图案测量装置、倾斜度计算方法和图案测量方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种图案测量装置、图案测量装置中的倾斜度计算方法和图案测量方法。实施方式的图案测量装置包括输送部、图案投影部、拍摄部和测量部。输送部输送基片。图案投影部配置于输送部的上方，将投影图案投影到输送部所输送的基片上。拍摄部配置于输送部的上方，拍摄被投影到基片上的投影图案或者形成于基片的实际图案。测量部基于拍摄部所拍摄的图像，测量投影图案或者实际图案的形状。本发明专利技术能够高精度地测量图案形状。

【技术实现步骤摘要】
图案测量装置、倾斜度计算方法和图案测量方法
本专利技术涉及图案测量装置、图案测量装置中的倾斜度计算方法和图案测量方法。
技术介绍
在专利文献1中公开了一种图案测量装置，其用配置于输送部的上方的拍摄部来拍摄由输送部输送的基片，并基于拍摄到的图像来测量形成于基片的图案的形状。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-72257号公报。
技术实现思路
本专利技术提供一种能够高精度地测量图案形状的技术。本专利技术的一方式的图案测量装置包括输送部、图案投影部、拍摄部和测量部。输送部输送基片。图案投影部配置于输送部的上方，将投影图案投影到由输送部输送的基片上。拍摄部配置于输送部的上方，拍摄被投影到基片上的投影图案或者形成于基片的实际图案。测量部基于拍摄部所拍摄的图像，测量投影图案或者实际图案的形状。本专利技术能够高精度地测量图案形状。依照本专利技术，能够高精度地测量图案形状。附图说明图1是表示实施方式的基片处理系统的构成的示意说明图。r>图2是表示实施方本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图案测量装置，其特征在于，包括：/n输送基片的输送部；/n图案投影部，其配置于所述输送部的上方，将投影图案投影到所述输送部所输送的所述基片上；/n拍摄部，其配置于所述输送部的上方，拍摄被投影到所述基片上的所述投影图案或者形成于所述基片的实际图案；和/n测量部，其基于所述拍摄部所拍摄的图像，测量所述投影图案或者所述实际图案的形状。/n

【技术特征摘要】
20190606 JP 2019-1058781.一种图案测量装置，其特征在于，包括：
输送基片的输送部；
图案投影部，其配置于所述输送部的上方，将投影图案投影到所述输送部所输送的所述基片上；
拍摄部，其配置于所述输送部的上方，拍摄被投影到所述基片上的所述投影图案或者形成于所述基片的实际图案；和
测量部，其基于所述拍摄部所拍摄的图像，测量所述投影图案或者所述实际图案的形状。


2.如权利要求1所述的图案测量装置，其特征在于：
还包括计算部，其基于所述拍摄部所拍摄的所述投影图案，计算所述输送部与所述拍摄部的相对倾斜度。


3.如权利要求2所述的图案测量装置，其特征在于：
还包括能够使所述拍摄部沿铅垂方向移动的移动部，
所述投影图案包含彼此隔开间隔地配置的第1图形和第2图形，
所述计算部基于聚焦于所述第1图形时的所述拍摄部的高度与聚焦于所述第2图形时的所述拍摄部的高度之差，计算所述输送部与所述拍摄部的相对倾斜度。


4.如权利要求1所述的图案测量装置，其特征在于：
还包括修正所述测量部的测量结果的修正部，
所述拍摄部拍摄包含所述投影图案和所述实际图案的所述基片上的测量区域，
所述测量部基于所述拍摄部所拍摄的所述实际图案，测量所述实际图案的形状，
所述修正部基于所述拍摄部所拍摄的所述投影图案，修正所述测量部所测量的所述实际图案的形状的测量结果。


5.如权利要求4所述的图案测量装置，其特征在于：
所述投影图案具有由预定宽度的多条线以预定间隔排列而成的图形，
所述修正部基于测量比率和最佳聚焦比率来计算所述测量结果的修正比率，其中，所述测量比率是所述拍摄部所拍摄的所述投影图案中的所述线的宽度与所述线间的间隔的比率，所述最佳聚焦比率是所述预定宽度与所述预定间隔的比率。


6.如权利要求5所述的图案测量装置，其特征在于：
所述修正部判断所述测量比率是否在阈值范围内，当判断为所述测量比率没有在所述阈值范围内的情况下，进行所述测量结果的修正。


7.如权利要求4或5所述的图案测量装置，其特征在于：
还包括能够使所述拍摄部沿铅垂方向移动的移动部，
在拍摄到的所述实际图案的边缘强度低于预定值的情况下，用所...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤原慎，尾上幸太朗，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP