显示面板和显示装置制造方法及图纸

技术编号:27113040 阅读:27 留言:0更新日期:2021-01-25 19:10
本发明专利技术公开了一种显示面板和显示装置,涉及显示技术领域,显示面板包括:阵列基板、彩膜基板,以及液晶层;阵列基板包括第一衬底基板、第一触控线和多个像素单元;彩膜基板包括第二衬底基板、黑矩阵和多个色阻单元;第一黑矩阵包括多个第一子部和多个第二子部,第一子部与第一触控线一一对应,第一触控线在第一衬底基板的垂直投影位于与其对应的第一子部在第一衬底基板的垂直投影内,第一触控线在第一衬底基板的垂直投影与第二子部在第一衬底基板的垂直投影不交叠;在第二方向上,第一子部的宽度大于第二子部的宽度。本发明专利技术在减小斜视暗态漏光、提升视角能力的同时,减小对显示装置中像素开口率的影响。像素开口率的影响。像素开口率的影响。

【技术实现步骤摘要】
显示面板和显示装置


[0001]本专利技术涉及显示
,更具体地,涉及一种显示面板和显示装置。

技术介绍

[0002]随着显示技术的快速发展,用户对显示装置的性能的需求也越来越高, 具有触控功能的显示装置应运而生。目前,通常将触控电极集成于显示装 置的显示面板中以使显示装置具有触控功能。现有技术中,通过设置触控 线给与其对应的触控电极提供电信号,为了防止断线或减小触控线的阻抗, 通常将触控线的线宽做加大处理。
[0003]但是,阵列基板中触控线相应处膜层为凸起状态,会造成触控线上方 的液晶偏转,当触控线的线宽做加大处理时,现有的显示面板中黑矩阵的 设计无法阻挡穿过该偏转的液晶的光线,该光线与正常显示区的光线不同, 产生相位延迟与偏光片补偿膜的补偿效果不匹配,造成斜视暗态漏光,视 角能力降低。且当触控线的线宽做加大处理时,当阵列基板和彩膜基板对 位贴合产生偏差时,容易造成触控线露出,造成环境光在触控线上反射, 影响显示装置的显示效果。
[0004]为了改善触控线的线宽做加大处理造成的斜视暗态漏光,将黑矩阵的 宽度增大,对漏光进行遮挡,但是,黑矩阵的宽度增大会造成像素的开口 率减小,影响显示装置的显示效果。

技术实现思路

[0005]有鉴于此,本专利技术提供了一种显示面板和显示装置,在减小斜视暗态 漏光、提升视角能力的同时,减小对显示装置中像素开口率
[0006]的影响,提高显示装置的显示效果。
[0007]第一方面,本专利技术提供一种显示面板,包括:相对设置的阵列基板和 彩膜基板,以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层;阵列基板包括第 一衬底基板、多条沿第一方向延伸的第一触控线和呈阵列排布的多个像素 单元,第一触控线和像素单元位于第一衬底基板靠近彩膜基板一侧;彩膜 基板包括第二衬底基板、黑矩阵和呈阵列排布的多个色阻单元,黑矩阵和 色阻单元位于第二衬底基板靠近阵列基板一侧,黑矩阵包括沿第一方向延 伸的第一黑矩阵和沿第二方向延伸的第二黑矩阵,第一黑矩阵与第二黑矩 阵连接限定多个开口,色阻单元位于开口内,色阻单元与像素单元一一对 应,其中,第一方向与第二方向相交;第一黑矩阵包括沿第二方向排列的 多个第一子部和多个第二子部,第一子部与第一触控线一一对应,第一触 控线在第一衬底基板的垂直投影位于与其对应的第一子部在第一衬底基板 的垂直投影内,第一触控线在第一衬底基板的垂直投影与第二子部在第一 衬底基板的垂直投影不交叠;在第二方向上,第一子部的宽度大于第二子 部的宽度。
[0008]第二方面,本专利技术提供一种显示装置,包括本专利技术提供的显示面板。
[0009]与现有技术相比,本专利技术提供的显示面板和显示装置,至少实现了如 下的有益效果:
[0010]本专利技术提供的显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,以及位 于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。阵列基板包括第一衬底基板,以及 设置于第一衬底基板靠近彩膜基板一侧的第一触控线和像素单元。彩膜基 板包括第二衬底基板、以及设置于第二衬底基板靠近阵列基板一侧的黑矩 阵和呈阵列排布的多个色阻单元,黑矩阵包括沿第一方向延伸的第一黑矩 阵和沿第二方向延伸的第二黑矩阵,第一黑矩阵与第二黑矩阵连接限定多 个开口,色阻单元位于开口内,色阻单元与像素单元一一对应,由阵列基 板中像素单元所在区域出射的光线经彩膜基板中与该像素单元对应的色阻 单元所在区域射出。彩膜基板中第一黑矩阵包括沿第二方向排列的多个第 一子部和多个第二子部,第一子部与第一触控线一一对应,第一触控线在 第一衬底基板的垂直投影位于与其对应的第一子部在第一衬底基板的垂直 投影内,第一触控线在第一衬底基板的垂直投影与第二子部在第一衬底基 板的垂直投影不交叠,在第二方向上,第一子部的宽度大于第二子部的宽 度,即第一子部做加宽处理,可对经过由于设置第一触控线造成的部分处 于偏转状态的液晶的光线进行遮挡,有效改善斜视暗态漏光,提高视角能 力。且第一子部做加宽处理,即使阵列基板和彩膜基板贴合偏差或相对位 移时,第一子部可对与其对应的第一触控线进行有效遮挡,减小显示面板 中光线的反射率。同时,阵列基板中与第二子部相对应处不设置第一触控 线,该处的液晶不发生偏转,因此,第二子部的宽度可做减小处理,在第 一子部做加宽处理的同时,保证开口的面积,从而保证了显示面板中的像 素的开口率,提高了显示面板的显示效果。
[0011]当然,实施本专利技术的任一产品不必特定需要同时达到以上所述的所有 技术效果。
[0012]通过以下参照附图对本专利技术的示例性实施例的详细描述,本专利技术的其 它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
[0013]被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本专利技术的实施 例,并且连同其说明一起用于解释本专利技术的原理。
[0014]图1是现有技术中显示面板的一种结构示意图;
[0015]图2是本专利技术提供的一种显示面板的平面示意图;
[0016]图3是图2所述的显示面板沿B-B

