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一种基于量子点与DNA折纸纳米共组装结构的超分辨显微标尺制造技术

技术编号:26844048 阅读:34 留言:0更新日期:2020-12-25 13:04
本发明专利技术说明一种基于量子点与DNA折纸纳米共组装结构的超分辨显微标尺,属于纳米材料技术领域,用于超高分辨率荧光显微镜系统分辨率的标定与校准。本发明专利技术通过利用量子点(2)和DNA单链(3)偶连,再修饰到DNA折纸(1)(三角形为例)的固定位点,形成固定距离的纳米标尺,解决超分辨显微缺高精度标尺验证所获超分辨图像准确性的问题。通过超分辨技术突破光的衍射极限,根据同一DNA折纸结构上量子点之间的固定距离(20‑200nm)验证所获超分辨图像的准确性;本发明专利技术提供的量子点与DNA折纸纳米共组装结构的超分辨显微标尺用于表征定位超分辨单分子定位显微成像技术(SMLM)成像分辨率,具备亮度高、稳定、重复使用、易于做不同尺寸的优势。

【技术实现步骤摘要】
一种基于量子点与DNA折纸纳米共组装结构的超分辨显微标尺
本专利技术属于纳米材料
,具体涉及一种基于量子点与DNA折纸纳米共组装结构的超分辨显微标尺。
技术介绍
随着现代科学的技术的发展与需要,荧光显微成像已经成为现代生命科学研究的重要成像手段,人们可以通过它做细胞器定位并实现对细胞功能和相互作用过程动态信息的研究。但是,由于光学衍射极限的限制,更细微的亚细胞结构无法被观察。近年兴起的超高分辨率荧光显微镜突破了光的衍射极限,能够实现20nm至200nm的分辨率,比传统光学显微镜具有更高的分辨率和更高的定位精度。其中常用的是单分子定位显微成像技术SMLM(SingleMoleculeLocalizationMicroscopy),基于受激跃迁激发耗尽STED(StimulatedEmissionDepletionmicroscopy)和基于结构光照明的显微成像技术SIM(StructuredIlluminationMicroscopy)。其中SMLM技术自2006年发展至今,已经能够实现在宽场条件下快速对单个荧光分子定位的能力,其主本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于量子点与DNA折纸纳米共组装结构的超分辨显微标尺,其特征在于,超分辨显微标尺由量子点和DNA折纸共组装技术开发。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于量子点与DNA折纸纳米共组装结构的超分辨显微标尺,其特征在于,超分辨显微标尺由量子点和DNA折纸共组装技术开发。


2.根据权利要求1所述的一种基于量子点与DNA折纸纳米共组装结构的超分辨显微标尺,其特征在于,开发过程包括以下步骤:
(1)DNA折纸的设计和制备:设计特定形状的DNA折纸,比如三角形、矩形等,在DNA折纸的多个特定位置设计可以偶连量子点的位点,比如伸出来的一段或几段核酸单链,最后通过核酸长链和核酸短链组装成特定形状的DNA折纸。
(2)量子点表面和核酸互补短链的修饰:通过生物素-亲和素作用或者点击化学的方法在量子点表面修饰核酸互补短链。
(3)量子点与DNA折纸纳米共组装:量子点表面的核酸互补短链通过碱基互补配对的作用偶连在DNA折纸的特定位置。


3.根据权利要求1所述的一种基于量子点与DNA折纸纳米共组装结构的超分辨显微标尺,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:阮刚李喆黄振立陈彦名陈小星匡伟兵
申请(专利权)人:南京大学
类型:发明
国别省市:江苏;32

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