电控光开关阵列微流控芯片的制作方法技术

技术编号:2693448 阅读:219 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
微流控光开关阵列的工艺制作方法涉及一种新颖的基于微流控技术,用电控制信号进行操作的光开关阵列结构的集成化制作方法,该方法采用机械加工、制作PDMS微流控芯片、镀膜、封合来实现包含“光波导层(7)、底导电层(11)、带导电膜块的绝缘层(5)和上盖板(4)”的夹心结构的集成制作,实现微流控光开关阵列芯片结构。集成化制作方法的主要步骤包括:光波导层的制作、驱动开关结构的制作、底板导电层的制作和芯片封合四个基本过程。其中,盖板、光波导层和底板的基材是聚二甲基硅氧烷(PDMS);绝缘层上的导电膜块采用PVA薄膜制作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种新颖的电调谐微流控光丌关阵列芯片的集成化制作方法,属 于光通信网络器件集成

技术介绍
微流控光学是一项具有重要意义的新技术,它将现代微流控技术和微光电子 技术相结合,研制一类能够根据外界环境变化、具有结构重组和自适应调节能力 的光学集成器件和系统,将在传感、通信、信息处理等领域具有重要的应用前景。微流控技术作为微全分析系统的关键与核心, 一直是MEMS领域中的一个研 究重点。随着微流控技术水平的不断提高以及与其它学科的不断渗透与融合,近 年来已涌现出一批令人注目的研究热点,其中微流控光学器件就是其典型代表。 微流控技术与光器件的融合,为传统光器件的微型化、阵列化、低成本化以及高 精度控制提供了可能。新型光学器件的近期研究成果包括一些基于微流控技术的 可变焦光透镜、显示器件、光开关、以及可调光纤光栅等。尽管现存光丌关各具有独特的优点,但也让我们看到现存光丌关的不足之 处,特别是交换矩阵这一参数。除了 MEMS等少数类型的光丌关以外,现存光开 关的交换容量总是有限,很难制成大阵列;而MEMS光开关本身在高端口密度及 抗机械摩擦、磨损或震动等方面也存在不足之处本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电控光开关阵列微流控芯片的制作方法,其特征在于采用机械加工、制作PDMS微流控芯片、镀膜、封合来实现包含光波导层(7)、底导电层(11)、带导电膜块的绝缘层(5)和上盖板(4)的夹心结构的集成制作,其主要步骤包括:1)光波导层的 制作:采用制作光掩膜的方法,同过CAD设计微通道网络,将其打印在透明胶片上作为掩膜,在硅片上甩涂一薄层光刻胶,通过紫外线曝光,未曝光区域用显影液溶解,硅片以及表面上剩下的凸起SU-8结构用作制作PDMS基片的阳模,硅阳模表面用氟化的硅烷化试剂处理,然后将固化的PDMS从阳模剥离,制成具有特定微通道的基片;2)驱动开关结构的制作:采用CAD设计制作PV...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:涂兴华徐宁梁忠诚沈鹏李培培陈金秋
申请(专利权)人:南京邮电大学
类型:发明
国别省市:84[中国|南京]

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