液晶显示装置制造方法及图纸

技术编号:2701779 阅读:147 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供液晶显示装置。其包括:由垂直取向型的液晶分子(22) 构成的液晶层;和由形成在玻璃基板(10)上的构成TFT、栅极总线、 源极总线、CS总线中的至少一部分的金属层(12)构成的TFT基板 (10A)。而且,以覆盖金属层(12)的方式设置有短波长吸收树脂层 (14),在短波长吸收树脂层(14)上设置有由透明导电层(例如ITO 层)形成的像素电极(15)。此外,在包括像素电极(15)上的基板的 几乎整个面上设置有光取向膜(16)。通过向在250nm以上380nm以 下的波长范围内具有感光波长的光取向膜材料倾斜照射包含感光波长 的光而对光取向膜(16)实施有光取向处理。短波长吸收树脂层(14) 具有使入射短波长吸收树脂层(14)并在金属层(12)反射的感光波 长的光的强度衰减至60%以下的光学特性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及液晶显示装货,特别涉及具有广视野角特性的液晶显 示装宽。背荣技术随着液品显示装置的显示特性得到改普,其越来越多地被利用于 电视接收机等。对于已提髙液晶显示装置的视野角特性的装置希望有 进一步的改善。特别是改巷使用垂直取向型的液晶层的液晶显示装置(也有被称为VA模式液晶显示装豐的情况)的视野角特性的耍求强 烈。这里,所谓"垂直取向型液晶层"是指相对垂直取向膜的表而,液 晶分子轴(也称为"轴方位")以大约85。以上的角度(预倾斜角1pre4ih angle〉)取向的液晶层,液晶分子具有负的介电各向异性,VA模式的 液晶显示装置与正交尼科耳(cro幼edNicols)配置的偏振光片组合,以 常黑模式(加rmally black mode)进行显示。现在,在电视机等大型显示装置中使用的VA模式液晶显示装置 中,为了改善视野角特性,采用在一个像素上形成多个液晶畴(domain) 的取向分割结构。作为形成取向分割结构的方法,MVA模式为主流。 MVA模式通过在夹着垂直取向型液晶层相对的一对基板的液晶层側设 置取向限制结构,形成取向方向(倾斜方向)不同的多个畴(典型的 取向方向有4种)。作为取向限制结构,使用设置于电极的狭缝(开口 部)或肋材(突起结构),从液晶层的两倒发挥取向限制力。但是,如果使用狭缝、肋材,则与利用在现有的TN模式中使用的 取向膜规定预倾斜方向的情况不同,因为狭缝、肋材为线状,所以对 液晶分子的取向限制力在像素内变得不均匀,因此存在例如在响应速 度上产生分布的问題.此外,因为设置有狭缝、肋材的区域的光的透 过率下降,所以有显示亮度下降的问題.为了回避这些问題,对于VA模式液晶显示装置,也优选通过取向股规定预倾斜方向从而形成取向分割结构.作为具有通过取向膜控制预倾斜方向的取向分割结构的VA模式 的液品显示装覽,有VAECB (Vertical Alignment Electrically Controlled Birefringence (垂直排列电控双折射))模式(参照专利文献1)、 RTNAlignment Twisted Nematic (垂直排列扭曲向列〉)模式)(参照专利文 献2 5)。在VAECB模式中,在像素内的任意的畴内,通过隔着液品层相对 的一对取向股规定的液晶分子的预倾斜方向为反平行.因此,液晶层 的厚度方向的中央附近的液晶分子的倾斜方向(以从观察者一側观察 时液品分子的顶端中接近观察者一側的一端为顶端的箭头所表示的方 位角的方向)与通过下側基板上的取向膜规定的预倾斜方向一致。此 外,液晶分子的倾斜方向不依存于液晶层的厚度方向的位置,并且不 依存于施加电压的大小,为一定。另一方面,在RTN模式中,在像素内的任意的畴中通过一对取向 膜规定的液晶分子的预倾斜方向相互大致正交。在RTN模式中,在液 晶层上施加有足够的电压(至少为用于最高灰度等级的显示的信号电 压)时,在液晶层的层面内和厚度方向的中央附近的液晶分子的倾斜 方向为将通过一对取向膜规定的2个预倾斜方向大致二等分的方向。作为向垂直取向膜賦予规定预倾斜方向的力的方法,已知有摩擦 法(rubbing)、光取向法。