【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】成像数据处理装置
本专利技术涉及一种成像数据处理装置，该成像数据处理装置利用成像质谱分析装置等对在试样上的二维的测定区域内的许多微小区域中分别获得的数据进行处理，由此能够制作示出该试样中的特定物质的二维分布的图像或者导出关于该试样的有用的信息。
技术介绍
成像质谱分析装置是能够一边通过光学显微镜观察生物体组织切片等试样的表面的形态一边对相同的试样表面上的具有特定质荷比m/z的离子的二维的强度分布进行测定的装置(参照非专利文献1)。通过使用成像质谱分析装置观察与在例如癌症等特定疾病中特征性地出现的源自化合物的离子有关的二维强度分布图像(质谱分析成像图像)，能够掌握该疾病的扩散情况等。因此，近年来，盛行以下研究：利用成像质谱分析装置来对以生物体组织切片等为对象的药物动态解析或各器官中的化合物分布的不同、或者癌症等的病理部位与正常部位之间的化合物分布的差异等进行解析。一般来说，具有某个质荷比的离子的二维强度分布示出特定物质的分布，因此，能够基于质谱分析成像图像，来获得例如与特定疾病相关联的化合物，即生物标记物在生物体组织内...
【技术保护点】
1.一种成像数据处理装置，通过基于针对试样的测定成像数据和构成参照图像的参照成像数据进行解析处理来求取与所述试样有关的信息，所述测定成像数据是作为针对所述试样上的二维的测定区域内的每个微小区域通过规定的测定方法获得的数据的集合的图像数据、或者是对该数据进行加工而获得的图像数据，所述成像数据处理装置的特征在于，具备：/na)回归分析执行部，其针对第一成像数据和第二成像数据，执行以该第一成像数据为解释变量并且以该第二成像数据为被解释变量的回归分析，来制作回归模型，其中，所述第一成像数据是所述测定成像数据的整体或一部分，所述第二成像数据是所述参照成像数据的整体或一部分，所述第二成...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种成像数据处理装置，通过基于针对试样的测定成像数据和构成参照图像的参照成像数据进行解析处理来求取与所述试样有关的信息，所述测定成像数据是作为针对所述试样上的二维的测定区域内的每个微小区域通过规定的测定方法获得的数据的集合的图像数据、或者是对该数据进行加工而获得的图像数据，所述成像数据处理装置的特征在于，具备：
a)回归分析执行部，其针对第一成像数据和第二成像数据，执行以该第一成像数据为解释变量并且以该第二成像数据为被解释变量的回归分析，来制作回归模型，其中，所述第一成像数据是所述测定成像数据的整体或一部分，所述第二成像数据是所述参照成像数据的整体或一部分，所述第二成像数据与第一成像数据在空间上相对应；以及
b)预测图像制作部，其通过将所述第一成像数据应用于所述回归模型，来制作基于回归分析结果的预测图像。
2.根据权利要求1所述的成像数据处理装置，其特征在于，
还具备残差图像制作部，该残差图像制作部基于所述预测图像计算每个所述微小区域的预测残差，制作残差图像并使该残差图像显示在显示部的画面上。
3.根据权利要求1所述的成像数据处理装置，其特征在于，
还具备分析结果图像制作部，该分析结果图像制作部使...
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