一种光栅条纹主值相位提取的相移方法技术

本发明专利技术提出一种光栅条纹主值相位提取的相移方法，在现有扩展平均相移Class A类和Class B类算法的基础上，建立了扩展平均相移的一般情形计算公式，涉及扩展平均相移Class A类和Class B类算法的判定方法，扩展平均相移一般情形计算公式中分子、分母及对应系数的确定方法。本发明专利技术提出了Schmit和Creath扩展平均相移的一般情形计算公式，填补了该技术的缺陷；不要求计算N步扩展平均相移条纹图像中任意连续的N

【技术实现步骤摘要】
一种光栅条纹主值相位提取的相移方法
本专利技术属于光学三维测量相关领域，涉及一种光栅条纹主值相位提取的相移方法，尤其是涉及一种扩展平均相移方法，该方法可以实现对任意步数的扩展平均相移条纹图像快速准确地模拟仿真与主值相位提取。
技术介绍
随着计算机视觉测量技术、信息光学及微电子技术的交叉融合快速发展，数字光栅条纹投影三维测量技术的非接触、易操作、高精度和高效率等诸多优点越来越突出，已被广泛地应用到工业检测、医学治疗、人体测量、文物数字化、刑事侦查、法庭取证等众多行业中。该技术的关键之一是基于相移法进行标准的数字光栅条纹模板快速生成与变形光栅条纹图像的主值相位准确提取，即通过计算机编程生成多幅有一定相移差的标准数字光栅条纹模板，依次投影到目标表面经其调制成变形的光栅条纹图像，并被采集，然后利用每一幅图像上同一像素点对应的灰度值计算该像素点的相位值，从而提取出全场相位分布在[-π,π]区间的截断相位(主值相位)。在科学研究中，为了探索条纹投影测量中纳米甚至亚纳米高准确度的检测要求、对测量系统的随机噪声获取最佳的拟制作用，增加相移步数是最简单最本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光栅条纹主值相位提取的相移方法，其特征在于：包括以下步骤：/n步骤1：设置扩展平均相移一般情形的参数：包括相移步数N、扩展平均相移条纹的基数N

【技术特征摘要】
1.一种光栅条纹主值相位提取的相移方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤1：设置扩展平均相移一般情形的参数：包括相移步数N、扩展平均相移条纹的基数N0、条纹波长λ、条纹方向参数str、物理常数α、条纹的对比度γ、条纹图像尺寸Width和Height；
步骤2：根据步骤1设置的参数仿真N幅扩展平均相移的正弦条纹图像；
步骤3：根据步骤1设置的扩展平均相移条纹的基数N0确定第m组扩展平均相移条纹图像组合的分子子项Nm和分母子项Dm，并计算其对应的系数
步骤3.1计算扩展平均相移条纹组数为：M＝N-N0+1；
步骤3.2：当N0＝3时，确定第m组扩展平均相移条纹图像组合为{Im,Im+1,Im+2}；若N0＝4时，确定第m组扩展平均相移条纹图像组合为{Im,Im+1,Im+2,Im+3}；m＝1,2,…,M；
步骤3.3：遍历扩展平均相移条纹图像组合；
若N0＝3，根据以下规则确定第m组扩展平均相移条纹图像组合的分子子项Nm和分母子项Dm：
若rem(m-1,4)＝0，则：Nm＝2Im+1-Im-Im+2；Dm＝Im-Im+2；
若rem(m-2,4)＝0，则：Nm＝Im-Im+2；Dm＝Im+Im+2-2Im+1；
若rem(m-3,4)＝0，则：Nm＝Im+Im+2-2Im+1；Dm＝Im+2-Im；
若rem(m-4,4)＝0，则：Nm＝Im+2...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢津，李渊，孙惠斌，孔宪光，王富平，公衍超，
申请(专利权)人：西安邮电大学，西北工业大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61