一种提高树脂基板镀膜后耐UV照射性能的膜层结构制造技术

本实用新型专利技术涉及光学薄膜制备技术领域，尤其是一种提高树脂基板镀膜后耐UV照射性能的膜层结构，其特征在于：所述膜层结构由交替堆叠的高折射率层和低折射率层构成，以靠近所述基板的膜层为第一层依次堆叠，其中偶数层为高折射率层，奇数层为低折射率层；所述高折射率层为五氧化二钽层、五氧化二铌或五氧化三钛层，所述低折射率层为二氧化硅层。本实用新型专利技术的优点是：可在不增加现有生产成本的基础上大大提高树脂基板镀制光学薄膜后的耐UV照射性能；可适用于现有镀膜工艺，适用范围广。

【技术实现步骤摘要】
一种提高树脂基板镀膜后耐UV照射性能的膜层结构
本技术涉及薄膜制备
，尤其是一种提高树脂基板镀膜后耐UV照射性能的膜层结构。
技术介绍
目前AR眼镜、手机摄像机镜头等以聚碳酸酯PC，丙烯酸类树脂PMMA,环烯烃聚合物ZEONEX等树脂材料进行制造，并在镜片表面进行镀制光学薄膜，以提高透过率、降低反射率等光学性能，但树脂材料在进行光学薄膜镀膜后，经过自然光中的UV光照后会出现老化、变色、脱膜、膜裂等不良现象，影响成像质量。因此，提高树脂基板镀膜后耐UV照射性能迫在眉睫。为了提高树脂材料的耐UV照射性能，可以通过在材料制作的过程中直接添加其他化学材料来解决，但这样会增加制造成本。
技术实现思路
本技术的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种提高树脂基板镀膜后耐UV照射性能的膜层结构，通过高折射率层和低折射率层的交替堆叠及膜层结构设计，提高了树脂基板镀膜后的耐UV照射性能。本技术目的实现由以下技术方案完成：一种提高树脂基板镀膜后耐UV照射性能的膜层结构，所述膜层结构设置于基板的表面，其特征在于：所述膜层结构由交替堆本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高树脂基板镀膜后耐UV照射性能的膜层结构，所述膜层结构设置于基板的表面，其特征在于：所述膜层结构由交替堆叠的高折射率层和低折射率层构成，以靠近所述基板的膜层为第一层依次堆叠，其中偶数层为高折射率层，奇数层为低折射率层；所述高折射率层为五氧化二钽层、五氧化二铌层或五氧化三钛层，所述低折射率层为二氧化硅层；所述膜层结构的总层数不低于十一层，不高于十五层。/n

【技术特征摘要】
1.一种提高树脂基板镀膜后耐UV照射性能的膜层结构，所述膜层结构设置于基板的表面，其特征在于：所述膜层结构由交替堆叠的高折射率层和低折射率层构成，以靠近所述基板的膜层为第一层依次堆叠，其中偶数层为高折射率层，奇数层为低折射率层；所述高折射率层为五氧化二钽层、五氧化二铌层或五氧化三钛层，所述低折射率层为二氧化硅层；所述膜层结构的总层数不低于十一层，不高于十五层。


2.根据权利要求1所述的一种提高树脂基板镀膜后耐UV照射性能的膜层结构，其特征在于：所述膜层结构的总层...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁晓江，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31