半穿透半反射显示单元制造技术

一种半穿透半反射显示单元，其包括像素单元、对向像素单元及液晶层。其中液晶层配置于像素单元及对向像素单元之间。当在像素单元及对向像素单元之间施加电场时，液晶层的折射率会被改变，且液晶层的双折射性会与电场的平方成正比。像素单元包括一个反射电极以形成一个反射区，而像素单元中未被反射电极所覆盖的区则为一个透明电极而形成一个穿透区。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种半穿透半反射显示单元，包括：像素单元；对向像素单元；以及液晶层，配置于该像素单元及该对向像素单元之间，当在该像素单元及该对向像素单元之间施加电场时，该液晶层的折射率会被改变，且该液晶层的双折射性会与该电场的平方成正比，其中，该像素单元包括反射电极以形成反射区，而该像素单元中未被该反射电极所覆盖的区则被透明电极覆盖而形成穿透区。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郑协昌，王兴龙，许维婷，刘康弘，廖奇璋，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]