电光装置、电子设备及电光装置的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及具有通过光刻处理等形成的隔离物和构成滤色器的着色层的液晶装置，可维持该液晶装置的显示画面被按压时的高耐压，并且即使在发生基板的组合偏移和对准时的位置偏移的情况下，也可以防止显示质量下降。该液晶装置包括：在基板（４ｂ）上形成的多个隔离物（１４）；在对置基板上形成的多个Ｒ色着色层（１８Ｒ）、Ｇ色着色层（１８Ｇ）和Ｂ色着色层（１８Ｂ）；以及在这些着色层之间设置的遮光层（１７）。将多个隔离物（１４）设置在各着色层（１８）的周围，对应各着色层将尺寸设定为Ｚｇ＜Ｚｂ及Ｚｇ＜Ｚｒ，优选设定为Ｚｇ＜Ｚｒ＜Ｚｂ。即使产生基板的组装偏移，也可以抑制隔离物（１４）进入Ｇ色区域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有由R、G、B各色着色层构成的滤色器和使用光刻处理等的图案形成法形成的多个隔离物的电光装置及电子设备。此外，本专利技术涉及用于制造这种电光装置的电光装置制造方法。
技术介绍
液晶装置一般在一对基板之间介入液晶层，以作为显示的最小单位的每个显示点来控制该液晶层内存在的液晶分子的取向，通过该液晶分子在每个显示点调制通过液晶层的光，从而在沿光的行进方向的液晶层的下游侧位置上显示字符、数字、图案等的图像。在这种液晶装置中，为了形成液晶层，在一对基板间需要形成间隙、即所谓的盒间隙。为了形成这种盒间隙，以往已知在一对基板的一个上散布作为球状部件的隔离物(スペ一サ)后，将一对基板进行贴合的结构。此外，最近，提出通过利用光刻处理等图案形成法，在一个基板上形成多个突起状的隔离物，将该隔离物夹置在中间来贴合一对基板的结构。这样的隔离物也被称为柱状隔离物。这样，在通过光刻处理等来形成隔离物的情况下，由于在该隔离物的周围液晶分子的取向混乱，所以容易发生透光等显示不良，因此，大多将隔离物形成在作为非显示区域的遮光区域中，即所谓的黑掩模(ブラツクマスク)区域。此外，在具有通过光刻处理等形成的隔离物的液晶装置中，用于确定液晶分子的取向的取向膜一般在基板上形成了多个隔离物后，在该隔离物上通过印刷等来设置。然后对该取向膜进行取向处理，例如进行摩擦。在进行这种摩擦的情况下，如果取向膜在隔离物的部位突出，则难以进行均匀的摩擦。例如，从摩擦方向上看在隔离物的下游侧产生摩擦不充分的区域。这样，为了即使在因隔离物的存在而产生摩擦不充分的区域情况下也确保对比度高的显示，提出了各种方法。例如，已知通过将本身为不有助于显示的区域的黑掩模与摩擦不充分的区域一致地形成来防止显示质量下降的技术。此外，还已知以使R像素或B像素从摩擦方向上看在隔离物的下游侧的方式形成隔离物的液晶装置。可是，如果按压液晶装置的显示画面，则会因盒间隙变化而使显示混乱的危险。此外，有时液晶装置的面板结构会破损。为了防止这种情况的发生，增多隔离物的数目，增大各个隔离物的平面截面尺寸是有效的。但是，如果无限制地增多隔离物的数目，无限制地增大各个隔离物的平面截面尺寸，则以下情况会成为的严重问题。在制造液晶装置时，例如实施在一对基板的一方上形成滤色器，在另一方上形成隔离物，将隔离物夹在中间地贴合两个基板，往由隔离物维持的基板间隙中注入液晶而形成液晶层等一连串工序。这种情况下，在贴合一对基板时，这些基板的相对位置平面看有时会偏移。如果这样，将产生本来应该存在于黑掩模的部位、即遮光区域的隔离物实际上却位于滤色器的着色层部分的情况，因此，有发生对比度下降等的显示质量下降的危险。此外，作为另一结构的液晶装置，有在一对基板的一方上形成滤色器，在同一基板上还形成隔离物的液晶装置。在制造这种液晶装置时，以在基板上的合适部位上形成的对准标记作为基准，在规定位置上形成滤色器，然后，以相同对准标记或其他对准标记作为基准，在规定位置上形成隔离物。这种情况下，在以对准标记作为基准的定位时，有时该位置会偏移。如果这样，将产生本来应该存在于黑掩模的部位、即遮光区域的隔离物实际上却位于滤色器的着色层部分的情况，因此，有发生对比度下降等的显示质量下降的危险。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而完成的专利技术，涉及以具有通过光刻处理等形成的隔离物和构成滤色器的着色层的液晶装置为代表的电光装置，目的在于维持该电光装置的显示画面被按压时的高耐压，同时即使在产生基板的组装偏移和对准时的位置偏移等情况下，也可以防止显示质量下降。