胺化合物的方法。一种制备一级和二级酰胺化合物的方法,以质子性溶剂为还原试剂,以二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物为催化剂,在30℃~130℃温度下催化还原N
【技术实现步骤摘要】
一种制备一级和二级酰胺化合物的方法
[0001]本专利技术属于有机化学合成领域,具体涉及一种制备一级和二级酰胺化合物的方法。
技术介绍
[0002]还原反应是有机合成中最重要的反应类型之一,在药物、农药和精细化工品等的工业化大生产中有着非常重要的应用。其中,使用醇、水和酸等质子性溶剂作为还原剂的转移氢化反应是一种简便和安全的还原方式,是直接以氢气为氢源的氢化反应的一种有力补充。目前,转移氢化领域主要集中于酮、亚胺和烯烃等不饱和键的还原反应,但是对于氮-氧键、氮-碳键等的还原反应的研究还没有进展。
[0003]然而,含氮-氢键的胺类化合物是有机化学中重要的合成转化子之一,如果能够用转移氢化的方法还原氮-氧键、氮-碳键等得到相应的一级或二级胺类化合物,对于合成化学和工业化应用都将有重要的价值和意义。基于此,本专利技术提供了一种转移氢化方式还原N-取代酰胺类化合物的方法,温和高效的合成相应的一级或二级酰胺。
技术实现思路
[0004]专利技术目的:本专利技术针对上述现有技术存在的问题做出改进,即本专利技术公开了一种制备一级和二级酰胺化合物的方法,是以二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物为催化剂,以质子性溶剂为氢源,催化转移氢化还原N-取代酰胺的氮-氧键或氮-碳键,高效率、高选择性地得到相应的一级酰胺化合物或二级酰胺化合物。
[0005]技术方案:一种制备一级和二级酰胺化合物的方法,以质子性溶剂为还原试剂,以二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物为催化剂,在30℃~130℃温度下催化还原N-取代酰胺化合物,还原反应结束后得到反应液,对反应液进行后处理即得到相应的一级酰胺化合物或二级酰胺化合物,其中:
[0006]所述的N-取代酰胺化合物和二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物摩尔比为1:(0.0001~0.1);
[0007]所述的N-取代酰胺化合物和质子性溶剂的摩尔比为1:(5~1000)。
[0008]进一步地,所述的N-取代酰胺化合物结构式为其中:
[0009]R1为苯基、苄基、杂芳基、C1~C
10
的烃基、烃磺酰基和含有取代基的苯基中的一种,含有取代基的苯基中的取代基为C1~C6的烃基、C1~C6的烃氧基以及卤素取代基中的至少一种;
[0010]R2为C1~C
10
的烃基、C1~C
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的烃氧基、C1~C
10
的烃酰氧基、苄基、杂芳基和含有取代基的苯基中的一种,含有取代基的苯基中的取代基为C1~C6的烃基、C1~C6的烃氧基以及卤素取代基中的至少一种;
[0011]R3为氢或C1~C
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的烃基。
[0012]进一步地,质子性溶剂是水、甲酸、乙酸、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、三乙胺中的任意一种或几种。
[0013]更进一步地,质子性溶剂是由水、甲酸和三乙胺按体积比例2:1:1配制得到。
[0014]进一步地,N-取代酰胺化合物和二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物的摩尔比为1:(0.001~0.05);
[0015]进一步地,还原反应的反应温度为80℃~110℃,反应时间为1~24小时。
[0016]更进一步地,还原反应的反应温度为100℃,反应时间为12小时。
[0017]进一步地,后处理为重结晶、薄层层析、柱层析或减压蒸馏中的一种。
[0018]有益效果:本专利技术公开的一种制备一级和二级酰胺化合物的方法实现了氮-氧和氮-碳键的转移氢化反应,反应条件温和简单,底物适用范围广,操作方便,高效高选择性的得到相应的一级酰胺化合物或二级酰胺化合物。
具体实施方式:
[0019]下面对本专利技术的具体实施方式详细说明。
[0020]本专利技术是一种高效温和的还原N-取代酰胺化合物的氮-氧键或氮-碳键,高选择性地得到相应一级或二级酰胺化合物的方法,产物分子的通式是:其中,
[0021]R1为苯基或取代的苯基(取代基为C1~C6的烃基、C1~C6的烃氧基以及卤原子,取代基数量为1-5)、苄基、杂芳基、C1~C
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的烃基和烃磺酰基;
[0022]R3为氢或C1~C
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的烃基。
