彩色滤光片的制作方法技术

一种彩色滤光片的制作方法，是将遮罩与被镀基板一起置于真空镀膜机中，遮罩介于被镀基板与靶材间，并将基板不欲镀到的部分挡住，而将欲镀的膜层镀于裸露的部分，当完成一镀膜程序后，可移动遮罩至下一定位点，裸露出另一需镀膜部分，并进行另一镀膜程序。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种滤光镜的制作方法，尤其涉及一种彩色滤光镜制作方法。
技术介绍
目前彩色滤光片的制作方式除了以胶粘合外，就是以光刻制程的方式，将各种颜色的滤光片分别制作在同一基板上。当使用光刻制程制作如附图说明图1所示具蓝色(B)、绿色(G)和红色(R)的滤光片时，其制作方法如下所述，首先如图2A所示，以旋转涂布的方式将第一光阻201涂布于彩色滤光片的基板200上，接着进行光刻制程，如图2B所示，在基板200上暴露出欲制作蓝色滤光片区域203，再如图2C所示将蓝色介电薄膜202镀于基板上，并移除第一光阻层201。当进行绿色滤光片制作时，首先如图3A所示，以旋转涂布的方式将第二光阻301涂布于彩色滤光片的基板200和蓝色介电薄膜202上，接着进行光刻制程，如图3B所示，在基板200上暴露出欲制作绿色滤光片区域303，再如图3C所示将绿色介电薄膜302镀于基板上，并移除第二光阻层301。当进行红色滤光片制作时，首先如图4A所示，以旋转涂布的方式将第三光阻401涂布于彩色滤光片的基板200、蓝色介电薄膜202和绿色介电薄膜302上，接着进行光刻制程，如图4B所示，在基板200上暴露出欲制作红色滤光片区域403，再如图4C所示将红色介电薄膜402镀于基板上，并移除第三光阻层401，即完成具蓝色、绿色和红色三元色的滤光片制作。上述的传统彩色滤光片作法会有下述的缺点，首先在制作过程中，在每一次镀膜完成后，需将基板自真空镀膜机中取出，将光阻移除后，再放回至真空镀膜机中，继续下一镀膜流程。然而，当基板自真空镀膜机中取出后可能会被落尘污染，且若直接继续下一镀膜流程，会将污染物带入真空度膜机中造成污染。另一方面，上述的制作流程，需重复进行抽真空、破真空、升温以及降温等步骤，会增加制程时间，且光刻制程所可能形成的对准误差也不容忽视。
技术实现思路
因此，针对上述缺点，本专利技术的主要目的在于提出一种彩色滤光片制作方法，其并不需使用光阻，因此不需将基板自真空镀膜机中取出，以将光阻移除，可避免落尘污染。本专利技术的另一目的在于提供一种彩色滤光片制作方法，可以移动的单一遮罩代替光刻制程所需的光阻，故可消除光刻制程所可能形成的对准误差。本专利技术的又一目的在于提供一种彩色滤光片制作方法，不需因重复进行抽真空、破真空、升温以及降温等步骤，而增加制程时间。根据本专利技术的彩色滤光片制作方法，将遮罩与被镀基板一起置于真空镀膜机中，而遮罩介于被镀基板与靶材间，并将基板不欲镀到的部分挡住，而将欲镀的膜层镀于裸露的部分，当完成一镀膜程序后，可移动遮罩至下一定位点，裸露出另一需镀膜部分，并进行另一镀膜程序。本专利技术提供的一种彩色滤光片制造方法，该彩色滤光片至少包括一基板与多个薄膜，该方法至少包含下列步骤(a)放置该基板和一遮罩于一真空镀膜机中，其中该遮罩暴露出该基板部分表面；(b)使用该遮罩为罩幕，在该暴露的基板表面镀一薄膜层；(c)移动该遮罩使该基板暴露出该欲镀薄膜层的部分表面；以及重复(b)至(c)步骤至镀完该彩色滤光片多层薄膜。所述的彩色滤光片制造方法，其中该遮罩可以硅晶圆作为材料。所述的彩色滤光片制造方法，其中移动该遮罩可顺时钟旋转。所述的彩色滤光片制造方法，其中移动该遮罩可逆时钟旋转所述的彩色滤光片的制造方法，其中于该暴露的基板表面镀该薄膜层可使用溅镀的方法。所述的彩色滤光片的制造方法，其中于该暴露的基板表面镀该薄膜层可使用蒸镀的方法所述的彩色滤光片的制造方法，其中该薄膜层可为带通或带止光学滤光薄膜。所述的彩色滤光片的制造方法，其中该薄膜层可为高通或低通光学滤光薄膜。所述的彩色滤光片的制造方法，其中该薄膜层可为抗反射光学增透薄膜。所述的彩色滤光片的制造方法，其中该遮罩造成该基板上的该薄膜层由该遮罩的阴影效应所造成的区域宽度小于0.3毫米。