【技术实现步骤摘要】
一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备
本技术涉及于硅溶胶精密铸造用的模组清洗领域，特别涉及一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备。
技术介绍
硅溶胶是粒径在1-100纳米范围的纳米二氧化硅在水或其他有机溶剂中的分散液，广泛应用于精密铸造、耐火材料、涂料、纺织、精密抛光等领域，国内的硅溶胶生产技术主要有离子交换法和硅粉水解法，其中硅粉水解法的生产工艺要主要是在反应釜中加入水，加入碱性催化剂，升温至合适温度后，加入硅粉，使硅粉在碱催化下进行水解，生成硅酸并聚合成二氧化硅粒子。硅溶胶制壳做成的产品表面效果好，外表要求高的产品会需要使用，是精铸行业必须要使用的材料，硅溶胶的制壳模组在使用一段时间后通常需要进行清洗，现有的清洗方法通常是将其固定在夹具上进行冲洗，先冲洗表面，再翻转至背面清洗，但是，由于模组的重量通常较重，翻转清洗过程较为不易，因此，提供一种便于翻转清洗的用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备就成为急需解决的问题了。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种便于翻转清洗的用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗...
【技术保护点】
1.一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，包括清洗架，其特征在于，所述清洗架内壁底部架设有第一丝杆，所述第一丝杆上滑动安装有呈左右对称分布的第一滑动块，所述滑动块上焊接有固定块，所述固定块内转动安装有活动杆，所述活动杆的一端连接有固定夹具，所述活动杆的另一端穿设所述清洗架且延伸至所述清洗架外，所述清洗架在所述活动杆相对应的位置处设有紧固件；所述清洗架内壁上方相对设置有滑槽，所述滑槽内均滑动安装有滑板，所述滑板间架设有第二丝杆，所述第二丝杆上滑动安装有呈左右对称分布的第二滑动块，所述第二滑动块的底部均固定安装有伺服电机，所述伺服电机的输出端上设有清洁刷头。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，包括清洗架，其特征在于，所述清洗架内壁底部架设有第一丝杆，所述第一丝杆上滑动安装有呈左右对称分布的第一滑动块，所述滑动块上焊接有固定块，所述固定块内转动安装有活动杆，所述活动杆的一端连接有固定夹具，所述活动杆的另一端穿设所述清洗架且延伸至所述清洗架外，所述清洗架在所述活动杆相对应的位置处设有紧固件；所述清洗架内壁上方相对设置有滑槽，所述滑槽内均滑动安装有滑板，所述滑板间架设有第二丝杆，所述第二丝杆上滑动安装有呈左右对称分布的第二滑动块，所述第二滑动块的底部均固定安装有伺服电机，所述伺服电机的输出端上设有清洁刷头。
2.根据权利要求1所述的一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，其特征在于：所述清洗架的顶部设有水箱，所述水箱的两侧均通过软管连接...
【专利技术属性】
技术研发人员：陆军，
申请(专利权)人：山东华美精密铸业有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37
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