彩膜基板、显示面板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种彩膜基板、显示面板及显示装置，属于显示技术领域。彩膜基板包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的彩色滤光单元和黑矩阵；所述黑矩阵的第一表面的高度大于所述彩色滤光单元的第二表面的高度，所述第一表面的高度为所述黑矩阵远离所述衬底基板一侧的第一表面与所述衬底基板之间的垂直距离，所述第二表面的高度为所述彩色滤光单元远离所述衬底基板一侧的第二表面与所述衬底基板之间的垂直距离。显示面板包括彩膜基板；与所述彩膜基板对向设置的阵列基板，所述阵列基板上设置有隔垫物，所述隔垫物在所述彩膜基板上的正投影落入所述黑矩阵的覆盖范围内。本发明专利技术的技术方案能够提高显示面板的开口率。

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板、显示面板及显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是指一种彩膜基板、显示面板及显示装置。
技术介绍
随着薄膜场效应晶体管液晶显示(TFT-LCDDisplay)技术的发展和工业技术的进步，液晶显示器件的生产成本降低、制造工艺日益完善，液晶显示面板成为平板显示领域的主流技术。相关技术中，液晶显示面板包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，在彩膜基板上设置有隔垫物，当显示面板受到外力挤压时，彩膜基板和阵列基板发生相对滑动，彩膜基板上的隔垫物将划伤阵列基板上的取向层，造成漏光，为了遮挡漏光，需要用大面积的黑矩阵遮挡划伤部分，会导致液晶显示面板的开口率损失严重。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种彩膜基板、显示面板及显示装置，能够提高显示面板的开口率。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种彩膜基板，包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的彩色滤光单元和黑矩阵；所述黑矩阵的第一表面的高度大于所述彩色滤光单元的第二表面的高度，所述第一表面的高度为所述黑矩阵远离所述衬底基板一侧的第一表面与所述衬底基板之间的垂直距离，所述第二表面的高度为所述彩色滤光单元远离所述衬底基板一侧的第二表面与所述衬底基板之间的垂直距离。可选地，所述黑矩阵位于所述彩色滤光单元远离所述衬底基板的一侧。可选地，还包括：位于所述黑矩阵远离所述衬底基板一侧的有机平坦层，所述有机平坦层的厚度小于阈值。可选地，所述有机平坦层的厚度为0.5～2.0um。可选地，还包括：位于所述黑矩阵远离所述衬底基板一侧的无机绝缘层。本专利技术实施例还提供了一种显示面板，包括：如上所述的彩膜基板；与所述彩膜基板对向设置的阵列基板，所述阵列基板上设置有隔垫物，所述隔垫物在所述彩膜基板上的正投影落入所述黑矩阵的覆盖范围内。可选地，所述隔垫物在平行于所述衬底基板的方向上的横截面为长条形。可选地，所述黑矩阵限定出多个像素区域，所述长条形的延伸方向与所述像素区域的宽度方向或长度方向平行。可选地，在所述长条形的延伸方向与所述像素区域的宽度方向平行时，所述长条形在延伸方向上的长度大于所述像素区域的宽度；在所述长条形的延伸方向与所述像素区域的长度方向平行时，所述长条形在延伸方向上的长度大于所述像素区域的长度。本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示面板。本专利技术的实施例具有以下有益效果：上述方案中，在彩膜基板上不设置隔垫物，彩膜基板上利用黑矩阵形成凸起，在阵列基板上设置有隔垫物，阵列基板上的隔垫物与彩膜基板上利用黑矩阵形成的凸起部相抵支撑显示面板的盒厚，这样在显示面板受到外力挤压，彩膜基板和阵列基板发生相对滑动时，由于黑矩阵的面积较大，阵列基板上的隔垫物即使发生一定距离的位移，也可仍与黑矩阵形成的凸起部相抵，不会划伤彩膜基板上的取向层，增加了隔垫物的移动余量。另外，相比现有技术需要在彩膜基板和阵列基板上均形成隔垫物，能够简化彩膜基板的结构，降低彩膜基板的构图工艺次数，提高彩膜基板的生产效率，降低彩膜基板的生产成本。附图说明图1-图3为相关技术显示面板的结构示意图；图4为相关技术中黑矩阵的示意图；图5-图7为本专利技术实施例显示面板的结构示意图；图8为本专利技术实施例隔垫物的位置示意图；图9为图8中AA方向的截面示意图；图10为本专利技术实施例隔垫物发生位移后的位置示意图；图11为图10中BB方向的截面示意图；图12为本专利技术实施例隔垫物发生位移后的位置示意图；图13为图12中CC方向的截面示意图。附图标记1相关技术彩膜基板上的黑矩阵2彩色滤光单元3平坦层4相关技术彩膜基板上的隔垫物5阵列基板上的隔垫物6本专利技术实施例彩膜基板上的黑矩阵7有机平坦层8无机绝缘层9数据线具体实施方式为使本专利技术的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。如图1所示，相关技术的显示面板在彩膜基板上设置隔垫物4，在阵列基板上设置隔垫物5，其中，2为彩色滤光单元，3为平坦层，隔垫物4和隔垫物5相抵支撑显示面板的盒厚；或者如图2所示，相关技术的显示面板在彩膜基板上设置隔垫物4，隔垫物4与阵列基板上的凸起相抵支撑显示面板的盒厚，在显示面板受到挤压时，彩膜基板和阵列基板发生相对滑动，如图3所示，彩膜基板上的隔垫物4将不再与阵列基板上的凸起或隔垫物相抵，会发生滑动划伤阵列基板上的取向层，导致出现漏光，显示画面出现bluespot(蓝斑)，影响显示面板的显示性能，为了遮挡蓝斑，如图4所示，相关技术在彩膜基板上设置面积较大的黑矩阵1，但这样又会降低显示面板的开口率。为了解决上述问题，本专利技术的实施例提供一种彩膜基板、显示面板及显示装置，能够提高显示面板的开口率。如图5-图7所示，本专利技术的实施例提供一种彩膜基板，包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的彩色滤光单元2和黑矩阵6；其中，所述黑矩阵6的第一表面的高度大于所述彩色滤光单元2的第二表面的高度，所述第一表面的高度为所述黑矩阵5远离所述衬底基板一侧的第一表面与所述衬底基板之间的垂直距离，所述第二表面的高度为所述彩色滤光单元2远离所述衬底基板一侧的第二表面与所述衬底基板之间的垂直距离，这样在彩膜基板表面可以利用黑矩阵6形成凸起。本实施例中，在彩膜基板上不设置隔垫物，彩膜基板上利用黑矩阵形成凸起，在阵列基板上设置有隔垫物，阵列基板上的隔垫物与彩膜基板上利用黑矩阵形成的凸起部相抵支撑显示面板的盒厚，这样在显示面板受到外力挤压，彩膜基板和阵列基板发生相对滑动时，由于黑矩阵的面积较大，阵列基板上的隔垫物即使发生一定距离的位移，也可仍与黑矩阵形成的凸起部相抵，不会划伤彩膜基板上的取向层，增加了隔垫物的移动余量。另外，相比现有技术需要在彩膜基板和阵列基板上均形成隔垫物，能够简化彩膜基板的结构，降低彩膜基板的构图工艺次数，提高彩膜基板的生产效率，降低彩膜基板的生产成本。与相关技术中黑矩阵位于彩色滤光单元和衬底基板之间不同，本专利技术实施例中，如图5-图7所示，所述黑矩阵6位于所述彩色滤光单元2远离所述衬底基板的一侧，即黑矩阵6位于彩色滤光单元2上，这样可以确保黑矩阵6能够在彩膜基板上形成凸起；当然，黑矩阵6也可与彩色滤光单元2位于同一层，但黑矩阵6的厚度需要大于彩色滤光单元2的厚度，这样才能够在彩膜基板上形成凸起。如图5所示，本实施例中，黑矩阵6可以与阵列基板上的隔垫物5直接接触。黑矩阵6中可能包含有杂质离子，为了避免杂质离子扩散到液晶中，影响显示面板的性能，如图6所示，彩膜基板还包括：位于所述黑矩阵6远离所述衬底基板一侧的有机平坦层7，有机平坦层7可以阻挡黑矩阵6中的杂质离子扩散到液晶中，保证显示面板的性能。另外，为了保证彩膜基板上仍然存在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：/n衬底基板；/n位于所述衬底基板上的彩色滤光单元和黑矩阵；/n所述黑矩阵的第一表面的高度大于所述彩色滤光单元的第二表面的高度，所述第一表面的高度为所述黑矩阵远离所述衬底基板一侧的第一表面与所述衬底基板之间的垂直距离，所述第二表面的高度为所述彩色滤光单元远离所述衬底基板一侧的第二表面与所述衬底基板之间的垂直距离。/n

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
衬底基板；
位于所述衬底基板上的彩色滤光单元和黑矩阵；
所述黑矩阵的第一表面的高度大于所述彩色滤光单元的第二表面的高度，所述第一表面的高度为所述黑矩阵远离所述衬底基板一侧的第一表面与所述衬底基板之间的垂直距离，所述第二表面的高度为所述彩色滤光单元远离所述衬底基板一侧的第二表面与所述衬底基板之间的垂直距离。


2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵位于所述彩色滤光单元远离所述衬底基板的一侧。


3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：
位于所述黑矩阵远离所述衬底基板一侧的有机平坦层，所述有机平坦层的厚度小于阈值。


4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述有机平坦层的厚度为0.5～2.0um。


5.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：
位于所述黑矩阵远离所述衬底基板一侧的无机绝缘层。

<...

【专利技术属性】
技术研发人员：林允植，张舜航，崔贤植，陈小川，张振宇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11