光扫描装置及图像形成装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种使光束两次射入偏转反射面的光扫描装置，其目的在于减小扫描线轨迹的弯曲量，或者使之在任意位置上近似为零，或者根据扫描线轨迹的弯曲等来校正扫描线位移，所述扫描装置面向以旋转轴（１２）为中心旋转的偏转反射面（１１）配置两个固定平面镜（１３、１４），使得向偏转反射面（１１）入射并反射的光束（ａ１）在两个固定平面镜（１３、１４）上依次反射，该被反射的光束（ａ３）再次向偏转反射面（１１）入射并被反射，其中通过设定，使得在将包含向偏转反射面第一次入射的光束（ａ０）并与旋转轴（１２）平行的面设为入射平面时，从所述偏转反射面（１１）被第二次反射了的光束（ａ４）位于入射平面内时的出射光束的中心光线，与偏转反射面（１１）取最大旋转角时的光束的中心光线在入射平面上投影所得的直线大致平行。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于激光打印机等图像形成装置的图像写入曝光的光扫描装置，特别涉及使光束按顺序两次射入到旋转多面镜等的偏转反射面的光扫描装置。本专利技术还涉及光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述清洁机构具有能够可靠地除去附着在盖玻片表面上的尘埃等的结构。
技术介绍
以往，在日本专利特开昭51-6563号中提出了如下的光扫描装置，即，所述光扫描装置面向以旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，通过两个固定平面镜依次反射被偏转反射面反射的偏转光束，从而通过使所述光束再次射入所述偏转反射面来进行光偏转，由此，来校正由偏转反射面的旋转轴的偏差(misalignment)或者偏转反射面自身每个面的偏差而导致的偏转光束出射方向的变化。此外，在日本专利特开昭61-7818号(美国专利第4,796,965号)中提出了如下的光偏转光学系统，即，在所述光偏转光学系统中面向以旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，并使所述两个固定平面镜的棱线位于与偏转反射面的旋转轴正交的平面内，从偏转反射面与两个固定平面镜之间向偏转反射面入射光束，使所反射的偏转光束在所述两个固定平面镜上依次反射从而再次射入所述偏转反射面并被反射，从而使所述被反射的偏转光束通过偏转反射面与两个固定平面镜之间或者两个固定平面镜之间的间隙而射出，由此校正扫描线的歪曲(distortion)。但是，在日本专利特开昭61-7818号中，由于没有进行分析研究，并且没有提及20°以下的入射角，因而无法适当地校正扫描线的歪曲。如日本专利特开昭61-7818号中所公开，在利用同一个偏转反射面进行两次偏转的光学系统中，根据光束的入射角度，两次偏转反射后的光束的偏转轨迹会发生弯曲。因此，根据偏转后的扫描光学系统的透镜等光学部件的光轴方向的位置，有时在副扫描方向(与扫描垂直的方向)上需要较宽的有效范围。然而，在制造扫描光学系统的变形透镜时，要制造在主扫描方向和副扫描方向上都具有较宽的有效范围的透镜并不容易。因此，存在多个透镜的配置自由度变小的问题。此外，若透镜等光学部件所需的有效范围变窄，则高精度地制作光学面就会变得容易。不管怎样，若能够在光轴方向的任意位置将扫描线轨迹的弯曲抑制得很小，则会很有利。然而，在如日本专利特开昭51-6563号中所提出的光扫描装置那样，通过利用偶数个固定平面镜依次进行反射，从而向同一偏转反射面入射两次来进行光偏转的光扫描装置中，从由偏转反射面的面偏差导致的扫描线位移的校正方面来看，没必要安装面偏差校正光学系统。但是，如日本专利特开昭51-6563号那样，当光线与副扫描方向成直角地向偏转反射面入射、出射时，因为光线会在固定平面镜上发生干涉，所以无法将扫描角取得较大，因此必须使光线以非直角的角度向偏转反射面入射、出射。若这样，则会产生作为导致扫描线轨迹弯曲的原因的出射角度差。此外，会在被扫描面上引起扫描线位移，所述扫描线位移量等于在因面偏差而产生的第二次偏转点的位移上乘以扫描光学系统的副扫描横向放大率β的值。另外，当偏转反射面有扭曲或者弯曲，从而光束入射位置上的面偏差的值随着偏转反射面的旋转而发生变化时，与偏转反射面由纯平面构成的时候相比，会在出射角上产生差异，进而会产生扫描线轨迹的弯曲。此外，当偏转反射面的扭曲或者弯曲的程度根据每个偏转反射面而不同时，出射角度会在每个偏转反射面上发生变化，从而会在被扫描面上引起扫描线位移。
