药害减轻剂制造技术

本发明专利技术涉及通过在结缕草、小麦、玉米、油菜籽、水稻、大豆等有益植物的栽培时施用含有四唑吡氨酯和除草活性成分的药害减轻组合物、或者在施用除草活性成分的同时施用四唑吡氨酯来减轻除草活性成分所致的对有益植物的伤害并防除杂草的方法。并防除杂草的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】药害减轻剂


[0001]本专利技术涉及药害减轻剂、药害减轻组合物、防除杂草的方法、以及减轻除草活性成分所致的对有益植物的伤害并防除杂草的方法。
[0002]本申请基于2018年5月16日在日本申请的日本特愿2018－094483号主张优先权，并将其内容援引于此。

技术介绍

[0003]杂草会剥夺有益植物所需的养分，或者高度增长而遮挡太阳的光，成为生长不良的原因。为了防除杂草而使用除草剂。但是，除草剂不仅危害杂草，有时还会危害有益植物。作为减轻对有益植物的药害并防除杂草的制剂，已知有解草啶、解草唑等除草剂用药害减轻剂。
[0004]作为与本专利技术相关的技术，专利文献1公开了一种含有四唑肟衍生物作为有效成分的植物生长促进剂。专利文献1记载了能够将该四唑肟衍生物与各种公知惯用的农业园艺用杀菌剂、植物生长调节剂、杀虫剂、杀螨剂等农药、肥料等混合使用。然而，并没有记载能够与除草剂混用，以及具有由除草剂所致的药害的减轻效果。
[0005]专利文献2和3公开了一种含有杀菌剂肟基四唑(hydroximoyl-tetrazole，
ヒドロキシモイル
－
テトラゾール
)衍生物、增量剂和/或表面活性剂、和选自杀虫剂、引诱剂、不孕剂、杀细菌剂、杀螨剂、杀线虫剂、杀菌剂、生长调节剂、除草剂、肥料、药害减轻剂和信息化学物质中的至少1个活性成分的杀菌剂组合物。然而，并没有记载杀菌剂肟基四唑衍生物发挥药害减轻效果，而且也没有引起这样的效果的记载。
[0006]专利文献4记载了能够将四唑肟衍生物与各种公知惯用的农业园艺用杀菌剂、除草剂、植物生长调节剂、杀虫剂、杀螨剂等农药、肥料等混合使用。然而，没有四唑肟衍生物发挥药害减轻效果的记载，而且，也没有引起这样的效果的记载。
[0007]尚不知晓这样已知为杀菌剂的化合物具有减轻由除草剂所致的药害的效果。另外，也不知晓四唑肟衍生物具有减轻由除草剂所致的药害的效果。
[0008]专利文献1：WO2010/001563A
[0009]专利文献2：日本特表2014－512358号公报
[0010]专利文献3：日本特表2014－509599号公报
[0011]专利文献4：日本特开2003－137875号公报