(1)为了实现上述目的，本专利技术的电光装置，特征在于，包括相互对置的一对基板；设置在该一对基板的任何一个上，平面看以规定排列方式排列的多个R色着色层、多个G色着色层和多个B色着色层；在所述多个R色着色层、G色着色层和B色着色层之间设置的遮光层；以及设置所述一对基板的任何一个上，向对置的基板突出的多个隔离物；将所述多个隔离物设置在①所述G色着色层周围的所述遮光层内和所述B色着色层周围的所述遮光层内；或②所述G色着色层周围的所述遮光层内和所述R色着色层周围的所述遮光层内；或③所述G色着色层周围的所述遮光层内、所述B色着色层周围的所述遮光层内和所述R色着色层周围的所述遮光层内；而且，设所述G色着色层周围的隔离物的所述遮光层的宽度方向尺寸为Zg，所述B色着色层的所述遮光层的宽度方向尺寸为Zb，所述R色着色层的所述遮光层的宽度方向尺寸为Zr时，Zg＜Zb及Zg＜Zr。根据这种电光装置，在两色的着色层的周围或三色的着色层的周围设置隔离物，所以与仅在一色的着色层的周围设置隔离物的情况相比，可以维持电光装置的面板结构部分的高耐压。此外，根据这种电光装置，将G色着色层周围设置的隔离物形成得比B色着色层和/或R色着色层周围设置的隔离物小，所以假如在电光装置的制造时产生基板的组装偏移、对准时的位置偏移等情况下，即使有时隔离物进入B色着色层或R色着色层区域，也不能进入G色着色层区域。可是，在人观察R、G、B各色光的情况下，已知即使这些光的能量相同，感觉亮度也因波长而有所不同。具体地说，即使R、G、B各色光的能量相同，它们的亮度也为G＞R＞B。这意味着在G色区域中产生某种变化时与在R色区域或B色区域中产生某种变化时相比，人感觉的亮度变化非常大。在以上所述的本专利技术的电光装置中，即使是因基板的组装偏差等而使隔离物的位置产生偏移时，隔离物也不进入亮度变化大的G色区域，即使进入着色区域，该着色区域也仅限于B色或R色，所以亮度没有大的变化。因此，可以抑制对比度的下降。而且，由于将B色着色层和R色着色层周围的隔离物的平面截面尺寸尽量大地设定，所以可以维持面板结构的高耐压。(2)在上述结构的电光装置中，优选地，将R色着色层周围的隔离物的平面截面尺寸Zr设定得比B色着色层周围的平面截面尺寸Zb小，即优选地设定为Zr＜Zb。对于光的三基色R、G、B来说，即使各色光的能量相同，它们的亮度也为G＞R＞B。因此，与隔离物进入B色着色层的情况相比，隔离物进入R色着色层的情况使显示的对比度下降的可能性高。因此，如果设定为Zr＜Zb，则在有基板的组装偏移等时可以减小隔离物进入R色着色层的可能性，所以有利于防止基板的组装偏移等的显示恶化。(3)在上述结构的电光装置中，设R、G、B三个显示点集中的一像素的面积为A，一个所述隔离物的平面截面积为S，一像素内存在的所述隔离物的数目为ρ时，优选地，隔离物与像素的面积比R为R＝(ρ×S)/A＞2×10-3。由此，可以在实用上维持电光装置的面板结构的按压时的充分的高耐压。(4)在上述结构的电光装置中，在所述遮光层的宽度约为10μm时，优选Zg6μm、Zr10μm、Zb14μm。这种尺寸是将制造电光装置时的基板组装偏移抑制在4μm或其以下时所优选的尺寸。(5)在上述结构的电光装置中，优选地，所述隔离物形成在与设置了所述R色着色层、所述G色着色层和所述B色着色层的基板对置的基板上。在这种电光装置中，在贴合一对基板时，确定隔离物和各色着色层之间的相对位置关系。在基板贴合时产生位置偏移的情况下，虽然隔离物进入B色着色层的区域和R色着色层的区域的可能性大，但进入G色着色层的区域的可能性被抑制得很低。由此，可以防止本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电光装置，包括：相互对置的一对基板；设置在该一对基板的任何一个上、平面看以规定排列方式排列的多个Ｒ色着色层、多个Ｇ色着色层和多个Ｂ色着色层；在所述多个Ｒ色着色层、Ｇ色着色层和Ｂ色着色层之间设置的遮光层；以及设置在所述一对基板的任何一个上、向对置的基板突出的多个隔离物；其中，所述多个隔离物，（１）设置在所述Ｇ色着色层周围的所述遮光层内和所述Ｂ色着色层周围的所述遮光层内，或者（２）设置在所述Ｇ色着色层周围的所述遮光层内和所述Ｒ色着色层周围的所述遮光层内，或者（３）设置在所述Ｇ色着色层周围的所述遮光层内、所述Ｂ色着色层周围的所述遮光层内和所述Ｒ色着色层周围的所述遮光层内；当将所述Ｇ色着色层周围的隔离物的所述遮光层的宽度方向尺寸设为Ｚｇ，将所述Ｂ色着色层的所述遮光层的宽度方向尺寸设为Ｚｂ，将所述Ｒ色着色层的所述遮光层的宽度方向尺寸设为Ｚｒ时，Ｚｇ＜Ｚｂ且Ｚｇ＜Ｚｒ。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：田口聪志，麻田宏司，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]