的一种剖面图;
[0017]图4是图2所述的显示面板沿B-B

的另一种剖面图
[0018]图5是本专利技术提供的另一种显示面板的平面示意图;
[0019]图6是图5所述的显示面板沿C-C

的一种剖面图;
[0020]图7是图5所述的显示面板沿C-C

的另一种剖面图;
[0021]图8是本专利技术提供的一种显示装置的平面结构示意图。
具体实施方式
[0022]现在将参照附图来详细描述本专利技术的各种示例性实施例。应注意到: 除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、 数字表达式和数值不限制本专利技术的范围。
[0023]以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的,决不作 为对本发
明及其应用或使用的任何限制。
[0024]对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨 论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
[0025]在这里示出和讨论的所有例子中,任何具体值应被解释为仅仅是示例 性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它例子可以具有不同的 值。
[0026]应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一 旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步 讨论。
[0027]为改善显示面板中触控线的线宽做加大处理时导致的斜视暗态漏光的 问题、以及因彩膜基板和阵列基板贴合偏差或相对位移而导致的反射率增 大的问题,专利技术人进行了如下的研究:图1是现有技术中显示面板的一种 结构示意图,显示面板包括相对设置的阵列基板1和彩膜基板2,以及位 于阵列基板1和彩膜基板2之间的液晶层3,阵列基板1中设有触控线4 和虚拟触控线5,因为设置有触控线4和虚拟触控线5,阵列基板1靠近彩 膜基板2一侧的绝缘层6上形成凸起,由于阵列基板1靠近彩膜基板2一 侧的绝缘层本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:相对设置的阵列基板和彩膜基板,以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层;所述阵列基板包括第一衬底基板、多条沿第一方向延伸的第一触控线和呈阵列排布的多个像素单元,所述第一触控线和所述像素单元位于所述第一衬底基板靠近所述彩膜基板一侧;所述彩膜基板包括第二衬底基板、黑矩阵和呈阵列排布的多个色阻单元,所述黑矩阵和所述色阻单元位于所述第二衬底基板靠近所述阵列基板一侧,所述黑矩阵包括沿所述第一方向延伸的第一黑矩阵和沿第二方向延伸的第二黑矩阵,所述第一黑矩阵与所述第二黑矩阵连接限定多个开口,所述色阻单元位于所述开口内,所述色阻单元与所述像素单元一一对应,其中,所述第一方向与所述第二方向相交;所述第一黑矩阵包括沿所述第二方向排列的多个第一子部和多个第二子部,所述第一子部与所述第一触控线一一对应,所述第一触控线在所述第一衬底基板的垂直投影位于与其对应的所述第一子部在所述第一衬底基板的垂直投影内,所述第一触控线在所述第一衬底基板的垂直投影与所述第二子部在所述第一衬底基板的垂直投影不交叠;在所述第二方向上,所述第一子部的宽度大于所述第二子部的宽度。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板还包括公共电极和第一绝缘层,所述公共电极位于所述第一触控线靠近所述彩膜基板的一侧,所述第一绝缘层位于所述公共电极靠近所述彩膜基板的一侧;所述公共电极包括多个第一狭缝,所述第一狭缝与所述第一触控线对应,所述第一触控线在所述第一衬底基板的垂直投影和与其对应的所述第一狭缝在所述第一衬底基板的垂直投影至少部分交叠;所述第一绝缘层包括多个第一凸起部,所述第一绝缘层朝向所述彩膜基板的方向凸出形成所述第一凸起部,所述第一凸起部与所述第一子部一一对应,所述第一凸起部在所述第一衬底基板的垂直投影位于与其对应的所述第一子部在所述第一衬底基板的垂直投影内。3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,在所述第二方向上,所述第一子...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗曼凌安恺陈秋岸沈柏平
申请(专利权)人:厦门天马微电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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