[0023]本专利技术公开的一种制备一级和二级酰胺化合物的方法,以质子性溶剂为还原试剂,以二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物({[RuCl2(p-cymene))]2})为催化剂,在30℃~130℃温度下催化还原N-取代酰胺化合物,还原反应结束后得到反应液,对反应液进行后处理即得到相应的一级酰胺化合物或二级酰胺化合物,可用下式表示:
[0024][0025]所述的N-取代酰胺化合物和二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物摩尔比为1:0.0001-0.1;
[0026]进一步的,N-取代酰胺化合物和二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物摩尔比为1:0.001-0.05;
[0027]尤其推荐的N-取代酰胺化合物和二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物摩尔比为1:0.025。
[0028]所述的质子性溶剂推荐水、甲酸、乙酸、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇和三乙胺等中的任意一种或数种混合溶液;
[0029]优先推荐水、甲酸和三乙胺的混合液,体积比例为2:1:1。
[0030]反应温度推荐为30℃~130℃,进一步推荐80℃~110℃,尤其推荐100℃。
[0031]本专利技术中提到的烃基,均推荐碳数为1~10的基团,如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、环戊基、正己基、环己基等。
[0032]本专利技术提到的杂芳基,均指萘基和含N,O,S的杂芳基。
[0033]本专利技术方法提供了一种以转移氢化方式还原N-取代酰胺化合物,合成相应的一级或二级酰胺化合物的方法。
[0034]下面通过具体实施例对本专利技术的技术方案作进一步地具体说明:
[0035]具体实施例1的制备
[0036]一种制备一级和二级酰胺化合物的方法,以质子性溶剂为还原试剂,以二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物为催化剂,在100℃温度下催化还原N-取代酰胺化合物,还原反应12小时,反应结束后得到反应液,对反应液进行后处理得到白色固体,产率为95%,即得到相应的一级酰胺化合物其中:
[0037]所述的N-取代酰胺化合物和二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物摩尔比为1:0.025;
[0038]所述的N-取代酰胺化合物和质子性溶剂的摩尔比为1:100。
[0039]进一步地,所述的N-取代酰胺化合物结构式为其中:
[0040]R1为苯基;
[0041]R2为甲氧基;
[0042]R3为氢。
[0043]进一步地,质子性溶剂是由水、甲酸和三乙胺按体积比例2:1:1配制得到。
[0044]进一步地,后处理为重结晶。
[0045]对具体实施例1的产本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种制备一级和二级酰胺化合物的方法,其特征在于,以质子性溶剂为还原试剂,以二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物为催化剂,在30℃~130℃温度下催化还原N-取代酰胺化合物,还原反应结束后得到反应液,对反应液进行后处理即得到相应的一级酰胺化合物或二级酰胺化合物,其中:所述的N-取代酰胺化合物和二氯(对甲基异丙苯)钌(II)二聚体配合物摩尔比为1:(0.0001~0.1);所述的N-取代酰胺化合物和质子性溶剂的摩尔比为1:(5~1000)。2.如权利要求1所述的一种制备一级和二级酰胺化合物的方法,其特征在于,所述的N-取代酰胺化合物结构式为其中:R1为苯基、苄基、杂芳基、C1~C
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的烃基、烃磺酰基和含有取代基的苯基中的一种,含有取代基的苯基中的取代基为C1~C6的烃基、C1~C6的烃氧基以及卤素取代基中的至少一种;R2为C1~C
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的烃基、C1~C
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的烃氧基、C1~C
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的烃酰氧基、苄基、杂芳基和含有取代基的苯基中的一种,含有取代基的苯基...
【专利技术属性】
技术研发人员:夏远志,尤婷杰,陈建辉,陈佳佳,罗燕书,
申请(专利权)人:温州大学,
类型:发明
国别省市:
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