光波干涉测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光波干涉测量装置，由透射／反射分离面（１３ａ）分成两部分的来自光源（１１）的光束，通过分别对应的球面基准透镜（１５）、（２５），以担持与被验非球面透镜（１７）和参照非球面透镜（２７）的表面形状对应的波阵面信息的状态再次被合波，被验非球面透镜（１７）相对于参照非球面透镜（２７）的波阵面误差成为干涉条纹信息而形成在干涉仪ＣＣＤ摄像机（３１）的摄像面上。球面基准透镜（１５）、（２５）具有互相相同的曲率的基准球面（１５ａ）、（２５ａ），基于来自各透镜（１７）、（２７）的反射光的波阵面信息是基于各透镜（１７）、（２７）的表面形状和基准球面（１５ａ）、（２５ａ）的表面形状之差的波阵面信息，因此，即使是非球面，也可以同时获得关于整个有效区域的干涉条纹信息。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术尤其涉及一种为了测量非球面透镜的非球面形状而使用的光 波干涉测量装置。
技术介绍
近年，高精度地测量非球面光学元件的非球面形状的要求尤其在透 镜设计、制造等的领域非常强。作为涉及非球面形状的高精度的测量方法的技术，在斐索型的干涉 仪中，具有作为被测量非球面的基准的参照非球面的参照用反射元件， 与上述被测量非球面接近配置。基于通过由上述参照用反射元件反射而 返回被测量非球面的参照光与在上述被测量非球面的反射的物光的光干 涉而得到的干涉条纹，测量出被测量非球面的形状。在测量时扫描干涉条纹。所谓干涉条纹扫描法被公知(JP-A-2004-532990)。进而，作为涉及非球面形状的高精度的测量方法的技术，已知利用 JP-A-8-146018、 JP-A-2001-133244所公开的所谓的点扫描法、或者 USP6， 956, 657所记载的孔径合成法的方法。然而，尤其是在JP-A-2004-532990等所记载的方法中，参照非球面 (非球面基准面)和被测量非球面的各光轴的偏离对测量影响很大。因 此，在呈非球面形状的被验面的整个区域，不能同时得到良好的干涉条 纹。结果，为了针对被验体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光波干涉测量装置，其特征在于，具备：　光束分离合成机构，将来自光源的光束分为两部分，将一部分作为朝向被验体方向的第１光束，并且，将另一部分作为朝向参照体方向的第２光束，将上述第１光束的来自上述被验体的返回光和上述第２光束的来自上述 参照体的返回光合成为干涉光，在被配置于规定位置的摄像体上形成基于上述被验体的表面形状信息的干涉条纹图像；　第１球面基准透镜，配置在上述光束分离合成机构和上述被验体之间且将与上述被验体相对的面作为第１基准球面，以使来自上述光束分离合成机 构的上述第１光束入射到上述被验体的表面，并且使从上述被验体的表面反射的上述第１光束返回上述光束分离合成机构；...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：葛宗涛，
申请(专利权)人：富士能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]