技术实现思路

[0012]本专利技术的课题在于提供药害减轻剂、药害减轻组合物、防除杂草的方法、以及减轻除草活性成分所致的对有益植物的伤害并防除杂草的方法。
[0013]作为用于解决上述课题的方法，完成了包含以下方式的本专利技术。
[0014]〔1〕一种除草剂用药害减轻剂，是含有四唑吡氨酯(
ピカルブトラゾクス
)而成的。
[0015]〔2〕一种药害减轻组合物，含有四唑吡氨酯和除草活性成分。
[0016]〔3〕根据上述〔2〕所述的药害减轻组合物，其中，进一步含有表面活性剂。
[0017]〔4〕一种减轻上述药害减轻组合物中含有的除草活性成分所致的对有益植物的伤害并防除杂草的方法，包括：在有益植物的栽培时，施用上述〔2〕或〔3〕所述的药害减轻组合物。
[0018]〔5〕一种减轻上述除草活性成分所致的对有益植物的伤害并防除杂草的方法，包括：在有益植物的栽培时，施用除草活性成分，同时施用四唑吡氨酯。
[0019]〔6〕一种减轻上述除草活性成分所致的对有益植物的伤害并防除杂草的方法，包括：在有益植物的栽培时，施用除草活性成分，接着，施用四唑吡氨酯。
[0020]〔7〕一种减轻上述除草活性成分所致的对有益植物的伤害并防除杂草的方法，包括：在有益植物的栽培时，施用四唑吡氨酯，接着，施用除草活性成分。
[0021]〔8〕根据上述〔4〕～〔7〕中任一项所述的方法，其中，有益植物为结缕草、小麦、玉米、油菜籽、水稻或大豆。
[0022]本专利技术的除草剂用药害减轻剂能够减轻除草剂等中含有的除草活性成分所致的对有益植物的伤害。
[0023]根据本专利技术的药害减轻组合物和除草方法，能够在不阻碍结缕草、小麦、玉米、油菜籽、水稻、大豆等有益植物生长的情况下防除其周边繁茂的杂草。
具体实施方式
[0024]((A)四唑吡氨酯)
[0025]本专利技术的除草剂用药害减轻剂是含有四唑吡氨酯而成的。
[0026]四唑吡氨酯为式(I)表示的化合物(CAS号500207－04－5)。本专利技术的除草剂用药害减轻剂可以直接为四唑吡氨酯，也可以为制成粉剂、粒剂、可湿性粉剂、可溶性粉剂、水分散性颗粒剂、可溶性颗粒剂、流动剂、乳剂等各种剂型的制剂。当制剂化时，可以使用公知的添加剂、载体。制剂化的四唑吡氨酯可以使用市售的产品，已知有Quintect(注册商标)水分散性颗粒剂(含有20质量％的产品，日本曹达公司制)、Pisi Rock(注册商标)流动剂(含有5质量％的产品，日本曹达公司制)、Nae Fine(注册商标)粉剂(含有0.7质量％的产品，日本曹达公司制)等。
[0027][0028](药害减轻组合物)
[0029]本专利技术的药害减轻组合物含有四唑吡氨酯和除草活性成分。
[0030]本专利技术中使用的除草活性成分只要能够防除杂草，就没有特别限制，例如，为农业园艺用除草剂等中含有的成分。
[0031]((B)除草活性成分)
[0032]作为除草活性成分的具体例，
[0033]可以举出2,4－D、2,4－DB、2,4－DP、MCPA、MCPB(MCPB-乙基)、MCPP(mecoprop，2-甲-4-氯丙酸)、稗草胺(clomeprop)等苯氧系；2,3,6－TBA、麦草畏(dicamba)、草灭平(chloramben)等苯甲酸系；毒莠定(picloram)、绿草定(triclopyr)、二氯吡啶酸(clopyralid)、氯氨吡啶酸(aminopyralid)、氟草定(fluroxypyr)等吡啶羧酸系；二氯喹啉酸(quinclorac)、氯甲喹啉酸(quinmerac)等喹啉羧酸系、以及草除灵(benazolin)等通过干扰植物激素作用而表现出除草效力的除草活性成分(作用部位：吲哚乙酸样活性，除草剂抗性行动委员会(Herbicide Resistance ActionCommittee)的分类(以下，“HRAC分类”)：O)；
[0034]抑草生(naptalam)、氟吡草腙(diflufenzopyr)等邻甲酰胺苯甲酸酯缩氨基脲(
フタラメートセミカルバゾン
)系等通过抑制植物生长素迁移而表现出除草效力的除草活性成分(作用部位：生长素迁移抑制，HRAC分类：P)；
[0035]绿麦隆(chlorotoluron)、敌草隆(diuron)、伏草隆(fluometuron)、利谷隆(linuron)、异丙隆(isoproturon)、特丁噻草隆(tebuthiuron)、异恶隆(isouron)、环草隆(siduron)、枯草隆(chloroxuron)、氯溴隆(chlorbromuron)、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种除草剂用药害减轻剂，是含有四唑吡氨酯而成的。2.一种药害减轻组合物，含有四唑吡氨酯和除草活性成分。3.根据权利要求2所述的药害减轻组合物，其中，进一步含有表面活性剂。4.一种减轻药害减轻组合物中含有的除草活性成分所致的对有益植物的伤害并防除杂草的方法，包括：在有益植物的栽培时施用权利要求2或3所述的药害减轻组合物。5.一种减轻除草活性成分所致的对有益植物的伤害并防除杂草的方法，包括：在有益植物的栽培时...

【专利技术属性】
技术研发人员：池田庸二，羽山大介，山田茂雄，
申请(专利权)人：日本曹达株式会社，
类型：发明
国别省市：