【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种转印微米级尺寸的图案至光学物品上的方法,和一 种包含此方法获取图案的光学物品。本专利技术特别适用于光学透镜类型的 产品,尤其是眼镜片类型。本方法对引入一种全息图案非常有利。
技术介绍
印刷一个预先确定的图案至一个制造完成或正在制造中的产品上 可以是必然的,举例来说,尤其是出于装饰的目的,显示产品的商品标 志或防止可能的产品伪造。为实现这个目的,许多印刷方法被发展,这些印刷方法通常^f皮称为 "软"光刻方法以区别于传统的用于制造集成电路的光刻方法。那些光刻 方法是基于在预定图案中选择性地照射和分解树脂掩膜部分的,软光刻 技术则利用 一个印模,这个印模的表面包括由凹进和突起组成的微浮凸(micro-relief)。这个微浮凸定义了被复制在产品上的图案。在适合产品表 面材料的条件下,此图案通过运用所述印模至产品表面被复制到产品表 面。术语"图案"是指印模被运用时,与产品表面接触的突出表面部分的 几何排列。在被称为"微接触印刷术"的软光刻方法中,产品表面被覆盖在金属 层中,且印模被一层能够在刻蚀步骤中保护上述金属层的物质包裹。在运用印模于产品表面的过程 ...
【技术保护点】
一种转印微米级图案(P)至一个光学物品(1)表面的方法,其中,所述方法包括如下步骤:a)在包括凹进(12)和突起(13)的印模表面上淀积一个至少包括一种转印材料的层,其中,所述凹进(12)和突起(13)组成了微浮凸,所述微浮凸对应将被转印的图案的且采用微米级或亚微米级定义;b)淀积一层液态的乳胶层至所述光学物品的衬底的表面;c)在所述乳胶层干燥之前,使包括转印材料层的印模表面与所述乳胶层接触;d)对所述印模作用一个压力;和 e)从包括所述乳胶层的所述光学物品的表面移除所述印模。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:克里斯泰勒德弗朗科,
申请(专利权)人:埃西勒国际通用光学公司,
类型:发明
国别省市:FR[]
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