本申请公开了一种光场调制组件、显示组件和显示装置，属于显示技术领域。本申请提供的光场调制组件包括承载件和光场调制膜；其中，承载件包括基板和围合设置于基板一侧表面的侧板，基板和侧板形成一凹槽；光场调制膜设置于基板位于凹槽的区域。其中，侧板位于光场调制膜入光侧，毗邻光场调制膜入光侧的介质的折射率低于光场调制膜的折射率，光线从入光侧穿过光场调制膜之后能够形成预设的第一衍射效应。光线通过显示面板的透光显示区时，由于像素单元的规则排布，将产生第二衍射效应，因为第一衍射效应和第二衍射效应至少部分相互抵消，因此使屏下拍摄时由于衍射效应引起的问题减弱或者消失，从而能够提高屏下拍摄的拍摄质量。量。量。
【技术实现步骤摘要】
一种光场调制组件、显示组件和显示装置
[0001]本申请涉及显示
，特别是涉及一种光场调制组件、显示组件和显示装置。
技术介绍
[0002]为了实现全面屏显示，将显示面板对应感光元件的区域设计为透光显示区，使该区域既可放置屏下感光元件，又可满足显示功能，提高屏占比。但是，使透光显示区具有显示功能的像素单元为规则性排布，光线透过时产生明显的衍射效应，使得感光元件透过透光显示区拍摄时形成点光源十字星芒和拍照雾化等问题，降低拍摄质量。
技术实现思路
[0003]本申请主要解决的技术问题是提供一种光场调制组件、显示组件和显示装置，能够提高屏下拍摄的拍摄质量。
[0004]为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：
[0005]提供一种光场调制组件，包括：
[0006]承载件，包括基板和围合设置于所述基板一侧表面的侧板，所述基板和所述侧板形成一凹槽；
[0007]光场调制膜，设置于所述基板位于所述凹槽的区域；
[0008]其中，所述侧板位于所述光场调制膜入光侧，毗邻所述光场调制膜入光侧的介质的折射率低于所述光场调制膜的折射率，光线从所述入光侧穿过所述光场调制膜之后能够形成预设的第一衍射效应。
[0009]其中，所述光场调制膜设置于所述凹槽的底部，且在所述入光侧表面具有多个衍射微结构。
[0010]其中，所述衍射微结构的高度为0.1微米-10微米。
[0011]优选地，所述衍射微结构的高度为0.2微米-3微米。
[0012]其中，所述基板和所述侧板一体成型；或者，所述基板设置有所述光场调制膜一侧表面的边缘位置处设置有围合的贴合区，所述侧板固定贴合于所述贴合区内。
[0013]其中，所述基板的透光率大于90％，所述侧板各处的高度相同。
[0014]其中，所述光场调制膜的厚度为0.5微米-20微米，所述介质包括空气。
[0015]为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：
[0016]提供一种显示组件，包括：
[0017]如上述技术方案所述的光场调制组件；
[0018]显示面板，具有透光显示区，光线透过所述透光显示区时形成第二衍射效应；
[0019]其中，所述显示面板的所述透光显示区以非显示面一侧盖设于所述凹槽开口，所述第一衍射效应与所述第二衍射效应至少部分相互抵消。
[0020]其中，所述光场调制膜在所述显示面板上的正投影覆盖所述透光显示区。
[0021]为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：
[0022]提供一种显示装置，包括：
[0023]如上述技术方案所述的显示组件；
[0024]感光元件，设置于所述光场调制组件背离所述显示面板一侧，所述感光元件的感光面朝向所述显示面板。
[0025]本申请的有益效果是：区别于现有技术的特征，本申请提供的光场调制组件包括承载件和光场调制膜；其中，承载件包括基板和围合设置于基板一侧表面的侧板，基板和侧板形成一凹槽；光场调制膜设置于基板位于凹槽的区域。其中，侧板位于光场调制膜入光侧，毗邻光场调制膜入光侧的介质的折射率低于光场调制膜的折射率，光线从入光侧穿过光场调制膜之后能够形成预设的第一衍射效应。光线通过显示面板的透光显示区时，由于像素单元的规则排布，将产生第二衍射效应，因为第一衍射效应和第二衍射效应至少部分相互抵消，因此使屏下拍摄时由于衍射效应引起的问题减弱或者消失，从而能够提高屏下拍摄的拍摄质量。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本申请实施方式中的技术方案，下面将对实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：
