蒸镀掩模制造技术

本公开的蒸镀掩模，在设从P1点到Q1点的尺寸为X1，设从P2点到Q2点的尺寸为X2，设尺寸X1和尺寸X2的设计值为α

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模
[0001]本申请是分案申请，其原申请的中国国家申请号为201921052051.3，申请日为2019年07月05日，专利技术名称为“蒸镀掩模”。


[0002]本公开涉及蒸镀掩模。

技术介绍

[0003]近年来，对于在智能手机、平板电脑等可移动设备中使用的显示装置，要求高精细化，例如像素密度为500ppi以上。另外，即使在可移动设备中，对于超高清的需要也在不断高涨，在该情况下，要求显示装置的像素密度例如为800ppi以上。
[0004]在显示装置中，由于响应性良好、耗电低且对比度高，所以有机EL显示装置正在受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，公知有这样的方法：使用形成有以希望的图案排列的贯通孔的蒸镀掩模，按照希望的图案形成像素(例如，参照专利文献1)。具体来说，首先，使蒸镀掩模以张紧设置的状态紧密贴合于有机EL显示装置用的基板，接着，将紧密贴合的蒸镀掩模和基板一起放入到蒸镀装置中，进行使有机材料蒸镀到基板上的蒸镀工序。在该情况下，为了精密地制作具有高像素密度的有机EL显示装置，要求按照设计精密地再现张紧设置时的蒸镀掩模的贯通孔的位置。
[0005]专利文献1：日本特开2001-234385号公报