光取向处理,因为能够对取向膜非接触地实 施处理,所以不会发生如摩擦处理那样因摩擦生成的静电,能够提髙 成品率.进一步,如本申请人的日本专利申请2005-141846号所记载那 样,通过使用包含能够形成结合结构的感光性基的光取向膜,得到能 够将预倾斜角的偏差控制在1°以下,能够提商显示亮度特性的优点。但是,光取向法有其特有的问通。例如,在专利文献6中,公开有以下技术在距离观察者虽近的 光取向膜与观察者一側的最表面之间配置被賦予紫外线吸收能的部 件,由此抑制光取向膜的光劣化。另外,在专利文献7中,公开有在IPS模式的液晶显示装置的制 造中使用光取向法的情况下,用于防止因设置在像素内的产生横电场用的金腐电极的锥形部的反射光引起取向处理的泡乱的技术。专利文献l:日本专利特开2001-281669号公报 专利文献2:日木专利特开平11-352486号公报 专利文献3:日木专利特开2002-277877号公报 专利文献4:日木专利特开平11-133429号公报 专利文献5:日木专利特开平1CM23576号公报 专利文献6:日本专利特开2001-272682号公报 专利文献7:日本专利特开2005-128359号公报
技术实现思路
专利文献6中记载的方法虽然对于抑制光取向胰的光劣化有效, 但是在将光取向法应^于上述的取向分配型的VA模式的液晶显^装 货的制造中的情况下,不能防止因来自基底的皮射光引起的取向处理 的混乱。另一方面,专利文献7中记载的方法虽然对于IPS模式的液晶显 示装置有效,但是对于VA模式的液晶显示装置无效.这是因为IPS 校式的液晶显示装置利用生成于设置在像素内的金属电极之间的横电 场使液晶分子取向进行表示,所以电极上的区域不能用于显示.与此 相对,在VA模式的液晶显示装置中,由于利用在隔着液晶层位于上下 位置的电极间生成的电场进行表示,所以能够向像素内的所有区域施 加规定的电压,基本上能够将像素内的所有部分用于显示。因此,在 VA模式的液晶显示装置的制造中使用光取向法的情况下,存在以下问 题来自存在于光取向膜下的金属层(例如,从金属层形成的配线、 电极、遮光层)的反射光在取向处理中引起混乱,由此使显示品质下 降。参照图4对该问题加以说明。光取向腆根据发现规定液晶分子的预倾斜方向的力(取向限制力) 的机构大致分为2类.一个为使用偏振光紫外线,在与该偏振光方向 平行的方向(或者正交的方向〉发现取向限制力的机构,另一个为相 对光取向膜倾斜进行光照射,在对应于光照射方向的方向发现取向限 制力的机构。但是,必须倾斜入射,所以有利用偏振光的情况。例如, 如以下举例说明的那样,也有以20° 60°的入射角(距离面法线的角6度)照射P偏振光紫外线的情况。在后者的光取向膜中,取向限制力的方向山光取向处理屮的光的入射方向规定,W此,在制作这样的光取向股的W况下,如阁4所示, 如果向以锐流形成在基板40上的金屈层42的方式形成的光取向股材层42反射的光LR再次向光取向腴材料的股46入射,带来坏影响。即,不同,所以在被照射反射光LR的区域,取向限制力的方向不固定,不 能使液晶分T取向为规定的预倾斜方向。利用上述专利文献6和7中 记载的方法不能解决这个问题。本专利技术鉴于上述这些问题而完成,其目的在于提供一种即使用光 取向法进行制造也不会产生取向混乱的VA模式的液晶显示装置。本专利技术的液晶显示装置,包括垂直取向型的液晶层隔着上述 液晶层相互相对的第一基板和第二基板设置在上述第一基板的上述 液品层一侧的第一电极和设置在上述第二基板的上述液晶层一側的第 二电极;和以与上述液晶层接触的方式设置在上述第一电极上的第一 取向膜和以与上述液晶层接触的方式设置在上述第二电极上的第二取 向膜,上述第一取向膜实施有光取向处理,该光取向处理通过向在 250nm以上380nm以下的波长范围内具有感光波长的第一取向膜材料 倾斜照射包含上述感光波长的光而进行,其还包括在上述第一取向 膜与上述第一基板之间形成的金属层、和在上述金属层与上述第一取 向本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:桥本义人久保真澄山本明弘
申请(专利权)人:夏普株式会社
类型:发明
国别省市:

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