[0027]图1为本申请光场调制组件一实施方式的结构示意图；
[0028]图2为本申请光场调制组件另一实施方式的结构示意图；
[0029]图3为本申请显示组件一实施方式的结构示意图；
[0030]图4为本申请显示装置一实施方式的结构示意图。
具体实施方式
[0031]下面将结合本申请实施方式中的附图，对本申请实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本申请一部分实施方式，而不是全部实施方式。基于本申请中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本申请保护的范围。
[0032]请参阅图1，图1为本申请光场调制组件一实施方式的结构示意图，该光场调制组件10包括承载件11和光场调制膜12。其中，承载件11包括基板111和围合设置于基板111一侧表面的侧板112，基板111和侧板112形成一凹槽，光场调制膜12设置于基板111位于凹槽的区域。其中，侧板112位于光场调制膜12的入光侧，也就是光线L从凹槽内部入射光场调制膜12。
[0033]具体地，基板111设置有光场调制膜的一侧表面的边缘位置处设置有围合的贴合区，侧板112固定帖合于该贴合区内。例如在贴合区内涂覆密封胶，再将侧板112压合于贴合区内，使两者固定连接。光场调制膜12可以位于该凹槽的底部，也可以位于基板111背离凹槽的一侧表面。本实施方式中，光场调制膜12位于凹槽的底部，且凹槽的深度大于光场调制膜12的厚度。优选地，凹槽的深度为30微米-500微米，光场调制膜12的厚度为0.5微米-20微米。
[0034]其中，光场调制膜12的材质为光学树脂，其入光侧表面具有多个衍射微结构，即远离基板111的一侧表面具有多个衍射微结构，从而在入光侧毗邻光场调制膜12的介质和光场调制膜12之间形成定制的非平面界面。而且，入光侧毗邻光场调制膜12的介质的折射率低于光场调制膜12的折射率，光线从入光侧穿过光场调制膜12之后能够形成预设的第一衍射效应。其中，入光侧毗邻光场调制膜12的介质优选为空气。该第一衍射效应是可定制的，例如根据光场调制膜12入光侧表面的衍射微结构，以及光场调制膜12和介质之间的折射率差异进行仿真计算，使光线通过上述非平面界面时形成预设的第一衍射效应。其中，衍射微结构的高度为0.1微米-10微米，优选为0.2微米-3微米，且衍射微结构基本布满光场调制膜12的入光侧表面，使光线穿过时，介质和光场调制膜12之间的非平面界面的比例尽可能高。
[0035]优选地，基板111的透光率均大于90％，材质为玻璃或者高分子材料，使光线能够基本穿透光场调制组件10，后续将其设置于显示面板的透光显示区和感光元件之间时，能够不影响拍摄。优选侧板112各处的高度相同，即凹槽各处的深度相同，从而使光场调制膜12与显示面板平行，有利于光线穿过光场调制组件10时产生预设的第一衍射效应。
[0036]为了实现全面屏显示，将显示面板对应感光元件的区域设计为透光显示区，使该区域既可放置屏下感光元件，又可满足显示功能，提高屏占比。但是光线通过显示面板的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光场调制组件，其特征在于，包括：承载件，包括基板和围合设置于所述基板一侧表面的侧板，所述基板和所述侧板形成一凹槽；光场调制膜，设置于所述基板位于所述凹槽的区域；其中，所述侧板位于所述光场调制膜入光侧，毗邻所述光场调制膜入光侧的介质的折射率低于所述光场调制膜的折射率，光线从所述入光侧穿过所述光场调制膜之后能够形成预设的第一衍射效应。2.根据权利要求1所述的光场调制组件，其特征在于，所述光场调制膜设置于所述凹槽的底部，且在所述入光侧表面具有多个衍射微结构。3.根据权利要求2所述的光场调制组件，其特征在于，所述衍射微结构的高度为0.1微米-10微米。4.根据权利要求3所述的光场调制组件，其特征在于，所述衍射微结构的高度为0.2微米-3微米。5.根据权利要求2所述的光场调制组件，其特征在于，所述基板和所述侧板一体成型；或者，所述基板设置有所述光场调制膜一侧表面的边缘位置处设置有围合的贴合...
【专利技术属性】
技术研发人员：邢汝博，刘如胜，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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