所述的彩色滤光片的制造方法，其中该遮罩具有镂空部分并置于该基板表面上，以暴露出该基板部分表面，且该镂空部分的形状与滤光片的形状有关。通过本专利技术的方法，可避免传统在每一次镀膜完成后，需将基板自真空镀膜机中取出，所可能造成的落尘污染，同时本专利技术的方法不需重复进行抽真空、破真空、升温以及降温等步骤，因此可缩短制程时间，且不牵涉光刻制程，因此不会有对准误差的情况发生。附图简要说明下面结合附图，通过对本专利技术较佳实施例的详细描述，将使本专利技术的技术方案和有益效果显而易见。附图中，图1为具蓝色(B)、绿色(G)和红色(R)的滤光片；图2A至图2C所示为传统上利用光刻制程形成蓝色滤光片的概略图；图3A至图3C所示为传统上利用光刻制程形成绿色滤光片的概略图；图4A至图4C所示为传统上利用光刻制程形成红色滤光片的概略图；图5A所示为本专利技术所使用的镀膜机的坩锅、靶材、基板与遮罩概略装置图；图5B所示为遮罩与彩色滤光片基板间的部分放大图，w为遮罩所产生的阴影效应的宽度；图6A至图6C所示为本专利技术第一较佳实施例所使用遮罩的概略设计图；图6D所示为本专利技术第一较佳实施例所形成的具蓝色(B)、绿色(G)和红色(R)的彩色滤光片；图7A至图7C所示为本专利技术第二较佳实施例所使用遮罩的概略设计图；图7D所示为本专利技术第二较佳实施例所形成的具蓝色(B)、绿色(G)和红色(R)的彩色滤光片。具体实施例方式在不限制本专利技术的精神及应用范围之下，以下即以一实施例，介绍本专利技术的实施；熟悉此领域的技术人员，在了解本专利技术的精神后，当可应用本专利技术的彩色滤光片制作方法于各种不同的滤光片制作中。通过本专利技术的方法，可避免在每一次镀膜完成后，需将基板自真空镀膜机中取出，所可能造成的落尘污染，并避免重复进行抽真空、破真空、升温以及降温等步骤，因此可降低制程时间，且不牵涉光刻制程，因此不会有对准误差的情况发生。本专利技术的应用当不仅限于以下所述的较佳实施例。请参阅图5A所示，为本专利技术所使用的镀膜机的坩锅、靶材、基板与遮罩的概略装置图，本专利技术以遮罩501取代光阻，将遮罩501与彩色滤光片基板500一起放入真空镀膜机中，其中遮罩501位于被镀基板500与靶材503间，而坩锅502用以承载靶材503，而薄膜504为所镀的介电薄膜，其中介电薄膜可使用溅镀或蒸镀的方法形成。请参阅图5B所示，为遮罩501与彩色滤光片基板500间的部分放大图，其中遮罩501与彩色滤光片基板500间相隔一距离a，由于此距离a会造成薄膜504在靠近遮罩501的边缘地带某一区域宽度的薄膜厚度递减，此效应称为遮罩阴影效应，由于此区域宽度的薄膜厚度变小故其光学效应也会偏离设计的规格，故其大小应受控制，由遮罩阴影效应所造成的区域宽度w，一般小于0.3毫米(mm)，此遮罩501将基板500不欲镀到的部分挡住，并将基板500所欲镀膜的部分暴露出来，而将介电薄膜504镀于基板500上。当完成一镀膜程序后，此遮罩501可以移动至下一个定位点，而暴露出基板另一需镀膜的部分，并将不欲镀膜的部分挡住，以进行下一颜色的介电薄膜镀膜程序，上述的镀膜程序可重复进行至所有颜色的滤光片制作完成。其中本专利技术所使用的遮罩501，例如为以硅晶圆作为材料的遮罩。请参阅图6A至图6C所示，为本专利技术较佳实施例所使用遮罩的概略设计图。如图6A所示，遮罩60包括镂空部分20和遮盖部分10，其中镂空部分20是在镀膜过程中暴露出基板所欲镀膜的部分，而镀膜所需的介电膜层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光片制造方法，该彩色滤光片至少包括一基板与多个薄膜，该方法至少包含下列步骤：（ａ）放置该基板和一遮罩于一真空镀膜机中，其中该遮罩暴露出该基板部分表面；（ｂ）使用该遮罩为罩幕，在该暴露的基板表面镀一薄膜层；（ ｃ）移动该遮罩使该基板暴露出该欲镀薄膜层的部分表面；以及重复（ｂ）至（ｃ）步骤至镀完该彩色滤光片多层薄膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张绍雄，陆中玲，
申请(专利权)人：台达电子工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]