【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】原子层沉积设备
[0001]本申请涉及一种原子层沉积设备。
[0002]本申请要求于2018年9月20日提交的韩国专利申请第10-2018-0112849号的优先权的权益，通过引用将该专利申请的全部内容结合在此。
技术介绍
[0003]作为在基板上形成膜的方法，例如存在原子层沉积方法。
[0004]原子层沉积(ALD：Atomic Layer Deposition)通常是基于气相(gas phase)化学物质的顺序供应来在基板上形成膜的技术，这种技术已应用于各种领域。
[0005]在卷对卷(Roll to roll)原子层沉积方法中，前驱体气体和吹扫气体的供应类型可分为喷嘴方法和区域划分方法。
[0006]喷嘴方法是通过在空间中规则重复布置的喷嘴来供应前驱体气体和吹扫气体的类型。
[0007]图1是示出喷嘴型原子层沉积设备1的示意图。
[0008]参照图1，原子层沉积设备1包括具有多个供应口11、12、13的喷嘴10和用于传送基板20的传送装置。喷嘴10具有用于供应一种或多种前...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种原子层沉积设备，包括：设置有第一气体供应喷嘴的第一前驱体供应区域，所述第一气体供应喷嘴具有沿着基板的行进方向顺序布置的多个第一前驱体气体供应口，从而当所述基板行进时在所述基板上供应第一前驱体气体；第二前驱体供应区域，所述第二前驱体供应区域设置成当所述基板行进时在所述基板上供应第二前驱体气体；吹扫气体供应区域，所述吹扫气体供应区域位于所述第一前驱体供应区域与所述第二前驱体供应区域之间，对所述第一前驱体供应区域和所述第二前驱体供应区域的每一个开放，并且设置成当所述基板行进时在所述基板上供应吹扫气体；和辊单元，所述辊单元设置有多个引导辊，所述多个引导辊布置成使得所述基板在所述第一前驱体供应区域与所述第二前驱体供应区域之间穿越多次并每次都经过所述吹扫气体供应区域。2.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其中在所述第一前驱体供应区域中设置有一对第一气体供应喷嘴，所述一对第一气体供应喷嘴设置成朝向所述基板的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面的每一个供应所述第一前驱体气体。3.根据权利要求2所述的原子层沉积设备，其中所述第一气体供应喷嘴具有以所述基板的所述行进方向为基准位于两侧的第一气帘口和第二气帘口。4.根据权利要求3所述的原子层沉积设备，其中所述第一气帘口和所述第二气帘口形成气体供应区域的边界，使得在以所述基板的所述行进方向为基准的两侧沿着所述行进方向分别产生前驱体气体未沉积区域。5.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其中在两个相邻的第一前驱体气体供应口之间设置有真空口。6.根据权利要...
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