用于放射治疗机测量的一维水箱制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于放射治疗机测量的一维水箱，包括第一箱体、电离室适配器、排水软管、水位器，电离室适配器安装于所述第一箱体内，电离室适配器具有贯穿至所述第一箱体的侧壁的容纳腔，容纳腔用于放置电离室，第一箱体的侧壁上开设有排水孔，排水软管的第一端与排水孔连通，排水软管的第二端设置有出水平台，所述水位器上设置有多个凹槽，每个所述凹槽具有预设高度，所述凹槽用于容置所述出水平台，使得所述出水平台上表面具有预设高度。该用于放射治疗机测量的一维水箱解决了第一箱体内水面高度测量的局限性，使用时无需操作者通过眼睛来观察水面高低，缩短了测量时间，减少了人为测量误差。少了人为测量误差。少了人为测量误差。

【技术实现步骤摘要】
用于放射治疗机测量的一维水箱


[0001]本技术涉及医疗器械
，特别涉及一种用于放射治疗机测量的一维水箱。

技术介绍

[0002]目前，肿瘤放射治疗是应用高能X射线，并通过射线的聚焦来处理肿瘤细胞的一种治疗方法。高能射线的能量和剂量会发生变化，必须借助电离室和测量水箱对高能X射线进行定量检测，它是保证精确肿瘤放射治疗剂量的必须步骤。
[0003]现有的普通水箱，放射治疗物理技术人员将水箱中的电离室测量中心放置在电离室适配器中心轴的位置，再在水箱中注水到不同深度进行射线能量测量和射线剂量标定。现有的测量水箱存在缺陷：测量中要改变测量深度时靠人眼观察水平面的高低与箱体深度刻度线重合性，往往不同的人、甚至同一人不同时间，眼睛处在的高低位置不同看出水平面的高低也不同，这样就人为地造成了测量误差，而且现有水箱只能针对特定高度的水平面进行测量，造成测量的局限性。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种用于放射治疗机测量的一维水箱，该用于放射治疗机测量的一维水箱能够改善依靠眼睛观察调整液面高度带来测量误差，并且改善因只有几种液面高度而产生的测量局限的问题。
[0005]本技术是通过以下技术方案实现的：
[0006]本技术的一方面提供一种用于放射治疗机测量的一维水箱，包括第一箱体、电离室适配器、排水软管和水位器；
[0007]所述电离室适配器安装于所述第一箱体内，且所述电离室适配器具有贯穿所述第一箱体一侧壁的容纳腔，所述容纳腔用于放置电离室；
[0008]所述第一箱体的侧壁上开设有排水孔，所述排水软管的第一端与所述排水孔连通，所述排水软管的第二端设置有出水平台，所述水位器上设置有多个凹槽，每个所述凹槽具有预设高度，所述凹槽用于容置所述出水平台，使得所述出水平台上表面具有预设高度。
[0009]如上所述用于放射治疗机测量的一维水箱，还包括支撑台，所述支撑台上具有预设高度的台阶，所述台阶用于支撑所述水位器，其中，当所述水位器置于所述支撑台最底部的台阶上时，所述水位器最底部凹槽的顶面的高度与所述电离室适配器的中心线的高度相同。
[0010]如上所述用于放射治疗机测量的一维水箱，在竖直方向上相邻两个所述凹槽顶面之间的距离为1cm，所述支撑台上相邻两个所述台阶之间的距离为1mm。
[0011]如上所述用于放射治疗机测量的一维水箱，所述出水平台的形状与所述凹槽的形状相匹配。
[0012]如上所述用于放射治疗机测量的一维水箱，所述凹槽的外侧设置有刻度标识；所
述支撑台的每个台阶上设置有刻度标识。
[0013]如上所述用于放射治疗机测量的一维水箱，所述水位器的底部设置有第一支腿和第二支腿，所述支撑台包括第一支撑台和第二支撑台，所述第一支撑台用于支撑第一支腿，所述第二支撑台用于支撑第二支腿，所述第一支撑台和第二支撑台上均设置有所述台阶。
[0014]如上所述用于放射治疗机测量的一维水箱，还包括第二箱体，所述第二箱体与所述第一箱体通过设置有所述排水孔的侧壁隔开，所述排水软管以及所述支撑台均位于所述第二箱体内。
[0015]如上所述用于放射治疗机测量的一维水箱，所述第一箱体和所述第二箱体的底部均安装有排水阀门。
[0016]如上所述用于放射治疗机测量的一维水箱，所述第一箱体和/或所述第二箱体上安装有水平仪。
[0017]如上所述用于放射治疗机测量的一维水箱，所述第一箱体和所述第二箱体的底部均安装有水平调节结构；
[0018]所述水平调节结构包括调节螺杆和调节螺母。
[0019]本技术的用于放射治疗机测量的一维水箱，第一箱体内的水通过排水孔、软管、出水平台上表面流出，水位器上设置有多个凹槽，每个凹槽在竖直方向上具有预设高度，凹槽用于容置所述出水平台，通过改变出水平台的高度，根据连通器原理，可以改变第一箱体内的水平面的高度，解决了第一箱体内水平面测量高度的局限性，凹槽在竖直方向上具有预设高度，使用时不用人眼来观察水面高低，缩短测量时间，减少了人为测量误差。
附图说明
[0020]构成本技术的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0021]图1为本技术实施例提供的用于放射治疗机测量的一维水箱的结构示意图；
[0022]图2为本技术实施例提供的用于放射治疗机测量的一维水箱的水位器的结构示意图；
[0023]图3为本技术实施例提供的用于放射治疗机测量的一维水箱的支撑台的结构示意图。
[0024]附图标记说明：
[0025]1-第一箱体；
[0026]2-电离室适配器；
[0027]3-排水软管；
[0028]4-水位器；
[0029]5-电离室；
[0030]6-支撑台；
[0031]7-第二箱体；
[0032]8-排水阀门；
[0033]9-水平仪；
[0034]10-水平调节结构；
[0035]11-排水孔；
[0036]31-出水平台；
[0037]41-凹槽；
[0038]42-第一支腿；
[0039]43-第二支腿；
[0040]61-台阶；
[0041]62-第一支撑台；
[0042]63-第二支撑台。
具体实施方式
[0043]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0044]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0045]应当理解，本文中使用的术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。
[0046]本技术基于以上问题提出一种用于放射治疗机测量的一维水箱。
[0047]下面结合具体实施例对本技术提供的用于放射治疗机测量的一维水箱进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于放射治疗机测量的一维水箱，其特征在于，包括第一箱体、电离室适配器、排水软管和水位器；所述电离室适配器安装于所述第一箱体内，且所述电离室适配器具有贯穿所述第一箱体一侧壁的容纳腔，所述容纳腔用于放置电离室；所述第一箱体的侧壁上开设有排水孔，所述排水软管的第一端与所述排水孔连通，所述排水软管的第二端设置有出水平台，所述水位器上设置有多个凹槽，每个所述凹槽具有预设高度，所述凹槽用于容置所述出水平台，使得所述出水平台上表面具有预设高度。2.根据权利要求1所述的用于放射治疗机测量的一维水箱，其特征在于，还包括支撑台，所述支撑台上具有预设高度的台阶，所述台阶用于支撑所述水位器，其中，当所述水位器置于所述支撑台最底部的台阶上时，所述水位器最底部凹槽的顶面的高度与所述电离室适配器的中心线的高度相同。3.根据权利要求2所述的用于放射治疗机测量的一维水箱，其特征在于，在竖直方向上相邻两个所述凹槽顶面之间的距离为1cm，所述支撑台上相邻两个所述台阶之间的距离为1mm。4.根据权利要求3所述的用于放射治疗机测量的一维水箱，其特征在于，所述出水平台的形状与所述凹槽的形状相匹配。5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：张松方，张佳斐，
申请(专利权)人：张松方，
类型：新型
国别省市：