带式供料器制造技术

技术编号:26772703 阅读:126 留言:0更新日期:2020-12-18 23:56
在能够在将从带盘(12)拉出的元件供给带向元件吸附位置进给的带通路(41)的底面安装对上述元件供给带的元件作用磁吸引力的磁铁(42)的带式供料器中,具备:带进给装置(18),构成为能够变更进给上述元件供给带的带进给速度;控制装置(19),控制上述带进给装置的带进给速度;及检测装置(51),检测是否安装有上述磁铁。上述控制装置基于上述检测装置的检测结果来变更上述带进给装置的带进给速度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带式供料器
本说明书公开了与能够在将从带盘抽出的元件供给带向元件吸附位置进给的带通路的底面上安装对于所述元件供给带的元件作用磁吸引力的磁铁的带式供料器相关的技术。
技术介绍
安设于带式供料器的元件供给带构成为在以等间距形成于载带上的元件收纳凹部中收纳元件,并在该载带的上表面粘贴顶带(顶膜)。带式供料器通过将元件供给带向元件吸附位置进行间距进给,从而在元件吸附位置的近前将顶带剥离而使元件供给带的各元件收纳凹部内的元件依次露出并向元件吸附位置进给,在该位置利用元件安装机的吸嘴吸附元件并将其安装于电路基板。在带式供料器的作业期间,元件供给带的元件收纳凹部内的元件有可能由于因元件供给带的间距进给动作和顶带的剥离而产生的振动、冲击或静电发生位置偏移、倾斜或飞出,这成为产生吸嘴的元件吸附错误(吸附失败)或倾斜吸附等异常吸附的原因。作为其对策,如专利文献1(日本特开2007-27246号公报)所记载的那样,在带式供料器的带通路的底面部安装带磁铁的支撑板,利用该磁铁的磁吸引力向元件供给带的元件收纳凹部内的底面侧吸引元件,由此防止元件收纳凹部内的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带式供料器,能够在将从带盘抽出的元件供给带向元件吸附位置进给的带通路的底面安装对所述元件供给带的元件作用磁吸引力的磁铁,/n所述带式供料器具备:/n带进给装置,构成为能够变更进给所述元件供给带的带进给速度;/n控制装置,控制所述带进给装置的带进给速度;及/n检测装置,检测是否安装有所述磁铁,/n所述控制装置基于所述检测装置的检测结果来变更所述带进给装置的带进给速度。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种带式供料器,能够在将从带盘抽出的元件供给带向元件吸附位置进给的带通路的底面安装对所述元件供给带的元件作用磁吸引力的磁铁,
所述带式供料器具备:
带进给装置,构成为能够变更进给所述元件供给带的带进给速度;
控制装置,控制所述带进给装置的带进给速度;及
检测装置,检测是否安装有所述磁铁,
所述控制装置基于所述检测装置的检测结果来变更所述带进给装置的带进给速度。


2.根据权利要求1所述的带式供料器,其中,
所述控制装置使基于所述检测装置的检测结果而判断为安装有所述磁铁的情况下的所述带进给装置的带进给速度比判断为未安装所述磁铁的情况下的带进给速度快。


3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:国广勉细井规生田中启太村濑浩规
申请(专利权)人:株式会社富士
类型:发明
国别省市:日本;JP

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