双透镜光学系统、光束合成模块、投影仪、以及双透镜光学系统的组装方法技术方案

实现透镜调整敏感性改善了的双透镜光学系统、光束合成模块、投影仪、以及双透镜光学系统的组装方法。双透镜光学系统(100)具备：第1透镜(1)，其仅沿从光源放射的光的光轴方向移动，并且用于进行准直调整；以及第2透镜(2)，其仅沿与光轴方向相对垂直的2个轴方向移动，并且用于进行光束转向。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】双透镜光学系统、光束合成模块、投影仪、以及双透镜光学系统的组装方法
本专利技术涉及双透镜光学系统、光束合成模块、投影仪、以及双透镜光学系统的组装方法。
技术介绍
关于使用了透镜的光学装置，若光耦合效率相对于透镜移动量的变化量较大，则难以将光耦合效率调整在较好的范围内。因此，光耦合效率相对于所述透镜移动量的变化量以较小为佳。换言之，透镜调整敏感性以较低为佳。这里，(1)将用于对从光源放射了的光进行准直或聚焦的、使用单个透镜的光学装置称为“单透镜装置”，(2)将用于对从光源放射的光进行准直或聚焦的、使用两个透镜的光学装置称为“双透镜装置”。若单透镜装置的焦距与双透镜装置的有效焦距相同，则通常而言，双透镜装置具有较低的透镜调整敏感性。专利文献1～3、及非专利文献1分别揭载了双透镜装置。(现有技术文献)(专利文献)专利文献1：美国专利第4823334号专利文献2：美国专利第6055113号专利文献3：美国专利第6974939号(非专利文献)非专利文献1：http://www本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双透镜光学系统，其特征在于，具备：/n第1透镜，其仅沿从光源放射的光的光轴方向移动，并且用于进行准直调整；以及/n第2透镜，其仅沿与所述光轴方向相垂直的2个轴方向移动，并且用于进行光束转向。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种双透镜光学系统，其特征在于，具备：
第1透镜，其仅沿从光源放射的光的光轴方向移动，并且用于进行准直调整；以及
第2透镜，其仅沿与所述光轴方向相垂直的2个轴方向移动，并且用于进行光束转向。


2.根据权利要求1所述的双透镜光学系统，其特征在于，
按照所述光源、所述第1透镜、及所述第2透镜的顺序沿所述光轴设置有所述光源、所述第1透镜、及所述第2透镜。


3.根据权利要求2所述的双透镜光学系统，其特征在于，
所述第2透镜的焦距与所述双透镜光学系统的有效焦距之间满足以下关系：
(2/√3)f≤f2≤3f，且所述双透镜光学系统的有效焦距f＝(f1×f2)/(f1+f2－s)，其中，
f1代表所述第1透镜的焦距，
f2代表所述第2透镜的焦距，
s代表所述第1透镜的后侧主平面与所述第2透镜的前侧主平面之间的距离。


4.根据权利要求1所述的双透镜光学系统，其特征在于，
按照所述光源、所述第2透镜、及所述第1透镜的顺序沿所述光轴设置有所述光源、所述第2透镜、及所述第1透镜。


5.根据权利要求4所述的双透镜光学系统，其特征在于，
所述第1透镜的焦距与所述双透镜光学系统的有效焦距之间满足以下关系：
(3/2)f≤f1≤2f，且所述双透镜光学系统的有效焦距f＝(f1×f2)/(f1+f2－s)，其中，
f1代表所述第1透镜的焦距，
f2代表所述第2透镜的焦距，
s代表所述第1透镜的后侧主平面与所述第2透镜的前侧主平面之间的距离。


6.根据权利要求1～5中任一项所述的双透镜光学系统，其特征在于，具备：
第1基台，其供设置所述第1透镜，并且限制该第1透镜的移动；以及
第2基台，其供设置所述第2透镜，并且限制该第2透镜的移动。


7.根据权利要求1～5中任一项所述的双透镜光学系统，其特征在于，具备：
第1基台，其供设置所述第1透镜，并且使该第1透镜移动；以及
第2基台，其供设置所述第2透镜，并且使该第2透镜移动。


8.一种光束合成模块，其特征在于，
具备m组光学装置，m为2以上的整数，1≤n≤m－1，n为1以上的整数，
其中，
每组所述光学装置包括：光源；权利要求1～5中任一项所述的双透镜光学系统；以及光学镜，其用于反射该双透镜光...

【专利技术属性】
技术研发人员：彼得·约翰·罗伯茨，藤井宪晃，伊藤晋，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP