样品倾斜的测量方法技术

技术编号:2678204 阅读:165 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种样品倾斜的测量方法,用于测量具有平面形状前端面的柱状件的轴线的倾斜度,所述柱状件由夹具加以夹持,作为样品的所述前端面用角度测量仪进行观察; 所述方法包括以下步骤: 使所述柱状件相对于所述角度测量仪转动一个预定角度,同时处于由所述夹具夹持的状态,测定两个转动位置中每个位置的角度;以及 根据所述测得的两个角度,使用预定的算术表达式测量所述柱状件的所述轴线的所述倾斜度。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种,用于测量柱状件、例如套管的轴线的倾斜度,柱状件在例如使用显微干涉仪分析其前端部分的形状等时由夹具加以夹持。
技术介绍
近来人们正在开展用于光通信的光纤的研发工作。公知的这种光纤包括外径约为10微米的纤芯和布置在纤芯外围的外径约为125微米的包层,同时还包括一个布置在其连接端部的用于连接光纤与另一根光纤的套管。套管是圆柱形构件,用于使光纤的一端保持和固定在一组插头的每个插头中。在光纤插入并用粘合剂之类固定在一个套管的外径的中央部分之后,套管的前端抛光成一个镜面,当两个套管的前端面相互对接时,使两根由各自的套管保持的光纤彼此连接。通常公知的套管前端面抛光成一个与光轴正交的平面。为减少光纤彼此连接时的光损耗,日本工业标准已规定各种微米数量级的高精度技术要求。同时,显微干涉仪也用于检查生产出来的套管是否符合技术规格。显微干涉仪成形成载有相位信息、例如小样品的表面形状和折射率分布的物体光以及从一个预定基准板反射的基准光彼此干涉,从而观察所获得的干涉条纹,测量和分析干涉条纹的形状和变化,得到样品的相位信息。使用这种显微干涉仪检查生产出来的套管时,夹具布置在基准板前面的预定本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:葛宗涛小林富美男田中公二彦
申请(专利权)人:富士能株式会社
类型:发明
国别省市:

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