【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及非线性光学材料领域,特别涉及一类新型高性能含偶氮和噻吩环的二阶非线性光学聚合物及其合成方法,以及用含偶氮和噻吩环的二阶非线性光学聚合物制备交联型聚氨酯类聚合物或极化聚合物薄膜。
技术介绍
二阶非线性光学材料主要用于电光调制,频率转换和光开关(调制)等,它们在光通讯和光信号过程(光计算)等领域有着广泛的应用。目前,实用的二阶非线性光学材料主要是无机材料。有机材料与无机材料相比具有非线性光学系数大、响应速度快、光学损伤阈值高、可根据要求进行分子设计、易于加工以及廉价等优点。如现在使用的电光材料铌酸锂,它的二阶非线性光学系数为30pm/V,带宽为10GHz,而文献报道的有机材料的最高电光系数已达到128pm/V,最高带宽超过200GHz,预期带宽为350GHz。虽然有机材料的非线性光学系数、带宽等一些单项指标已远远超过无机材料,并且用有机电光材料制成的器件已有商品出售,但它们在稳定性方面特别是在光学稳定性方面还存在一定的缺陷。寻找各项性能指标均较优越的有机二阶非线性光学材料代替现有的无机材料,从而实现高的传输速度,是目前非线性光学材料领域的一项热门课题 ...
【技术保护点】
一种含偶氮和噻吩环的二阶非线性光学聚合物,其特征是:该聚合物具有以下结构:*** 其中,R↓[1]、R↓[2]是含有羟基的10个碳原子以下的烷基、烷氧基或酯基的取代基;R↓[3]、R↓[4]是H、20个碳原子以下的烷基、芳基 、烷氧基、酯基、酰氨基或含有羟基的10个碳原子以下的烷基、芳基、烷氧基或酯基的取代基;R↓[5]、R↓[6]是H、10个碳原子以下的烷基、烷氧基、酯基或酰氨基;A代表下面结构的电子受体部分: ***其中,A式中R↓[3]=H 或-(CH↓[2])↓[n]R’,n=1~10,R’=H或OH;R↓ ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:沈玉全,邱玲,祖凤华,张涛,郭昆朋,
申请(专利权)人:中国科学院理化技术研究所,
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]
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