【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及依照引导到衬底上的干涉图案优先沉积材料来构图的方法，以及由该方法制造的成品。在一个方面，本专利技术提供了在衬底表面优先地沉积材料来制造线栅光学元件的方法，它包括了以下步骤，把电磁干涉图案引导到衬底表面来优先地根据干涉图案加热衬底表面的所选部分，通过根据干涉图案把衬底暴露在气相中的传导材料来选择性地沉积衬底表面上的传导材料，该材料能够作为表面温度的函数进行优先积累。在一些实施例中，可以在衬底表面上重叠互相相干的光束来形成干涉图案，并且可以沉积材料来形成具有由干涉图案尺寸大致确定的尺寸的结构。在这些实施例中，拥有比重叠光束的光斑尺寸和/或间距小的结构可以不使用掩模板就沉积到衬底上。本专利技术也提供了通过在衬底表面区域上引导两束或更多互相相干的电磁束从而形成电磁干涉图案来较佳地在衬底表面上沉积材料，根据干涉图案优先加热部分衬底表面，其中柱面透镜放置在至少其中一个电磁束的路径上；并且通过把衬底暴露在气相中的材料下，根据干涉图案在衬底表面上选择性地沉积材料，所述材料能够作为表面温度的函数优先进行积累。可以把其它光学元件放置到一个或更多束流的路径中，而不是...
【技术保护点】
一种在衬底表面优先沉积材料的方法，其特征在于，包括以下步骤：把两束或更多束相干电磁束引导到在衬底表面上的一个区域上，从而形成电磁干涉图案，根据干涉图案优先加热一部分衬底表面，其中把柱面透镜放置在至少一个电磁束的路径中；并且根据干涉图案，通过把衬底暴露在气相中的材料下，在衬底表面上选择性沉积材料，所述材料能够作为表面温度的函数进行优先积累。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：RS莫什莱夫扎德，TA拜伦，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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