本实用新型专利技术公开了一种便于喷射金属离子的喷射装置，包括壳体，所述壳体顶端的中间位置设置有阴极座，所述阴极座的底端设置有阴极，所述壳体内部的顶端设置有真空管，所述真空管的一侧穿插有进气管，所述真空管外侧的顶端设置有聚集线圈，所述真空管外侧的中间位置设置有第一加速线圈，所述真空管外侧的底端设置有发散线圈，所述真空管内侧壁的底端设置有阳极环，所述壳体内侧壁的中间位置设有第二加速线圈，所述壳体内侧壁的底端设有若干电磁铁，所述壳体外侧壁的底端设有若干电控盒，所述壳体外部一侧的顶端设置有电压调节器。有益效果：能够稳定、快速对金属离子进行喷射，能够改变金属离子的喷射方向和喷射速度，能够对壳体进行冷却。体进行冷却。体进行冷却。
【技术实现步骤摘要】
一种便于喷射金属离子的喷射装置
[0001]本技术涉及离子喷射
，具体来说，涉及一种便于喷射金属离子的喷射装置。
技术介绍
[0002]等离子体喷涂设备或等离子管用于粉末材料的低功率热喷涂，例如：与不同的表面土城有关。这种设备通常包括：阴极、阳极和期间形成的等离子体通道。在使用过程中，在等离子体通道中的阴极和阳极产生电弧，然后气体被导入等离子体通道中用于形成等离子体，这样等离子体流通过等离子体通道从阴极相邻的入口段流经到与阳极相邻的出口段，同时，粉末材料被提供给等离子体流用于其喷涂。但是现有的喷射装置喷射速度难以改变，喷射方向难以改变，使用不方便。
[0003]针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
[0004]针对相关技术中的问题，本技术提出一种便于喷射金属离子的喷射装置，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
[0005]为此，本技术采用的具体技术方案如下：
[0006]一种便于喷射金属离子的喷射装置，包括壳体，所述壳体顶端的中间位置设置有穿插于所述壳体的阴极座，所述阴极座的底端设置有位于所述壳体内部的阴极，所述壳体内部的顶端设置有套设于所述阴极的真空管，所述真空管的一侧穿插有进气管，所述进气管的另一端穿插于所述壳体，所述真空管外侧的顶端设置有聚集线圈，所述真空管外侧的中间位置设置有第一加速线圈，所述真空管外侧的底端设置有发散线圈，所述真空管内侧壁的底端设置有阳极环，所述壳体内侧壁的中间位置设置有第二加速线圈，所述壳体内侧壁的底端设置有若干电磁铁，所述壳体外侧壁的底端设置有若干与所述电磁铁相匹配的电控盒，所述壳体外部一侧的顶端设置有电压调节器，所述电压调节器的一侧设置有调节旋钮，所述壳体的底端设置有喷射口，所述壳体外部另一侧的顶端设置有控制面板。
[0007]进一步的，所述壳体顶端的两侧分别均设置有L型安装板。
[0008]进一步的，所述真空管的顶部设置有绝缘环。
[0009]进一步的，所述阳极环与所述真空管之间设置有绝缘垫圈。
[0010]进一步的，所述电控盒与所述电压调节器之间设置有线管。
[0011]进一步的，所述壳体的壳体内部设置有水冷通道。
[0012]本技术的有益效果为：通过设置由壳体、阴极座、阴极、真空管、进气管、聚集线圈、第一加速线圈、发散线圈、阳极环、第二加速线圈、电磁铁、电控盒、电压调节器、调节旋钮、喷射口和控制面板构成的便于喷射金属离子的喷射装置，从而能够稳定、快速对金属离子进行喷射，能够改变金属离子的喷射方向和喷射速度，能够对壳体进行冷却。
附图说明
[0013]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0014]图1是根据本技术实施例的一种便于喷射金属离子的喷射装置的结构示意图；
[0015]图2是根据本技术实施例的一种便于喷射金属离子的喷射装置的主视图。
[0016]图中：
[0017]1、壳体；2、阴极座；3、阴极；4、真空管；5、进气管；6、聚集线圈；7、第一加速线圈；8、发散线圈；9、阳极环；10、第二加速线圈；11、电磁铁；12、电控盒；13、电压调节器；14、调节旋钮；15、喷射口；16、控制面板；17、L型安装板；18、绝缘环；19、绝缘垫圈；20、线管；21、水冷通道。
具体实施方式
[0018]为进一步说明各实施例，本技术提供有附图，这些附图为本技术揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理，配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本技术的优点，图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。
[0019]根据本技术的实施例，提供了一种便于喷射金属离子的喷射装置。
[0020]实施例一：
[0021]如图1-2所示，根据本技术实施例的便于喷射金属离子的喷射装置，包括壳体1，所述壳体1顶端的中间位置设置有穿插于所述壳体1的阴极座2，所述阴极座2的底端设置有位于所述壳体1内部的阴极3，所述壳体1内部的顶端设置有套设于所述阴极3的真空管4，所述真空管4的一侧穿插有进气管5，所述进气管5的另一端穿插于所述壳体1，所述真空管4外侧的顶端设置有聚集线圈6，所述真空管4外侧的中间位置设置有第一加速线圈7，所述真空管4外侧的底端设置有发散线圈8，所述真空管4内侧壁的底端设置有阳极环9，所述壳体1内侧壁的中间位置设置有第二加速线圈10，所述壳体1内侧壁的底端设置有若干电磁铁11，所述壳体1外侧壁的底端设置有若干与所述电磁铁11相匹配的电控盒12，所述壳体1外部一侧的顶端设置有电压调节器13，所述电压调节器13的一侧设置有调节旋钮14，所述壳体1的底端设置有喷射口15，所述壳体1外部另一侧的顶端设置有控制面板16。
[0022]借助于上述技术方案，通过设置由壳体1、阴极座2、阴极3、真空管4、进气管5、聚集线圈6、第一加速线圈7、发散线圈8、阳极环9、第二加速线圈10、电磁铁11、电控盒12、电压调节器13、调节旋钮14、喷射口15和控制面板16构成的便于喷射金属离子的喷射装置，从而能够稳定、快速对金属离子进行喷射，能够改变金属离子的喷射方向和喷射速度，能够对壳体进行冷却。
[0023]实施例二：
[0024]如图1-2所示，所述壳体1顶端的两侧分别均设置有L型安装板17，所述真空管4的顶部设置有绝缘环18，所述阳极环9与所述真空管4之间设置有绝缘垫圈19，所述电控盒12
与所述电压调节器13之间设置有线管20，所述壳体1的壳体内部设置有水冷通道21。
[0025]从图1-2中可以看出，所述壳体1顶端的两侧分别均设置有L型安装板17，所述真空管4的顶部设置有绝缘环18，所述阳极环9与所述真空管4之间设置有绝缘垫圈19，所述电控盒12与所述电压调节器13之间设置有线管20，所述壳体1的壳体内部设置有水冷通道21，对于L型安装板17、绝缘环18、绝缘垫圈19和线管20的设计，是比较常规的故此不做详细的说明。
[0026]为了方便理解本技术的上述技术方案，以下就本技术在实际过程中的工作原理或者操作方式进行详细说明。
[0027]在实际应用时，真空管4的内部阴极3与阳极环9之间产生金属离子，金属离子通过聚集线圈6进行聚集，然后通过第一加速线圈7进行加速，进一步通过发散线圈8对金属离子进行发散并进入到壳体1的内部，然后经过第二加速线圈10进行二次加速，同时通过电磁铁11调整离子的运动方向，通过电压调节器13和调节旋钮14调节电磁铁11的磁力大小，从而能够调整离子的运动方向，通过调节第一加速线圈7和第二加速线圈10的电压，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种便于喷射金属离子的喷射装置，其特征在于，包括壳体（1），所述壳体（1）顶端的中间位置设置有穿插于所述壳体（1）的阴极座（2），所述阴极座（2）的底端设置有位于所述壳体（1）内部的阴极（3），所述壳体（1）内部的顶端设置有套设于所述阴极（3）的真空管（4），所述真空管（4）的一侧穿插有进气管（5），所述进气管（5）的另一端穿插于所述壳体（1），所述真空管（4）外侧的顶端设置有聚集线圈（6），所述真空管（4）外侧的中间位置设置有第一加速线圈（7），所述真空管（4）外侧的底端设置有发散线圈（8），所述真空管（4）内侧壁的底端设置有阳极环（9），所述壳体（1）内侧壁的中间位置设置有第二加速线圈（10），所述壳体（1）内侧壁的底端设置有若干电磁铁（11），所述壳体（1）外侧壁的底端设置有若干与所述电磁铁（11）相匹配的电控盒（12），所述壳体（1）外部一侧的顶端设置有电压调节器...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜丕刚，刘原麟，葛大伟，季本源，
申请(专利权)人：临沂中瑞防辐射科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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