【技术实现步骤摘要】
一种高浓度缓冲氢氟酸蚀刻废液的无害化处理方法
本专利技术涉及一种高浓度缓冲氢氟酸蚀刻废液的无害化处理方法，属于工业废水处理领域。
技术介绍
缓冲氢氟酸蚀刻液通过去除半导体硅片薄膜未被光阻覆盖的氧化层部分，而达到蚀刻的目的，其在微结构制作以及硅基发光器件制作中得到了广泛应用。化学反应方程式如下：4HF+SiO2→SiF4+2H2OSiF4+2HF→H2SiF6在化学蚀刻生产加工过程中，由于HF不断与SiO2进行化学反应，将生成大量的H2SiF6。当蚀刻溶液中H2SiF6含量达到10-15％时，蚀刻溶液粘度增加，将导致处理效果降低，无法满足生产要求。在蚀刻过程中，由于单纯HF与SiO2化学反应的蚀刻速率较难控制，因此部分企业会在蚀刻液中加入一定量的NH4HF2作为缓冲剂，可以补充消耗的氟化物确保刻蚀速率的稳定。由此生产工艺过程中产生的废液为含氟、含氨废液。根据我国《污水综合排放标准》(GB8978-1996)中一级标准规定，F离子最高允许排放浓度为10mg/L，氨氮最高允许排放浓度为15mg/L，因此需对...
【技术保护点】
1.一种高浓度缓冲氢氟酸蚀刻废液的无害化处理方法，其特征在于：所述方法为：将废液和可溶钙化合物溶液同时加入至微溶钙化合物悬浮液中，反应后将所得产物过滤分离，得到滤渣和滤液。/n
【技术特征摘要】
1.一种高浓度缓冲氢氟酸蚀刻废液的无害化处理方法，其特征在于：所述方法为：将废液和可溶钙化合物溶液同时加入至微溶钙化合物悬浮液中，反应后将所得产物过滤分离，得到滤渣和滤液。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述微溶钙化合物悬浮液中的微溶钙化合物为CaO、Ca(OH)2和CaSO4中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：所述微溶钙化合物悬浮液中微溶钙化合物的加入量为废液中氟质量的0.5-5.5倍。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述微溶钙化合物悬浮液中水的加入量为废液中氟质量的10-15倍。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：所述废液中氟离子的质量浓度为60-250g/L。
6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：所述可溶钙化合物溶液中的可溶钙化合物为Ca(ClO)2、Ca...
【专利技术属性】
技术研发人员：马振彦，刘晶，肖朋，盖世男，官香元，朱雪玲，
申请(专利权)人：大连东泰产业废弃物处理有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21
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