多层光学结构制造技术

技术编号:2676714 阅读:158 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种整体的光学结构,包括多个层,每个层具有限定在部分层中的隔离的光学路径。所述整体的光学结构可用作光纤预成品。可选地或另外地,整体的光学结构可包括在所述结构的一个或多个层中的集成光学电路。可通过使基底多次通过流动的微粒流穿行而形成所述整体的光学结构。在固化之后,沉积的微粒形成光学材料。挠性光纤包括沿着光纤的长度方向延伸的多个独立的光通道。所述纤维可从合适的预成品拉制。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及多层光学结构,其包括诸如玻璃和晶体材料的光学材料层。具体地,本专利技术涉及具有不同光学特性的多层光学层的结构,用于例如平面光学器件、光纤、光纤预成品、光学存储器等。
技术介绍
将机械、电和/或光学元件组合或集成为集成器件对材料的加工产生了巨大的需求。而且,理想地是在相同的体积内放置更多的集成器件。为了制成这样的集成结构,在基底上应用带有选定特性的特定组件受到了很大的关注。为了形成带有高质量光学材料的光学器件,涂层或材料层通常是高度均匀的。现今使用的光学通讯的光波长为1.3~1.6微米。光学波导管的尺寸通常是波长的许多倍。因此,光学结构的尺寸可从几微米到100微米,这取决于光学模式的需求和其他因素。包括基于互联网系统的通讯和信息技术的突飞猛进促使全球范围内的一致努力来实现光通讯网络,以通过光学通讯获得大的带宽。利用密集波分复用技术,可进一步扩展光纤技术的容量。随着需求的增加,需要更多的通道来实现系统功能。复杂性增强的光学组件的制造需要沉积带有复杂性增强的结构和/或组件的高质量光学材料。而且,光学材料必需成特定的器件。光学材料的基本特性包括表面质量、均匀度和光学质量。光学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种整体光学结构,包括多个层,每个层具有限定在该层的一部分中的隔离的光学路径。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:迈克尔A布赖恩毕向欣
申请(专利权)人:尼奥弗托尼克斯公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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