桥式光栅光调制器及其阵列制造技术

一种能够对入射光进行相位调制的桥式光调制器及其阵列，它是基于ＭＯＥＭＳ技术在硅片上分层构造的器件。在底层反射面正上方有一组双端支撑的弹性梁，弹性梁上由两锚点支撑金属反射栅条，形成顶层反射面。顶层反射面和底层反射面之间的间距可变，在两者之间不加电压时，间距为ｎλ／２；加固定偏置电压Ｖ↓［１］时，间距为（２ｎ－１）λ／４；当施加电压范围在０－Ｖ↓［１］之间时，间距在ｎλ／２至（２ｎ－１）λ／４之间线性可调。使用多个这样的光调制器形成阵列时，每个光调制器都可以独立施加偏置电压，顶层反射面作垂直平动，形成衍射效果不同的点阵，使得像素投影成像在光栅方向上没有间隙，达到无缝显示的效果。这种光调制器可广泛地用于显示、投影、印刷、光通讯、光谱仪上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光调制器件，更具体的说，本专利技术涉及一种桥式光栅光调制器，该器件 是利用深度可变的矩形槽光栅对入射光的相位进行调制。
技术介绍
随着数字技术的发展，大屏幕显示，尤其是高清晰数字电视技术的成熟，许多的设计者 和专利技术者已经设法开发可以单独使用或与其他调制器一起使用的光调制器，其中基于M0EMS 技术制造的光调制器以其优良的性能获得高速的发展和广泛的应用。它们在应用于显示设备 上时具有共同的优点，即出光效率很高，清晰度高，调制速度快，灰度级较多，能与数字电 视技术指标兼容，对比度、亮度和均匀性都非常出色，信号易于处理等等。在这类器件中，以数字式微反射镜器件(DMD)及光栅光阀(GLV)为代表，它们的商业 应用己取得了巨大的成功。DMD是由MOEMS技术制造的上百万个可偏转的反射微镜构成的调 制器。DMD微镜的紧密间隙令投射的影像产生更细致的无缝画面，分析力特别高。GLV与DMD不同之处在于，它是利用光栅衍射原理实现光线调制，其响应速度更高，电路简单，制造工 艺简单，良品率高。但是，DMD和GLV也有不足之处。DMD的缺陷在于，其复杂的结构导致制作过程复杂，良品率低本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种桥式光栅光调制器，其特征在于它包括：　ａ．一带氧化层的硅基底，其上淀积有金属下电极兼底层反射面；　ｂ．一覆盖于底层反射面上的透明绝缘层；　ｃ．一组间距布置于透明绝缘层上的桥式弹性梁兼上电极，每个桥式弹性梁被两个或多个锚点支撑；　ｄ．一组金属反射栅条即顶层反射面，每条栅条宽度和长度与对应的桥式弹性梁的宽度和长度相当，每一栅条由两个或多个锚点支撑在桥式弹性梁正上方，并把下方的桥式弹性梁隐藏起来；　ｅ．一驱动电路，通过电极引出线连接金属下电极和上电极，在下电极和上电极之间加一偏置电压，由于下电极固定，作为上电极的桥式弹性梁在静电力的作用下向下弯曲，在偏置电压释放后，桥式弹性梁在自身弹性力的作用下...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张智海，金珠，张洁，王宁，韦玮，
申请(专利权)人：重庆大学，
类型：发明
国别省市：85[中国|重庆]