天线罩的球面等径比共形映射方法技术

本发明专利技术涉及天线罩设计技术领域，尤其涉及天线罩的球面等径比共形映射方法，建立位于x轴与y轴的映射平面；所述平面上分布有点阵，每一点代表一个周期单元，各周期单元之间无覆盖；确定点阵中某一点Q

【技术实现步骤摘要】
天线罩的球面等径比共形映射方法
本专利技术涉及天线罩设计
，尤其涉及天线罩的球面等径比共形映射方法。
技术介绍
在天线罩表面使用吸收材料，大多数共形吸收材料都是研究柱面共形的，这是由于柱面共形只在一个方向弯曲。然而，当在二维球面上建立共形吸收体时，例如在一个球体上，没有合适的等距映射将平面单元放置到曲面上。这使得天线罩共形吸收体的设计和实现变得更加困难。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术提供的天线罩的球面等径比共形映射方法，其能设计实现表面为球形的天线罩。本专利技术提供的天线罩的球面等径比共形映射方法，包括：建立位于x轴与y轴的映射平面；所述平面上分布有点阵，每一点代表一个周期单元，各周期单元之间无覆盖；确定点阵中某一点Q0为圆心，找到点阵中任一点Q；建立天线罩的表面球面，将Q0沿z轴映射至球面上的对应点P0，将Q映射至球面上的对应点P；将Q的所在单元与P为原点的切平面建立局部映射；将Q的所在单元以缩放系数为αr，进行线性映射到P的所在球面处，使得Q到Q0的距离与P本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种天线罩的球面等径比共形映射方法，其特征在于，包括：/n建立位于x轴与y轴的映射平面；所述平面上分布有点阵，每一点代表一个周期单元，各周期单元之间无覆盖；/n确定点阵中某一点Q

【技术特征摘要】
1.一种天线罩的球面等径比共形映射方法，其特征在于，包括：
建立位于x轴与y轴的映射平面；所述平面上分布有点阵，每一点代表一个周期单元，各周期单元之间无覆盖；
确定点阵中某一点Q0为圆心，找到点阵中任一点Q；
建立天线罩的表面球面，将Q0沿z轴映射至球面上的对应点P0，将Q映射至球面上的对应点P；
将Q的所在单元与P为原点的切平面建立局部映射；
将Q的所在单元以缩放系数为αr，进行线性映射到P的所在球面处，使得Q到Q0的距离与P到P0的弧长成正比。


2.根据权利要求1所述的天线罩的球面等径比共形映射方法，其特征在于，所述Q到Q0的距离与P到P0的弧长的关系式为：
krrQ＝R0θP(1)
公式(1)中，kr为比例系数，rQ为Q到Q0的距离，R0为P到球面球心的距离，即天线罩的球面半径，θP为P...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘立国，马良荔，裴晶晶，谷晓鹏，包中华，
申请(专利权)人：中国人民解放军海军工程大学，
类型：发明
国别省市：湖北;42