缺陷修正装置及其缺陷修正方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种缺陷修正装置及其缺陷修正方法。该缺陷修正装置包括：缺陷检测部（４１），通过与参照图像的比较，检测在基板上产生的缺陷；禁止区域设定部（３９），对位于驱动电路元件（２３）上或布线（２１、２２）上的缺陷设定修正的禁止区域（ＫＡ）；修正区域设定部（４４），将除了落在禁止区域（ＫＡ）上的部分以外的缺陷部分和与禁止区域（ＫＡ）无关的缺陷设定为修正区域；优先级设定部（５），对修正区域设定修正顺序的优先级；以及修正部（３１），根据优先级修正缺陷。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种修正液晶显示用基板上或半导体基板上的缺陷部分的。
技术介绍
一般地，在用于液晶显示器的玻璃基板上形成电路元件和布线时，存在因制造装置内的环境例如因微粒、薄膜形成时的析出或曝光不良等原因而产生缺陷的情况。作为现有的缺陷检测方法，例如，分别公开在日本的特开平4-316346号公报或特开平10-253332号公报中。特开平4-316346号公报的缺陷检测方法是，通过图像传感器将周期性地排列的图形作为图像数据读取，并与正常的图像数据(电路图形)进行比较，将不同的部分作为缺陷检测出来。此外，特开平10-253332号公报的缺陷检测方法是，扫描周期排列的图形，通过图像传感器作为第一图像读取，并得到相对于此第一图像延迟一个周期的第二图像和延迟两个周期的第三图像，通过进行同一时刻的第一图像和第二图像的比较、以及第二图像和第三图像的比较，从而检测出图形的缺陷。在产品作为成品生产出来时，这些缺陷因电气短路和断线会引起误动作，就会担心产品成为不合格品。为此，在制造工序中进行将这些缺陷检测出来、并用激光照射其不合格位置以便进行修复的缺陷检测及修正。这些众所周知的缺陷修正方法是，在对检测出的缺陷实施修正时、仅是有缺陷就进行修正的手法。当存在与为修理而照射激光的缺陷的下侧接触的电路元件或布线的情况下，有可能同缺陷一起损伤或除去电路元件或布线、而产生新的缺陷的可能性。因此，在基板上检测出缺陷的情况下，把握与电路元件之间的位置关系，为了不对电路元件和布线产生损伤，优选进行是否照射激光的判断、照射光量及照射区域的调整。此外，在修正所需的时间有限制的情况下，分选出对动作和性能会产生影响的重大缺陷、和在后续制造工序中可修正的缺陷或对不影响性能的缺陷，并赋予它们的优先级的顺序来进行有效处理。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种缺陷修正装置和缺陷修正方法，检测出基板上的缺陷，并根据产生缺陷的电路上的位置和缺陷状态，设定用于修正的优先顺序及照射禁止区域，并根据此设定实施缺陷的修正。为了实现上述目的，本专利技术提供一种通过激光的照射修正基板上的缺陷的缺陷修正装置，其包括缺陷检测部，检测上述基板上的缺陷；照射禁止区域设定部，在上述基板上设定禁止上述激光的照射的照射禁止区域；修正区域设定部，判别由上述缺陷检测部检测出的上述缺陷是否与上述照射禁止区域有关，对于判定为与该照射禁止区域有关的缺陷，在除了其照射禁止区域上方以外的缺陷部分设定激光照射区域；优先级设定部，对上述激光照射区域和与上述照射禁止区域无关的缺陷，设定修正顺序的优先级；以及缺陷修正部，根据上述优先级，对缺陷照射上述激光进行修正。此外，提供一种缺陷修正方法，通过激光的照射修正基板上的缺陷，其包括缺陷检测工序，检测上述基板上的缺陷；照射禁止区域设定工序，在上述基板上设定禁止上述激光的照射的照射禁止区域；照射禁止区域判别工序，判别上述缺陷检测工序中出现的上述缺陷是否与上述照射禁止区域有关；修正区域设定工序，对于在上述照射禁止区域工序中判定为与上述照射禁止区域有关的缺陷，在除了该照射禁止区域上方以外的缺陷部分设定激光照射区域；优先级设定工序，对上述激光照射区域和与上述照射禁止区域无关的缺陷，设定修正顺序的优先级，并设定修正位置数量；以及缺陷修正工序，根据上述优先级，对缺陷照射上述激光进行修正。附图说明图1是表示根据本专利技术的第一实施方式的缺陷修正装置的示意性方框图。图2是表示修正对象的基板的示意性俯视图。图3是表示优先区域的示意图。图4是表示图3中的基板上的图形的示意图。