技术实现思路

[0006]本公开的目的在于，提供能够提高张紧设置时的贯通孔的位置精度的蒸镀掩模。
[0007]本公开的第1方式是蒸镀掩模，其在第1方向上延伸，该蒸镀掩模的特征在于，具有：第1中心轴线，其在所述第1方向上延伸，配置在与所述第1方向垂直的第2方向的中心位置处；P1点和Q1点，它们设置在所述第1中心轴线的一侧，沿着所述第1方向互相分离；以及P2点和Q2点，它们设置在所述第1中心轴线的另一侧，沿着所述第1方向互相分离，其中，
[0008]在设从所述P1点到所述Q1点的尺寸为X1，设从所述P2点到所述Q2点的尺寸为X2，设所述尺寸X1和所述尺寸X2的设计值为α
X
时，所述蒸镀掩模满足数式1，
[0009]【数式1】
[0010][0011]本公开的第2方式是蒸镀掩模，其在第1方向上延伸，并具有多个贯通孔，该蒸镀掩模的特征在于，
[0012]所述蒸镀掩模具有：第1中心轴线，其在所述第1方向上延伸，配置在与所述第1方向垂直的第2方向的中心位置处；P1点和Q1点，它们设置在所述第1中心轴线的一侧，沿着所述第1方向互相分离；以及P2点和Q2点，它们设置在所述第1中心轴线的另一侧，沿着所述第1方向互相分离，
[0013]在设从所述P1点到所述Q1点的尺寸为X1，设从所述P2点到所述Q2点的尺寸为X2，设所述尺寸X1和所述尺寸X2的设计值为α
X
，设从所述P1点到所述P2点的尺寸和从所述Q1点到所述Q2点的尺寸的设计值为α
Y
，设所述第2方向上的两个所述贯通孔的中心点之间的距离中的最大值为W
Y
时，所述蒸镀掩模满足数式2，
[0014]【数式2】
[0015][0016]根据本公开，能够提高张紧设置时的贯通孔的位置精度。
附图说明
[0017]图1是示出具有本公开的一个实施方式的蒸镀掩模装置的蒸镀装置的图。
[0018]图2是示出使用图1所示的蒸镀掩模装置制造出的有机EL显示装置的剖视图。
[0019]图3是示出本公开的一个实施方式的蒸镀掩模装置的俯视图。
[0020]图4是示出图3所示的蒸镀掩模的有效区域的局部俯视图。
[0021]图5是沿图4的V-V线的剖视图。
[0022]图6是沿图4的VI-VI线的剖视图。
[0023]图7是沿图4的VII-VII线的剖视图。
[0024]图8是将图5所示的贯通孔及其附近的区域放大而示出的剖视图。
[0025]图9A是用于对图3的蒸镀掩模中的尺寸X1和尺寸X2进行说明的示意图。
[0026]图9B是作为图9A的变形例而用于对图3的蒸镀掩模中的尺寸X1和尺寸X2进行说明的示意图。
[0027]图9C是作为图9A的另一变形例而用于对图3的蒸镀掩模中的尺寸X1和尺寸X2进行说明的示意图。
[0028]图10是示出轧制母材而得到具有希望的厚度的金属板的工序的图。
[0029]图11是示出对通过轧制而得到的金属板进行退火的工序的图。
[0030]图12是用于在整体上对本公开的一个实施方式的蒸镀掩模的制造方法进行说明的示意图。
[0031]图13是示出在本公开的一个实施方式的制造方法中在金属板上形成抗蚀剂膜的工序的图。
[0032]图14是示出在本公开的一个实施方式的制造方法中使曝光掩模紧密贴合于抗蚀剂膜的工序的图。
[0033]图15是示出在本公开的一个实施方式的制造方法中使抗蚀剂膜显影的工序的图。
[0034]图16是示出本公开的一个实施方式的制造方法中第1面蚀刻工序的图。
[0035]图17是示出在本公开的一个实施方式的制造方法中通过树脂来包覆第1凹部的工序的图。
[0036]图18是示出在本公开的一个实施方式的制造方法中第2面蚀刻工序的图。
[0037]图19是示出在本公开的一个实施方式的制造方法中接着图18的第2面蚀刻工序的图。
[0038]图20是示出在本公开的一个实施方式的制造方法中从长条金属板除去树脂和抗
蚀剂图案的工序的图。
[0039]图21是示出通过轧制得到的长条金属板的一例的立体图。
[0040]图22是对在波动形状被压缩而大致成为平坦的状态的长条金属板上形成蒸镀掩模的情况进行说明的立体图。
[0041]图23是示出形成于长条金属板的多个蒸镀掩模的立体图。
[0042]图24是示出从图23所示的长条金属板切出的蒸镀掩模的俯视图。
[0043]图25是示出在本公开的一个实施方式的蒸镀掩模的好坏判定方法中使用的蒸镀掩模的好坏判定系统的一例的图。
[0044]图26是示出在本公开的一个实施方式的蒸镀掩模装置的制造方法中张力施加装置的一例的图。
[0045]图27是示出图24所示的蒸镀掩模的张紧设置状态的一例的俯视图。
[0046]图28是示出图24所示的蒸镀掩模的张紧设置状态的另一例的俯视图。
[0047]图29是示出在本公开的一个实施例中α
X
＝200mm、α
Y
＝65.0mm时的蒸镀掩模的好坏判定结果的图。
[0048]图30是示出在本公开的一个实施例中α
X
＝200mm、α
Y
＝43.3mm时的蒸镀掩模的好坏判定结果的图。
[0049]图31是示出在本公开的一个实施例中α
X
＝200mm、α
Y
＝21.7mm时的蒸镀掩模的好坏判定结果的图。
[0050]图32是示出在本公开的一个实施例中α
X
＝300mm、α本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模，其在第1方向上延伸，该蒸镀掩模的特征在于，具有：第1中心轴线，其在所述第1方向上延伸，配置在与所述第1方向垂直的第2方向的中心位置处；P1点和Q1点，它们设置在所述第1中心轴线的一侧，沿着所述第1方向互相分离；以及P2点和Q2点，它们设置在所述第1中心轴线的另一侧，沿着所述第1方向互相分离，其中，在设从所述P1点到所述Q1点的尺寸为X1，设从所述P2点到所述Q2点的尺寸为X2，设所述尺寸X1和所述尺寸X2的设计值为α
X
时，所述蒸镀掩模满足数式5，【数式5】2.一种蒸镀掩模，其在第1方向上延伸，并具有多个贯通孔，该蒸镀掩模的特征在于，具有：第1中心轴线，其在所述第1方向上延...

【专利技术属性】
技术研发人员：池永知加雄，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：新型
国别省市：