技术实现思路
本专利技术是鉴于现有技术的上述问题而完成的，其第一目的是在使光束向偏转反射面入射两次的光扫描装置中，减小扫描线轨迹的弯曲量，或者，使扫描线轨迹的弯曲量在任意位置上近似为零，从而缓解对扫描光学系统的透镜在光轴方向上的配置的限制。本专利技术的第二目的是提供一种光扫描装置，所述光扫描装置以偶数个固定平面镜依次反射光束，使所述光束向同一偏转反射面入射两次，并进行光偏转，其中，没有由出射角度差引起的扫描线轨迹的弯曲而导致的扫描线弯曲，并且校正了由于面偏差或出射角的变化而产生的扫描线位移。本专利技术的第三目的是提供一种光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述盖玻片清洁机构具有能够可靠地除去附着在盖玻片表面上的尘埃等的结构。实现上述第一目的的本专利技术第一光扫描装置包括光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射，所述光扫描装置的特征在于，当将包含向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所述入射平面垂直配置，通过设定，使得从所述偏转反射面第二次反射的出射光束位于所述入射平面内时的出射光束的中心光线，与所述偏转反射面取最大旋转角时的出射光束的中心光线在所述入射平面上投影所得的直线大致平行。此时，所述光扫描装置既可以构成为向偏转反射面第一次入射的光束通过两个固定平面镜之间的间隙而入射，并且被偏转反射面第二次反射的偏转光束通过两个固定平面镜之间的间隙而出射的结构，也可以构成为两个固定平面镜中的一个固定平面镜被夹在向偏转反射面第一次入射的光束与被偏转反射面第二次反射的出射光束之间的结构。并且，所述光扫描装置优选为如下结构即，将向位于偏转反射面相对于所述入射平面垂直的位置上的偏转反射面第一次入射的光束的中心光线的入射角设为θ1，将从偏转反射面被第二次反射的出射光束的中心光线的出射角设为θ2时，满足如下关系0.33·θ1≤θ2≤0.37·θ1(21)。本专利技术的第二光扫描装置包括光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射，所述光扫描装置的特征在于，当将包含向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所述入射平面垂直配置，将向位于所述偏转反射面相对于所述入射平面垂直的位置上的所述偏转反射面第一次入射的光束的中心光线的入射角设为θ1，将从所述偏转反射面第二次反射的出射光束的中心光线的出射角设为θ2时，满足如下关系0.33·θ1-1.27≤θ2≤0.35·θ1-1.50(22)。在这种情况下，所述光扫描装置也是既可以构成为向偏转反射面第一次入射的光束通过两个固定平面镜之间的间隙而入射，并且被偏转反射面第二次反射的偏转光束通过两个固定平面镜之间的间隙而出射的结构，也可以构成为两个固定平面镜中的一个固定平面镜被夹在向偏转反射面第一次入射的光束与从偏转反射面第二次反射的出射光束之间的结构。本专利技术的第三光扫描装置包括光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射，所述光扫描装置的特征在于， 当将包含向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光扫描装置，包括：光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射；照明光学系统，使光束向所述偏转反射面入射；和扫描光学系统，使被所述光偏转光学系统偏转的光束向被扫描面入射从而形成扫描线，所述光扫描装置的特征在于，当将包含从所述照明光学系统向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转 轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所述入射平面垂直配置，从所述偏转反射面第二次反射的出射光束位于所述入射平面内时的该第二次的反射点与所述被扫描面在所述入射平面内大致共轭。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：宗和健，井上望，三井洋一，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]