防反射膜及其在基片上的形成方法技术

一种包括防反射复合材料、基片和沉积在基片上的无机物层的制品。该无机物层的厚度约为１ｎｍ－１０ｎｍ。该制品包括与所述无机物层接触形成防反射复合材料外表面的聚合物层。该聚合物层的厚度约为７０ｎｍ－１２０ｎｍ。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及防反射复合材料，特别是防反射膜。
技术介绍
在许多情况下，如果制品表面的耀光减少，则通过光透介质的信息和图像的能见度将增强。耀光或镜面耀光是光从入射表面发出的不需要的反射光。许多装置，例如车窗、保护性眼罩、计算机监视屏、电视屏幕及其它显示面板都期望这种反射的减少。因此，期望提供一种应用于这种表面的防反射复合材料，用来减少耀光的量。目前能用在表面上的防反射复合材料一般包括无机物层，例如，金属或金属氧化物层；二氧化硅层，包括SiOx，式中x一般是约为2的整数。另外，也可以提供氧化铟锡(ITO)层。防反射复合材料施加在表面上后，就形成了防反射制品。但是，ITO和SiOx都难以溅射，因此，使用ITO和/或SiOx的防反射制品的制造成本通常较高。
技术实现思路
一方面，一件防反射制品包括防反射复合材料、基片、沉积在基片上的无机物层、以及与无机物层接触以形成防反射复合材料外表面的聚合物层。无机物层的厚度约为1nm-10nm。聚合物层的厚度约为70nm-120nm。许多实施方式可能包含一个或多个以下特征。例如，无机物层可由金属形成。金属层可以是镍。镍的厚度可以是约2nm-3.5nm。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包括防反射复合材料的制品，所述制品包括： 基片； 沉积在基片上、厚度约为１ｎｍ－１０ｎｍ的无机物层； 与无机物层接触、形成防反射复合材料外表面的聚合物层，所述聚合物层的厚度约为７０ｎｍ－１２０ｎｍ。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔滢铁，EP林德霍尔姆，WK史密斯，P纳加卡，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]