图5是表示对于图4中的图形上的缺陷重合了位置的优先区域的示意图。图6是简要示出了具有第一实施方式的缺陷检测功能的缺陷修正装置的方框图。图7是表示基板的示意图。图8是表示图7中的基板中的没有缺陷的图形的示意图。图9是表示设定了激光修复禁止区域的参照图像的示意图。图10是表示包含缺陷的图形的示意图。图11是简要示出了根据第2实施方式的缺陷修正装置的方框图。图12是表示设定了多个激光修复禁止区域的参照图像的示意图。图13是表示具有缺陷且设定了处理区域的图形的示意图。图14是表示修正了图13中的缺陷部之后的图形的示意图。图15是表示设定了处理区域的图形的示意图。图16是表示具有缺陷的图形的示意图。最佳实施方式下面，将参照附图来详细说明本专利技术的实施方式。首先，说明利用本专利技术的第一实施方式的缺陷修正装置对多个被检测出的缺陷设置修正优先级的缺陷修正方法。图1是表示用于实现此缺陷修正方法的缺陷修正装置的简要构成例子的方框图。此外，图2是表示修正缺陷的基板的一个例子的示意图。此外，以下记载的图元(或像素)是指，包含以矩阵状配置在基板上、例如在液晶显示器(LCD)的玻璃基板上形成的周围被布线等围绕的发光部分的重复图形的最小单位。此外，成为进行此缺陷修正的对象的缺陷是，以用于液晶显示器(LCD)的玻璃基板(以下简称为基板)在利用抗蚀剂掩膜曝光构图的光刻法工序中产生的缺陷作为例子。如图2所示，此基板以正交方式形成扫描线21和信号(数据)线22，并在由这些布线所包围的部分设置有TFT等电路元件23。此外，为了说明，如图2所示，假设在此基板上存在缺陷24a、24b、24c。图3表示由围绕周围的扫描线21和数据线(信号线)22构成的1个图元的结构，此图元构成以矩阵状重复配置的图形、所谓的重复图形。如图1所示的缺陷修正装置1大致由的修正部2、控制部3、修正区域设定部4构成。修正部2输出用于修正缺陷的激光以便修正缺陷。此修正部2根据缺陷的大小等，可任意改变输出的激光的能量密度(光强度)、照射区域(面积)、及照射面形状。控制部3与修正部2及修正区域设定部4连接，并控制它们。修正区域设定部4由摄像部6、存储器8、缺陷检测部7、特征提取部9及优先级设定部5构成。其中，摄像部6可以是以线状排列CCD等拍摄元件的线型摄像部，也可以是以二维配置拍摄元件的平面型摄像部。而且，摄像部6具有可在XY方向上移动扫描的结构，能够对整个基板进行摄像。此外，摄像部6如果能够拍摄基板的宽度尺寸，那么也可以通过在一个轴向上扫描基板来拍摄整个基板。此外，摄像部6与存储器8连接，将拍摄到的图像数据保存在存储器8内。利用日本特开平4-316346号公报、特开平10-25332号公报中记载的公知的缺陷检测方法，缺陷检测部7从图像数据中获取基板上的缺陷。具体地说，缺陷检测部7从存储器8中读取由摄像部6拍摄的图像数据，并与预先存储的作为判断是否合格的基准的基准图像(参照图像)图形进行比较，将存在差异的区域判别为缺陷，并将此缺陷数据保存在存储器8中。此外，还存在缺陷不仅仅涉及1个图元、而是跨越多个图元来构成一个缺陷的情况。在这种情况下，缺陷检测部7就将邻接的缺陷像素群作为一组进行标记。将此标记的缺陷作为由各像素(缺陷像素)的位置信息和拍摄得到的亮度值信息构成的缺陷数据保存到存储器8。特征提取部9从存储器8读取缺陷数据，并提取各个缺陷特征。作为此缺陷特征，可以是缺陷的大小、形状、拍摄得到的亮度值及缺陷的位置信息中的任何一种或由它们的组合。优先级设定部5具有缺陷判别部10和优先顺序设定部11。缺陷判别部10首先进行初始设定。即，在进行判定时，预先进行在是否判别中使用的判别基准的设定。缺本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种缺陷修正装置，通过激光的照射修正基板上的缺陷，其特征在于，包括：　　　　缺陷检测部，检测上述基板上的缺陷；　　　　优先级设定部，对由上述缺陷检测部检测出的上述缺陷，设定修正顺序的优先级；以及　　　　修正部，根据上述优先级，对缺陷照射上述激光进行修正。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：堀内一仁，秋山周次，阿部政弘，大西孝明，
申请(专利权)人：奥林巴斯株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]