【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光导光学元件(LOE)的板之间折射率不均匀性的测量技术
[0001]本专利技术一般涉及光学测试,尤其涉及折射率差的非接触测量技术。
技术介绍
[0002]生产光导光学元件(LOE)的制造挑战之一是实现折射率的均匀性。不均匀性导致图像质量下降。当光线穿过刻面特别是相对于刻面的法线成大角度时,如果各个板的折射率不能很好地匹配,则将会引入角度偏差。
技术实现思路
[0003]根据本实施方式的教导,提供了一种用于测量折射率不均匀性的方法,包括以下步骤:将投射光投射到光导的前表面上,光导包括:彼此平行的第一对外表面,该外表面包括该前表面和后表面,以及一组涂覆板,该一组涂覆板:彼此平行、在该第一对外表面之间、以及相对于该第一对外表面成非平行角度以及每个板具有对应的折射率;以及捕获干涉图案的干涉图像以测量板之间的折射率不均匀性,干涉图案在折射/反射光线与外部反射光之间,该折射/反射光线是投射光穿过光导,在光导内部反射,然后经由前表面离开光导的结果,以及该外部反射光是投射光从前表面反射的结果。
[0004]在可选实施方式中,投射相对于前表面成倾斜角度。在另一可选实施方式中,投射相对于前表面垂直。在另一可选实施方式中,干涉图像与板的折射率之间的折射率不均匀性对应。
[0005]在另一可选实施方式中,还包括:确定条纹的一个或更多个部分与条纹的另一个或更多个部分之间的偏差,每个部分与板中的一个或更多个对应,偏差与板的折射率之间的折射率差(不均匀性)对应。
[0006]根据本实施方式的教导,提供了一种 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于测量折射率不均匀性的方法,包括以下步骤:(a)将投射光(R)投射到光导(20)的前表面(26A)上,所述光导(20)包括:(i)彼此平行的第一对外表面,所述外表面包括所述前表面(26A)和后表面(26),以及(ii)一组涂覆板(422),所述一组板(422):(A)彼此平行,(B)在所述第一对外表面之间,以及(C)相对于所述第一对外表面成非平行角度,以及(iii)每个所述板(422)具有对应的折射率(n),以及(b)捕获干涉图案的干涉图图像(1200)以测量所述板(422)之间的折射率不均匀性,所述干涉图案在折射/反射光线(R
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)与外部反射光(Re
’
)之间,(i)所述折射/反射光线(R
’
)是所述投射光(R)穿过所述光导(20),在所述光导(20)内部反射,然后经由所述前表面(26A)离开所述光导(20)的结果,以及(ii)所述外部反射光(Re
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)是所述投射光(R)从所述前表面(26A)反射的结果。2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述投射选自包括以下的组:(a)相对于所述前表面(26A)成倾斜角度,以及(b)相对于所述前表面(26A)垂直。3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述干涉图图像(1200)与所述板(422)的所述折射率(n)之间的折射率不均匀性对应。4.根据权利要求1所述的方法,还包括:确定所述条纹的一个或更多个部分与所述条纹的另一个或更多个部分之间的偏差,每个所述部分与所述板中的一个或更多个对应,所述偏差与所述板的所述折射率之间的折射率差对应。5.一种用于确定折射率不均匀性的方法,包括以下步骤:(a)提供干涉图,所述干涉图包括一个或更多个条纹,所述干涉图通过以下操作生成:(i)将投射光(R)投射到光导(20)的前表面(26A)上,所述光导(20)包括:(A)彼此平行的第一对外表面,所述外表面包括所述前表面(26A)和后表面(26),以及(B)一组板(422),所述一组板(422):(I)彼此平行,(II)在所述第一对外表面之间,以及(III)相对于所述第一对外表面成非平行角度,以及(C)每个所述板(422)具有对应的折射率(n),以及(ii)捕获干涉图案的干涉图图像(1200)以测量所述板(422)之间的折射率不均匀性,所述干涉图案在折射/反射光线(R
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)与外部反射光(Re
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)之间,(A)所述折射/反射光线(R
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)是所述投射光(R)穿过所述光导(20),在所述光导(20)内部反射,然后经由所述前表面(26A)离开所述光导(20)的结果,以及(B)所述外部反射光(Re
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)是所述投射光(R)从所述前表面(26A)反射的结果,以及(b)确定所述条纹的一个或更多个部分与所述条纹的另一个或更多个部分之间的偏差,每个所述部分与所述板中的一个或更多个对应,所述偏差与所述板的所述折射率之间的折射率不均匀性对应。6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述条纹的每个所述部分与所述板中的一个对
应。7.根据权利要求5所述的方法,其中,所述偏差是相邻的所述板之间的。8.根据权利要求5所述的方法,其中,所述偏差是跨多个所述板的。9.根据权利要求5所述的方法,其中,所述偏差是跨所有所述板的。10.根据权利要求5所述的方法,其中,所述确定偏差包括确定所述干涉图中有多少条纹跳跃。11.根据权利要求5所述的方法,还包括基于所述偏差计算通过/未通过度量的步骤。12.根据权利要求5所述的方法,其中,所述偏差是使用选自包括以下的组中的至少一种技术确定的:(a)分析所述干涉图以确定所述干涉图的轴,(b)旋转和/或转换所述干涉图,(c)将所述干涉图分成与所述条纹正交的N个离散信号阵列,其中N明显大于所述LOE中的刻面数,以及(d)通过使用选自包括以下的组的相位提取算法计算信号阵列n=1到N的相位:(i)三桶方法或四桶方法,以及(ii)小波变换。13.根据权利要求5所述的方法,其中,从通...
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